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Computertechnik mit Mikrocontrollern

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KAPITEL 10. PLATINENLAYOUTS 109<br />

ca. 9 g 30 %ige Wasserstoffperoxidlösung<br />

und 18 g 32 %ige Salzsäure<br />

verbraucht. Da<strong>mit</strong> die Reaktionen einigermaßen schnell ablaufen,<br />

müssen in der Ätzlösung ca. das dreifache an Salzsäure<br />

und ca. das sechsfache Wasserstoffperoxid und reichlich Wasser<br />

vorhanden sein. Der Überschuß an Chemikalien ist der<br />

Tribut, den das einfache Verfahren fordert.<br />

Ein anderes verbreitetes Ätzverfahren <strong>mit</strong> Eisen-III-Clorid ...<br />

2 FeCl3 + Cu → 2 FeCl2 + CuCl2<br />

... hat den gravierenden Nachteil, dass es bei Zimmertemperatur<br />

sehr langsam ist (ca. 10 bis 20 Stunden). Das Erwärmen<br />

dieses Ätzbades auf ca. 45 Grad bedeutet aber einen erheblichen<br />

Umstand.<br />

10.3.6 Abschlussarbeiten<br />

Die Löcher bohren und alles entgraten. Mit einem Tuch und<br />

Aceton kann der Fotolack entfernt werden, da dieser das Löten<br />

behindert. Zum Schutz des Kupfers und als Flusshilfe beim<br />

Löten eine Mischung aus einem Teelöffel Aceton und etwas<br />

abgeschabtem Kolophonium über die Leiterbahnen streichen.<br />

Die Platine ist nun fertig zum Bestücken.

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