23.11.2014 Views

xxiii πανελληνιο συνεδριο φυσικης στερεας καταστασης & επιστημης ...

xxiii πανελληνιο συνεδριο φυσικης στερεας καταστασης & επιστημης ...

xxiii πανελληνιο συνεδριο φυσικης στερεας καταστασης & επιστημης ...

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

Ο λόγος των ταχυτήτων ανάπτυξης εξαρτάται από πολλούς παράγοντες όπως θερμοκρασία, pH, λόγος Zn/O. Η μεταβολή<br />

αυτών των παραμέτρων καθιστά δυνατή την παρασκευή νανοραβδίων διαφορετικής μορφολογίας. Στο Σχήμα 2α<br />

και 2β<br />

φαίνεται μία πλάγια όψη των<br />

νανοραβδίων που αναπτύσσονται<br />

σε διάλυμα περιεκτικότητας<br />

φορμαμιδίου 5% και 0.1%κ.ο<br />

θερμοκρασίας 65<br />

C αντίστοιχα. Η<br />

μείωση της περιεκτικότητας σε<br />

φορμαμίδιο έχει σαν αποτέλεσμα<br />

την μείωση του ρυθμού ανάπτυξης<br />

των νανοραβδίων (μήκος 1.2 μm<br />

και διάμετρος 40nm). Επίσης η<br />

μείωση του λόγου<br />

μήκους/διαμέτρου (l/d) από 40 σε<br />

30 που παρατηρείται αποδίδεται<br />

στη μείωση του λόγου Zn/O. Τα<br />

νανοραβδία που αναπτύσσονται σε<br />

διάλυμα<br />

περιεκτικότητας<br />

φορμαμιδίου 5% αλλά σε<br />

θερμοκρασία 50 ο C φαίνονται στο<br />

Σχήμα 2γ. Το μέσο μήκος τους<br />

είναι 2.2μm, το σχήμα τους είναι<br />

παρόμοιο με αυτό που αντιστοιχεί<br />

στην ανάπτυξη σε θερμοκρασία<br />

65οC, αλλά ο λόγος l/d είναι 22. Ο<br />

ρυθμός σχηματισμού συμπλόκων<br />

Σχήμα 2. Νανοραβδία ZnO αναπτυγμένα σε (α) 5% διάλυμα στους 65 o C, (β) 0.1%<br />

ψευδαργύρου-φορμαμιδίου<br />

διάλυμα στους 65 o C, (γ) 5% διάλυμα στους 50 o C, και (δ) 5% διάλυμα σε RT.<br />

εξαρτάται εκθετικά από την<br />

θερμοκρασία και κατά συνέπεια η<br />

συγκέντρωση Zn είναι μικρότερη, οπότε η μείωση του λόγου Zn/O έχει σαν αποτέλεσμα την ελάττωση του λόγου l/d.<br />

Επιτεύχθηκε η ανάπτυξη νανοραβδίων ακόμη και σε θερμοκρασία δωματίου, όπως φαίνεται στο Σχήμα 2δ. Η μελέτη των<br />

νανοραβδίων με ΤΕΜ έδειξε ότι είναι μονοκρυσταλλικά άν και έχουν αυξημένη τραχύτητα στην παράπλευρη επιφάνειά τους<br />

και λόγο l/d~10 λόγω της χαμηλής θερμοκρασίας ανάπτυξης. Απ’ όσο γνωρίζουμε, είναι η πρώτη φορά που επιτυγχάνεται<br />

ανάπτυξη νανοραβδίων επάνω σε υπόστρωμα σε θερμοκρασία δωματίου χωρίς περαιτέρω ανοπτήσεις σε υψηλότερς<br />

θερμοκρασίες.<br />

Τέλος μελετήθηκε η φωτοφωταύγεια των<br />

νανοραβδίων σε θερμοκρασία δωματίου. Στο Σχήμα 3<br />

120<br />

παρουσιάζονται τα φάσματα που των νανοραβδίων που<br />

αναπτύχθηκαν σε δ ιάλυμα περιεκτικότητας<br />

100<br />

80<br />

60<br />

40<br />

65 o C<br />

RT<br />

φορμαμιδίου 5% σε θερμοκρασία 65<br />

C και σε RT.<br />

Φάσματα αντίστοιχα με το πρώτο λήφθηκαν και από τα<br />

υπόλοιπα δείγματα. Όπως φαίνεται στο Σχήμα 3 το<br />

φάσμα παρουσιάζει μία έντονη κορυφή στα 378nm με<br />

εύρος FWHM 120meV, η οποία αποδίδεται σε<br />

εξιτονική εκπομπή [7], ενώ δεν εμφανίζεται εκπομπή<br />

στο ορατό φάσμα η οποία συνήθως αποδίδεται σε<br />

σημειακές ατέλειες [8]. Το στενό εύρος της κορυφής<br />

20<br />

x2<br />

καθώς και η μή ανίχνευση ορατής εκπομπής<br />

αποδεικνύουν την πολύ καλή οπτική ποιότητα των<br />

0<br />

παραγόμενων νανοραβδίων που σημειωτέον<br />

400 500 600 700<br />

επιτυγχάνεται χωρίς περαιτέρω ανοπτήσεις. Το φάσμα<br />

(nm)<br />

Wavelength δωματίου παρουσιάζει ασθενέστερη εξιτονική κορυφή<br />

των νανοραβδίων που αναπτύχθηκαν σε θερμοκρασία<br />

με εύρος 170meV και μία ασθενή φαρδιά κορυφή στο<br />

Σχήμα 3. Φάσματα φωτοφωταύγειας νανοραβδίων<br />

ορατό που αποδίδεται σε σημειακές ατέλειες λόγω της<br />

αναπτυγμένων στους 65οC και σε RT.<br />

χαμηλής θερμοκρασίας ανάπτυξης των νανοραβδίων.<br />

Intensity (a.u.)<br />

[1] Xia Y, Yang P, Sun Y, Wu Y, Mayers B, Gates B, Yin Y, Kim F and Yan H Adv. Mater. 15 (2003) 353<br />

[2] Huang M H, Mao S, Feick H, Yan H, Wu Y, Kind H, Weber E, Russo R and Yang P Science 292 (2001) 1897<br />

[3] Hartanto A B, Ning X, Nakata Y and Okada T Appl. Phys. A 78 (2003) 299.<br />

[4] Park W I, Yi G C, Kim M and Pennycook S Adv. Mater. 14 (2002) 1841<br />

[5] Tian Z R, Voigt J, Liu J, Mckenzie B, Mcdermott M, Rodriguez M, Konishi H and Xu H Nature Mater. 2 (2003) 821<br />

[6] Li W J, Shi E W, Zhong W Z and Yin Z W J. Crystal Growth 203 (1999) 186<br />

[7] Oezguer U, Alivov Y, Liu C, Teke A, Reshchikov M, Dogan S, and Morkoc H J. Appl. Phys. 98 (2005) 041301<br />

[8] Djurisic A and Leung Y H Small 2 (2006) 944<br />

7

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!