xxiii Ïανελληνιο ÏÏ Î½ÎµÎ´Ïιο ÏÏ ÏÎ¹ÎºÎ·Ï ÏÏεÏÎµÎ±Ï ÎºÎ±ÏαÏÏαÏÎ·Ï & εÏιÏÏÎ·Î¼Î·Ï ...
xxiii Ïανελληνιο ÏÏ Î½ÎµÎ´Ïιο ÏÏ ÏÎ¹ÎºÎ·Ï ÏÏεÏÎµÎ±Ï ÎºÎ±ÏαÏÏαÏÎ·Ï & εÏιÏÏÎ·Î¼Î·Ï ...
xxiii Ïανελληνιο ÏÏ Î½ÎµÎ´Ïιο ÏÏ ÏÎ¹ÎºÎ·Ï ÏÏεÏÎµÎ±Ï ÎºÎ±ÏαÏÏαÏÎ·Ï & εÏιÏÏÎ·Î¼Î·Ï ...
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
Ο λόγος των ταχυτήτων ανάπτυξης εξαρτάται από πολλούς παράγοντες όπως θερμοκρασία, pH, λόγος Zn/O. Η μεταβολή<br />
αυτών των παραμέτρων καθιστά δυνατή την παρασκευή νανοραβδίων διαφορετικής μορφολογίας. Στο Σχήμα 2α<br />
και 2β<br />
φαίνεται μία πλάγια όψη των<br />
νανοραβδίων που αναπτύσσονται<br />
σε διάλυμα περιεκτικότητας<br />
φορμαμιδίου 5% και 0.1%κ.ο<br />
θερμοκρασίας 65<br />
C αντίστοιχα. Η<br />
μείωση της περιεκτικότητας σε<br />
φορμαμίδιο έχει σαν αποτέλεσμα<br />
την μείωση του ρυθμού ανάπτυξης<br />
των νανοραβδίων (μήκος 1.2 μm<br />
και διάμετρος 40nm). Επίσης η<br />
μείωση του λόγου<br />
μήκους/διαμέτρου (l/d) από 40 σε<br />
30 που παρατηρείται αποδίδεται<br />
στη μείωση του λόγου Zn/O. Τα<br />
νανοραβδία που αναπτύσσονται σε<br />
διάλυμα<br />
περιεκτικότητας<br />
φορμαμιδίου 5% αλλά σε<br />
θερμοκρασία 50 ο C φαίνονται στο<br />
Σχήμα 2γ. Το μέσο μήκος τους<br />
είναι 2.2μm, το σχήμα τους είναι<br />
παρόμοιο με αυτό που αντιστοιχεί<br />
στην ανάπτυξη σε θερμοκρασία<br />
65οC, αλλά ο λόγος l/d είναι 22. Ο<br />
ρυθμός σχηματισμού συμπλόκων<br />
Σχήμα 2. Νανοραβδία ZnO αναπτυγμένα σε (α) 5% διάλυμα στους 65 o C, (β) 0.1%<br />
ψευδαργύρου-φορμαμιδίου<br />
διάλυμα στους 65 o C, (γ) 5% διάλυμα στους 50 o C, και (δ) 5% διάλυμα σε RT.<br />
εξαρτάται εκθετικά από την<br />
θερμοκρασία και κατά συνέπεια η<br />
συγκέντρωση Zn είναι μικρότερη, οπότε η μείωση του λόγου Zn/O έχει σαν αποτέλεσμα την ελάττωση του λόγου l/d.<br />
Επιτεύχθηκε η ανάπτυξη νανοραβδίων ακόμη και σε θερμοκρασία δωματίου, όπως φαίνεται στο Σχήμα 2δ. Η μελέτη των<br />
νανοραβδίων με ΤΕΜ έδειξε ότι είναι μονοκρυσταλλικά άν και έχουν αυξημένη τραχύτητα στην παράπλευρη επιφάνειά τους<br />
και λόγο l/d~10 λόγω της χαμηλής θερμοκρασίας ανάπτυξης. Απ’ όσο γνωρίζουμε, είναι η πρώτη φορά που επιτυγχάνεται<br />
