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tel-00117263, version 2 - 29 Jan 2007 Thierry DI GILIO A la vue de tous ces résultats croisés, il semble peu aisé de déterminer le moniteur le plus adéquat. Suivant le type de stress appliqué, il existe une fourchette dans laquelle s’inscrit la durée de vie, sa valeur dépendant alors du modèle de représentation choisi. Toutefois les moni- teurs en 1/VDS et IBS semblent universels vis à vis de plusieurs technologies ou de plusieurs dimensions au sein d’une même technologie. Ainsi pour étudier l’évolution de la durée de vie avec l’épaisseur de l’isolant de Grille, on trace (Fig. IV.16) les durées de vie des NMOS des technologies T1, T2 et T3 suivant V −1 DS . On observe que la durée de vie décroît avec la diminution de l’épaisseur de l’oxyde. Du plus épais au plus mince on trouve : 2 × 1011s et 3.8 × 109s et 6.5 × 10 7 s. Le même type de comparaison est faisable avec le courant Substrat comme moniteur, mais l’étude met en évidence une universalité des tracés de durée de vie vis-à-vis de IBS (Fig. IV.2). Par contre au sein d’une même génération, pour des longueurs différentes, les courants Substrat sont assez proches (Fig. IV.2). La dernière figure compare les durées de vie des transistors NMOS de la technologie T3 de longueur L = 0.1 − 0.13 − 0.2µm soumis aux stress IB (Fig. IV.17). Comme sur la Fig. IV.2, on observe que les transistors avec les Grilles les plus longues (au sein d’une technologie) ont les durées de vie les plus longues. 1 FIG. IV.16 – Comparaison des durées de vie en fonction de la tension de Drain des transistors NMOS des technologies T1, T2 et T3 soumis au stress HE. 210
tel-00117263, version 2 - 29 Jan 2007 Chapitre IV FIG. IV.17 – Comparaison des durées de vie exprimées en fonction de la tension de Drain des transistors PMOS de la technologie T3 (Leff = 0.1 − 0.13. − 0.2µm) soumis au stress IB. 211
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