10.02.2013 Views

Etude de la fiabilité porteurs chauds et des performances des ...

Etude de la fiabilité porteurs chauds et des performances des ...

Etude de la fiabilité porteurs chauds et des performances des ...

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

tel-00117263, version 2 - 29 Jan 2007<br />

IV.1.4 Equivalence pour les transistors PMOS<br />

a ) Durée <strong>de</strong> vie en fonction <strong>de</strong> IBS<br />

Chapitre IV<br />

L’ensemble <strong>de</strong>s expressions que nous venons d’établir sont appliquées au transistor NMOS,<br />

pour lequel a été développé le LEM. Pour transposer ces résultats au transistor PMOS, il faut<br />

reconsidérer l’analyse puisque les mécanismes <strong>de</strong> vieillissement sont différents.<br />

Les résultats <strong>de</strong> stress que nous avons présentés au chapitre précé<strong>de</strong>nt (III.2.2.b) ont mis en<br />

avant les spécificités du transistor PMOS vis à vis <strong>de</strong>s injections <strong>de</strong> <strong>porteurs</strong> <strong>chauds</strong>. Nous avons<br />

montré que le PMOS se voit fortement dégradé sous injection d’électrons <strong>chauds</strong> (au maximum<br />

du courant <strong>de</strong> Grille électronique). Il présente une forte charge négative piégée dans l’oxy<strong>de</strong><br />

<strong>de</strong> Grille [11], qui se traduit par une variation <strong>de</strong>s paramètres en logarithme du temps [12]. La<br />

nécessité <strong>de</strong> m<strong>et</strong>tre en p<strong>la</strong>ce <strong>de</strong> nouvelles méthodologies pour <strong>la</strong> détermination <strong>de</strong> <strong>la</strong> durée <strong>de</strong><br />

vie <strong>de</strong>s PMOS est renforcée par <strong>la</strong> multiplicité <strong>de</strong>s mécanismes qui peuvent intervenir dans le<br />

vieillissement <strong>de</strong> <strong>la</strong> structure : Nit, N − ot <strong>et</strong> N + ot [13].<br />

Cas HE Dans le cas <strong>de</strong> l’injection HE (maximum du courant <strong>de</strong> Grille électronique, à bas<br />

|VGS|), le mécanisme dominant pour les oxy<strong>de</strong>s épais est le piégeage <strong>de</strong> charges négatives dans<br />

<strong>la</strong> région du Drain, conduisant à une réduction <strong>de</strong> <strong>la</strong> longueur active du canal [14]. Dans ces<br />

conditions <strong>la</strong> structure est dans le mo<strong>de</strong> DAHE. L’analogie entre ce mécanisme <strong>et</strong> <strong>la</strong> dégrada-<br />

tion au maximum du courant substrat dans le PMOS nous perm<strong>et</strong> d’écrire <strong>la</strong> probabilité P pour<br />

un électron chaud d’être injecté <strong>et</strong> piégé dans l’oxy<strong>de</strong> [1]:<br />

P ∝ IBS exp<br />

� −φot,e<br />

qλeξm<br />

φot,e représente l’énergie minimale pour créer ou remplir un défaut d’oxy<strong>de</strong>. (IV.11) se trans-<br />

forme ainsi en :<br />

W<br />

τ = C3<br />

IBS<br />

�<br />

� �<br />

φot,e<br />

exp<br />

qλeξm<br />

(IV.17)<br />

Dans le PMOS le courant Substrat s’obtient par le produit du nombre <strong>de</strong> trous disponibles dans<br />

le canal (∝ IDS) <strong>et</strong> <strong>la</strong> probabilité d’ionisation par impact (∝ exp[−φi,h/(qλhξm)]) :<br />

189

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!