ανάπτυξη νανοραβδίων επάνω σε υπόστρωμα σε θερμοκρασία δωματίου χωρίς περαιτέρω ανοπτήσεις σε υψηλότερς<br />
θερμοκρασίες.<br />
Τέλος μελετήθηκε η φωτοφωταύγεια των<br />
νανοραβδίων σε θερμοκρασία δωματίου. Στο Σχήμα 3<br />
120<br />
παρουσιάζονται τα φάσματα που των νανοραβδίων που<br />
αναπτύχθηκαν σε δ ιάλυμα περιεκτικότητας<br />
100<br />
80<br />
60<br />
40<br />
65 o C<br />
RT<br />
φορμαμιδίου 5% σε θερμοκρασία 65<br />
C και σε RT.<br />
Φάσματα αντίστοιχα με το πρώτο λήφθηκαν και από τα<br />
υπόλοιπα δείγματα. Όπως φαίνεται στο Σχήμα 3 το<br />
φάσμα παρουσιάζει μία έντονη κορυφή στα 378nm με<br />
εύρος FWHM 120meV, η οποία αποδίδεται σε<br />
εξιτονική εκπομπή [7], ενώ δεν εμφανίζεται εκπομπή<br />
στο ορατό φάσμα η οποία συνήθως αποδίδεται σε<br />
σημειακές ατέλειες [8]. Το στενό εύρος της κορυφής<br />
20<br />
x2<br />
καθώς και η μή ανίχνευση ορατής εκπομπής<br />
αποδεικνύουν την πολύ καλή οπτική ποιότητα των<br />
0<br />
παραγόμενων νανοραβδίων που σημειωτέον<br />
400 500 600 700<br />
επιτυγχάνεται χωρίς περαιτέρω ανοπτήσεις. Το φάσμα<br />
(nm)<br />
Wavelength δωματίου παρουσιάζει ασθενέστερη εξιτονική κορυφή<br />
των νανοραβδίων που αναπτύχθηκαν σε θερμοκρασία<br />
με εύρος 170meV και μία ασθενή φαρδιά κορυφή στο<br />
Σχήμα 3. Φάσματα φωτοφωταύγειας νανοραβδίων<br />
ορατό που αποδίδεται σε σημειακές ατέλειες λόγω της<br />
αναπτυγμένων στους 65οC και σε RT.<br />
χαμηλής θερμοκρασίας ανάπτυξης των νανοραβδίων.<br />
Intensity (a.u.)<br />
[1] Xia Y, Yang P, Sun Y, Wu Y, Mayers B, Gates B, Yin Y, Kim F and Yan H Adv. Mater. 15 (2003) 353<br />
[2] Huang M H, Mao S, Feick H, Yan H, Wu Y, Kind H, Weber E, Russo R and Yang P Science 292 (2001) 1897<br />
[3] Hartanto A B, Ning X, Nakata Y and Okada T Appl. Phys. A 78 (2003) 299.<br />
[4] Park W I, Yi G C, Kim M and Pennycook S Adv. Mater. 14 (2002) 1841<br />
[5] Tian Z R, Voigt J, Liu J, Mckenzie B, Mcdermott M, Rodriguez M, Konishi H and Xu H Nature Mater. 2 (2003) 821<br />
[6] Li W J, Shi E W, Zhong W Z and Yin Z W J. Crystal Growth 203 (1999) 186<br />
[7] Oezguer U, Alivov Y, Liu C, Teke A, Reshchikov M, Dogan S, and Morkoc H J. Appl. Phys. 98 (2005) 041301<br />
[8] Djurisic A and Leung Y H Small 2 (2006) 944<br />
7