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Dissertation

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76 4.4. Verifikation des Modells<br />

überstellung eines gemessenen und simulierten Talbotteppichs. Dabei wurde ein<br />

präzises Chromgittern auf Quarzglas mit δ = 0, 5 verwendet. Simulation und<br />

Experiment zeigen eine sehr gute Übereinstimmung.<br />

Messung<br />

Simulation<br />

Bild 4.26.: Talbotteppich eines Rechteckamplitudengitters. Direkter Vergleich<br />

Messung und Simulation.<br />

Um auch Rechteckgitter mit unterschiedlichen Tastverhältnissen und komplexere<br />

Gitter messen zu können, wurden Gitter auf der Basis von Folienmasken<br />

verwendet. Bild 4.27 zeigt in (a) und (b) Messung und Simulation eines Rechteckamplitudengitters<br />

mit einer Periode von 100 µm und einem Tastverhältnis<br />

des durchsichtigen Streifens zur Periode von 0,2. Für ein solches Gitter liegt<br />

der Talbotabstand bei 633 nm Wellenlänge bei 31,6 mm. Die Messlänge beträgt<br />

1,5 Talbotabstände. Ein Pixel im Bild entspricht ∆x=1,6 µm. In (c) und (d)<br />

sind Messung und Simulation für ein Gitter mit einer Gesamtperiode von 110 µm<br />

und Unterperioden von p 1 = 20 µm und p 2 = 80 µm dargestellt. Für ein solches<br />

Gitter ergibt sich ein Talbotabstand von 38,23 mm. Weitere Messungen mit<br />

Rechteckamplitudengittern unterschiedlicher Tastverhältnisse bestätigen das in<br />

Kapitel 4.1 vorgestellte Modell.<br />

4.4.2. Der Walk-off-Effekt<br />

In den bisherigen Betrachtungen wurde davon ausgegangen, dass das Gitter unendlich<br />

ausgedehnt ist. In der Praxis hat das Gitter oder der Laserstrahl jedoch<br />

einen begrenzten Durchmesser, den dann auch die Beugungsordnungen aufweisen.<br />

Durch die Aubreitung der höheren Ordnungen unter dem entsprechenden<br />

Beugungswinkel kommt zum sogenannten Walk-off-Effekt. Mit steigender Entfernung<br />

zum Gitter verschwinden die höheren Beugungsordnungen aus dem Beobachtungsbereich<br />

und werden nicht mehr mit der nullten Ordnung überlagert.<br />

Somit tragen sie auch nicht mehr zur Entstehung der Selbstabbildung bei. Mit<br />

zunehmendem Abstand der Bildebene zum Gitter nimmt folglich die Zahl der<br />

Beugungsordnungen ab, die das Interferenzmuster erzeugen. Falls z.B. bei einem<br />

Rechteckamplitudengitter nur noch die plus und minus erste mit der nullten

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