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Wechselwirkungen sehr langsamer hochgeladener Ionen mit einer ...

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18 2. Fundamentale <strong>Wechselwirkungen</strong><br />

H. Winter und C. Auth [45] maßen an einem unter streifendem Winkel <strong>mit</strong><br />

<strong>einer</strong> Energie von q·3,7keV auf eine Kristalloberfläche treffenden Strahl <strong>hochgeladener</strong><br />

<strong>Ionen</strong> die Abweichung des Streuwinkels der reflektierten Teilchen<br />

von dem im Falle spekularer Reflektion erwarteten Wert. Da der Neutralisationsprozeß<br />

im wesentlichen im Punkt der nächsten Annäherung an die<br />

Oberfläche abgeschlossen ist, spüren die reflektierten Atome im Gegensatz<br />

zu den einfallenden kein Bildladungspotential mehr. So<strong>mit</strong> gewinnt das einfallende<br />

Ion bis zu seinem Reflexionspunkt an Geschwindigkeit senkrecht zur<br />

Oberfläche und bewegt sich in der Nähe des Reflexionspunkts relativ zur<br />

ursprünglichen Strahlrichtung steiler auf die Oberfläche zu. Der beobachtete<br />

Austrittswinkel ΦS ist also größer als die spekularen Ein– und Ausfallswinkel<br />

Φin = Φout.<br />

Beide Experimente bestätigen die q 3/2 –Abhängigkeit des Bildladungspotentials<br />

sowohl für q ≤ 12 als auch bis hinauf zu Ladungszuständen q = 80.<br />

Bezüglich des Vorfaktors ergeben sich trotz der Einfachheit des zugrunde<br />

liegenden physikalischen Modells nur überraschend klein ausfallende Diskrepanzen.<br />

Eine Modellrechnung, welche den dynamischen Charakter der<br />

Wechselwirkung und Multielektrontransferprozesse <strong>mit</strong> einbezieht ist zum<br />

gegenwärtigen Zeitpunkt noch nicht durchführbar.<br />

Alle ionisierten Teilchen erfahren demnach vor der Oberfläche einen ladungsabhängigen<br />

Zuwachs in der Geschwindigkeitskomponente v⊥. Daraus resultiert<br />

eine prinzipielle Zeitbegrenzung für <strong>Wechselwirkungen</strong>, die vor dem Eindringen<br />

in den Kristall stattfinden.<br />

2.2.4 Gesamtpotential des Ions vor der Oberfläche<br />

Nachdem wir die beiden Potentiale kennengelernt haben, welche die Trajektorie<br />

des Ions vor der Oberfläche beeinflussen, wollen wir in diesem Abschnitt<br />

eine grobe Abschätzung für die minimale kinetische Energie des Ions Emin<br />

versuchen, welche für sein Eindringen in den Gitterverbund erforderlich ist.<br />

Dabei betrachten wir ein ursprünglich q0–fach geladenes Ion, welches sich <strong>mit</strong><br />

<strong>einer</strong> kinetischen Energie Ekin senkrecht auf einen Si–Kristall der Gitterkonstanten<br />

d = 5, 431˚A und Ordnungszahl Z = 14 zubewegt. Wir modellieren<br />

seinen Ladungszustand6 <strong>mit</strong> q(z) = q(z = Rc) · z−zim (s.a. Kap.2.3). Das<br />

Rc<br />

6 Wir benutzen q = q(z) für das Bildladungspotential, aber q = q0=const. für das

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