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Etude de la fiabilité porteurs chauds et des performances des ...

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tel-00117263, version 2 - 29 Jan 2007<br />

Chapitre III<br />

silicium-oxy<strong>de</strong> <strong>de</strong> silicium. L’énergie <strong>de</strong> ces électrons étant supérieure à <strong>la</strong> barrière <strong>de</strong> poten-<br />

tiel, <strong>la</strong> conduction est dite <strong>de</strong> type thermoïonique comme illustré sur <strong>la</strong> Fig. III.2 <strong>et</strong> le courant<br />

résultant s’exprime sous <strong>la</strong> forme <strong>de</strong> l’équation <strong>de</strong> Richardson-Schottky [9]:<br />

Jtherm = 4πqm∗ox h3 (kT ) 2 exp<br />

� � �<br />

−φb,e<br />

exp<br />

kT<br />

1<br />

kT<br />

� qEox<br />

4πɛox<br />

�<br />

(III.4)<br />

où h est <strong>la</strong> constante <strong>de</strong> P<strong>la</strong>nck, k est <strong>la</strong> constante <strong>de</strong> Boltzmann <strong>et</strong> m∗ OX est <strong>la</strong> masse effective<br />

<strong>de</strong>s électrons dans l’oxy<strong>de</strong>.<br />

qV<br />

Abaissement <strong>de</strong> <strong>la</strong><br />

hauteur <strong>de</strong> barrière<br />

Métal<br />

EFSp<br />

SiO2 p-Si<br />

∆φ b,e (Fox)<br />

FIG. III.2 – Illustration <strong>de</strong> l’injection Richarson-Schottky <strong>et</strong> <strong>de</strong> l’abaissement <strong>de</strong> <strong>la</strong> hauteur <strong>de</strong><br />

barrière (force image), pour les électrons dans <strong>la</strong> zone <strong>de</strong> charge d’espace proches du Drain.<br />

Le nombre d’électrons qui atteignent <strong>la</strong> Grille peut aussi être évalué par <strong>la</strong> probabilité Pinj<br />

pour les électrons du canal d’acquérir l’énergie nécessaire pour franchir <strong>la</strong> barrière :<br />

�<br />

Pinj ∝ exp − φb,e<br />

�<br />

qλeξm<br />

EFS<br />

(III.5)<br />

111

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