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Etude de la fiabilité porteurs chauds et des performances des ...

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tel-00117263, version 2 - 29 Jan 2007<br />

Introduction<br />

C<strong>et</strong>te idée sera reprise quelques mois plus tard par Robert NOYCE qui intégrant <strong>la</strong> technolo-<br />

gie p<strong>la</strong>nar m<strong>et</strong>tra au point <strong>de</strong>s procédés toujours utilisés aujourd’hui pour fabriquer les circuits<br />

intégrés. Les débuts <strong>de</strong> <strong>la</strong> micro-électronique mo<strong>de</strong>rne coïnci<strong>de</strong>nt avec <strong>la</strong> mise au point <strong>de</strong> <strong>la</strong><br />

technologie M<strong>et</strong>al-Oxi<strong>de</strong>-Semi-conducteur (MOS), en 1970. C<strong>et</strong>te technologie perm<strong>et</strong> <strong>de</strong> fa-<br />

briquer <strong>de</strong>s transistors plus p<strong>et</strong>its <strong>et</strong> plus rapi<strong>de</strong>s. Une course à <strong>la</strong> <strong>de</strong>nsité, à <strong>la</strong> vitesse <strong>et</strong> à <strong>la</strong><br />

consommation commence... On parle alors <strong>de</strong> SSI (Small Scale Integration) : 30 à 80 transis-<br />

tors, MSI (Medium Scale Integration) , LSI (Large Scale Integration) , VLSI (Very Large Scale<br />

Integration). C’est en 1971, que <strong>la</strong> compagnie Intel produit son premier microprocesseur, le<br />

i4004, dont <strong>la</strong> puissance est équivalente à celle <strong>de</strong> l’ENIAC. Un <strong>de</strong>s co-fondateurs <strong>de</strong> <strong>de</strong> c<strong>et</strong>te<br />

entreprise, Gordon Moore, prévoit dès 1965 que le nombre <strong>de</strong> transistors par circuit intégré dou-<br />

blera tous les <strong>de</strong>ux ans 2 . La loi est restée vérifiée jusqu’à <strong>la</strong> fin <strong>de</strong>s années 1970, pour tendre<br />

vers un doublement tous les 18 mois actuellement (Fig. 3).<br />

01<br />

T ran<br />

s is<br />

tors<br />

P er<br />

Die<br />

1 0<br />

109 108 107 106 105 104 103 102 101 100 MOS<br />

Complexité <strong>de</strong>s circuits intégrés<br />

1965<br />

A c tual<br />

Data<br />

A rra<br />

ys<br />

1975<br />

P roje<br />

c tion<br />

Memo ry<br />

Mic<br />

ropr<br />

oc<br />

es<br />

s or<br />

1K<br />

4K<br />

4004<br />

MOS<br />

16K<br />

8080<br />

4G<br />

1G<br />

2G<br />

L ogic<br />

1975<br />

A c tual<br />

Data<br />

256M<br />

512M<br />

128M<br />

64M<br />

Itanium<br />

<br />

P entium<br />

® 4<br />

16M<br />

4M<br />

P entium<br />

® III<br />

64K<br />

256K<br />

1M<br />

i486<br />

P entium<br />

® II<br />

P entium<br />

®<br />

<br />

Itanium<br />

8086<br />

80286<br />

S o<br />

u<br />

r<br />

ce :<br />

I<br />

n<br />

t<br />

e<br />

l<br />

i386<br />

montecito<br />

1960 1965 1970 1975 1980 1985 1990 1995 2000 2005 2010<br />

FIG. 3 – Illustration <strong>de</strong> <strong>la</strong> loi <strong>de</strong> Moore avec l’évolution du nombre <strong>de</strong> transistors dans les<br />

générations successives <strong>de</strong> processeurs Intel (http://www.intel.com).<br />

C<strong>et</strong>te croissance <strong>de</strong> <strong>la</strong> <strong>de</strong>nsité passe par un processus <strong>de</strong> miniaturisation <strong>de</strong>s dispositifs, qui<br />

tente <strong>de</strong> maintenir les caractéristiques électriques constantes. Plusieurs façons <strong>de</strong> procé<strong>de</strong>r ont<br />

2. G. E. Moore, “Cramming more components onto integrated circuits”, Electronics, Vol 38, No 8, April 19,<br />

1965.<br />

3

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