Computertechnik mit Mikrocontrollern

KAPITEL 10. PLATINENLAYOUTS 105
Zeit. Außerdem muss der Abstand zwischen Lampe und Platine
größer sein als die Diagonale der Platine. Die Lichtquelle
darf den Fotolack nicht überhitzen.
Die einfache Belichtung mit Sonnenlicht hat den Nachteil,
dass Faktoren wie Luftfeuchtigkeit, Sonnenstand und Luftverschmutzung
die Lichtmenge beeinflussen. Trotzdem ist die
Methode praktikabel, da der Film auf den Platinen unkritisch
ist, verschiedene Belichtungen also zum Erfolg führen.
Zur Ermittlung der richtigen Belichtungszeit gehe man nach
folgender Methode aus dem Fotolabor vor:
Ein Teststreifen Platinenmaterial der Größe 2 cm × 10 cm herrichten
und mit dem Filzstift in 5 quadratische Felder unterteilen.
Mit Hilfe der obigen Angaben schätzt man die Belichtungszeit,
zum Beispiel 6 Minuten. Die Felder mit dem Viertel,
dem Halben, dem Ganzen, dem Doppelten und Vierfachen der
Zeit belichten, indem der Teststreifen während des Belichtens
zu 80, 60, 40, 20 und 0 % abdeckt. Zwischen Abdeckung und
Belichtungsmaske darf keine Glasscheibe gelegt werden, da
das Streulicht das Ergebnis verfälscht. Unser Beispiel könnten
wir ab 17:00 Uhr zu 80 % abdecken und belichten. Um
17:12 Uhr werden zwei Felder, um 17:18 Uhr drei Felder, um
17:21 Uhr vier Felder, um 17:22:30 Uhr der ganze Streifen bis
17:24 Uhr belichtet.
Statt Teststreifen kann man auch mehrere Versuche mit der
kleinen Oszillatorplatine des Experimentiersystems machen.
Woran man das richtig belichtete Feld erkennt, folgt in der
Beschreibung des Entwicklungsvorgangs: