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Wechselwirkungen sehr langsamer hochgeladener Ionen mit einer ...

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5.5. Zusammenfassung und Schlußfolgerungen 109<br />

Mit wachsender Interaktionszeit des Ions vor dem Eintritt in den Kristall<br />

steigt der Besetzungsgrad innerer Schalen, was eine Aufweitung des MXY–<br />

Peaks zu niedrigen Energien hin zur Folge hat. LMM–Prozesse können vor<br />

der Oberfläche nur aus niedrigen M–Schalenbesetzungen heraus beobachtet<br />

werden, da die hohen LMM–Raten <strong>einer</strong> weitergehenden Auffüllung entgegenwirken.<br />

Abbildung 5.11: Sputtereffekt während <strong>einer</strong> Ar 9+ –Serie auf <strong>einer</strong> unpräparierten<br />

Targetoberfläche Der Einfallswinkel Θ beträgt 92 ◦ . Der Einschub zeigt das AES–<br />

Spektrum un<strong>mit</strong>telbar vor Beginn der Serie. Man erkennt SiO2, B, Ar, C, N und O–<br />

Verunreinigungen. Zwischen dem ersten und letzten Spektrum wurde die Oberfläche<br />

für insgesamt 7 Stunden einem 7nA–Ar 9+ –Beschuß ausgesetzt. Man stellt einen klaren<br />

Zeiteffekt fest, welcher wahrscheinlich durch das Freisputtern der Oberfläche <strong>mit</strong> Hilfe<br />

des <strong>Ionen</strong>strahls hervorgerufen wird. Der Effekt wurde aber noch nicht ausreichend<br />

studiert, um detailliertere Aussagen machen zu können. Die Spektren sind auf ihr<br />

Maximum normiert.<br />

Sobald die inneren Orbitale des Ions <strong>mit</strong> dem Vakuumschwanz des Valenzbandes<br />

überlappen, steht ein <strong>sehr</strong> effektiver Auffüllmechanismus für die M–<br />

Schale des Ions zur Verfügung. Der Einfluß des direkten Elektronentransfers<br />

von inneren Orbitalen der Festkörperatome in die M–Schale des Ions bei nahen<br />

Stößen ist wegen der niedrigen Kollisionsfrequenzen bei den gewählten

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