Dissertation
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76 4.4. Verifikation des Modells<br />
überstellung eines gemessenen und simulierten Talbotteppichs. Dabei wurde ein<br />
präzises Chromgittern auf Quarzglas mit δ = 0, 5 verwendet. Simulation und<br />
Experiment zeigen eine sehr gute Übereinstimmung.<br />
Messung<br />
Simulation<br />
Bild 4.26.: Talbotteppich eines Rechteckamplitudengitters. Direkter Vergleich<br />
Messung und Simulation.<br />
Um auch Rechteckgitter mit unterschiedlichen Tastverhältnissen und komplexere<br />
Gitter messen zu können, wurden Gitter auf der Basis von Folienmasken<br />
verwendet. Bild 4.27 zeigt in (a) und (b) Messung und Simulation eines Rechteckamplitudengitters<br />
mit einer Periode von 100 µm und einem Tastverhältnis<br />
des durchsichtigen Streifens zur Periode von 0,2. Für ein solches Gitter liegt<br />
der Talbotabstand bei 633 nm Wellenlänge bei 31,6 mm. Die Messlänge beträgt<br />
1,5 Talbotabstände. Ein Pixel im Bild entspricht ∆x=1,6 µm. In (c) und (d)<br />
sind Messung und Simulation für ein Gitter mit einer Gesamtperiode von 110 µm<br />
und Unterperioden von p 1 = 20 µm und p 2 = 80 µm dargestellt. Für ein solches<br />
Gitter ergibt sich ein Talbotabstand von 38,23 mm. Weitere Messungen mit<br />
Rechteckamplitudengittern unterschiedlicher Tastverhältnisse bestätigen das in<br />
Kapitel 4.1 vorgestellte Modell.<br />
4.4.2. Der Walk-off-Effekt<br />
In den bisherigen Betrachtungen wurde davon ausgegangen, dass das Gitter unendlich<br />
ausgedehnt ist. In der Praxis hat das Gitter oder der Laserstrahl jedoch<br />
einen begrenzten Durchmesser, den dann auch die Beugungsordnungen aufweisen.<br />
Durch die Aubreitung der höheren Ordnungen unter dem entsprechenden<br />
Beugungswinkel kommt zum sogenannten Walk-off-Effekt. Mit steigender Entfernung<br />
zum Gitter verschwinden die höheren Beugungsordnungen aus dem Beobachtungsbereich<br />
und werden nicht mehr mit der nullten Ordnung überlagert.<br />
Somit tragen sie auch nicht mehr zur Entstehung der Selbstabbildung bei. Mit<br />
zunehmendem Abstand der Bildebene zum Gitter nimmt folglich die Zahl der<br />
Beugungsordnungen ab, die das Interferenzmuster erzeugen. Falls z.B. bei einem<br />
Rechteckamplitudengitter nur noch die plus und minus erste mit der nullten