xxiii Ïανελληνιο ÏÏ Î½ÎµÎ´Ïιο ÏÏ ÏÎ¹ÎºÎ·Ï ÏÏεÏÎµÎ±Ï ÎºÎ±ÏαÏÏαÏÎ·Ï & εÏιÏÏÎ·Î¼Î·Ï ...
xxiii Ïανελληνιο ÏÏ Î½ÎµÎ´Ïιο ÏÏ ÏÎ¹ÎºÎ·Ï ÏÏεÏÎµÎ±Ï ÎºÎ±ÏαÏÏαÏÎ·Ï & εÏιÏÏÎ·Î¼Î·Ï ...
xxiii Ïανελληνιο ÏÏ Î½ÎµÎ´Ïιο ÏÏ ÏÎ¹ÎºÎ·Ï ÏÏεÏÎµÎ±Ï ÎºÎ±ÏαÏÏαÏÎ·Ï & εÏιÏÏÎ·Î¼Î·Ï ...
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
Τεχνολογία Ανάπτυξης Διατεταγμένων Δομών στο Si για Φωτονικές Εφαρμογές Μέσω<br />
Λεπτών Υμενίων Αυτο-οργανούμενης Πορώδους Αλουμίνας<br />
Ζαχαράτος Φ. * , Γιαννέτα Β. και Νασιοπούλου Α. Γ.<br />
Ινστιτούτο Μικροηλεκτρονικής, ΕΚΕΦΕ «Δημόκριτος», Αγ. Παρασκευή 15310 Αθήνα<br />
*fzacharat@imel.demokritos.gr<br />
Οι φωτονικοί κρύσταλλοι αποτελούν αντικείμενο έντονης ερευνητικής δραστηριότητας τα τελευταία χρόνια, με πληθώρα<br />
εφαρμογών σε φίλτρα, κυματοδηγούς και άλλα. Για την παρασκευή τους απαιτείται ακριβής αποτύπωση σχεδίου στο<br />
αντίστοιχο υλικό, σε μια, δύο ή τρεις διαστάσεις. Στην παρούσα εργασία αναπτύχθηκε τεχνολογία κατασκευής κατακόρυφων<br />
πόρων σε υπόστρωμα πυριτίου, διατεταγμένων σε διδιάστατο εξαγωνικό πλέγμα, χρησιμοποιώντας ως μάσκα για την<br />
εγχάραξη αυτο-οργανούμενα υμένια πορώδους αλουμίνας, που αναπτύσσονται στο πυρίτιο με ηλεκτροχημική οξείδωση<br />
αλουμινίου [1]. Η διάμετρος και η πυκνότητα των πόρων εξαρτώνται από τις ηλεκτροχημικές διεργασίες. Τόσο η πορώδης<br />
αλουμίνα όσο και οι φωτονικές δομές στο πυρίτιο μπορούν να παρασκευαστούν τοπικά σε προ-επιλεγμένες επιφάνειες στο<br />
Si μέσω σχηματοποίησης του λεπτού υμενίου Al. Η διεργασία αυτή αναπαρίσταται στο σχήμα 1.<br />
1. Γενικά περί μακροπορώδους πυριτίου.<br />
Το μακροπορώδες πυρίτιο σχηματίζεται με ηλεκτροχημική διάλυση πυριτίου παρουσία ηλεκτρολύτη περιέχοντα<br />
υδροφθόριο [2]. Η θεωρητική ανάλυση της διεργασίας αυτής θα παρουσιαστεί στο συνέδριο. Οι πόροι που προκύπτουν με<br />
αυτή τη διαδικασία έχουν μέση διάμετρο 1μm και είναι διατεταγμένοι κατακόρυφα ως προς το υπόστρωμα. Το μήκος τους<br />
μπορεί να φτάνει έως αρκετές εκατοντάδες μικρόμετρα. Επιπλέον, η κατανομή τους στην επιφάνεια είναι τυχαία και η<br />
διασπορά της διαμέτρου τους μεγάλη (σχήμα 2). Ωστόσο, έχει παρατηρηθεί ότι με κατάλληλη επιφανειακή προεργασία είναι<br />
δυνατόν να παρασκευαστούν προτιμητέα σημεία έναρξης της ηλεκτροχημικής διάλυσης, στα οποία συνεπώς θα<br />
αναπτυχθούν οι μακρο-πόροι [3]. Αν τα σημεία αυτά σχεδιαστούν με φωτολιθογραφία κι εγχάραξη σύμφωνα με κάποια<br />
συγκεκριμένη γεωμετρία, τότε οι προκύπτοντες μακροπόροι θα ακολουθούν καθορισμένη διάταξη και θα έχουν απόλυτα<br />
ομοιόμορφη διάμετρο (σχήμα 3). Το μέγεθός τους σε αυτή την περίπτωση θα κυμαίνεται μεταξύ 2-8μm και κατά συνέπεια η<br />
επιφανειακή πυκνότητα πόρων σε ένα τέτοιο δείγμα θα λαμβάνει τιμές μεταξύ 10 7 -10 8 πόροι/cm 2 . Παρά την επιτυχία αυτής<br />
της τεχνικής όσον αφορά στην κατανομή και την ομοιομορφία των πόρων, η παρασκευή μακροπόρων μικρότερων<br />
διαστάσεων απαιτεί την υιοθέτηση λιθογραφικών τεχνικών υψηλής διακριτικής ικανότητας (EUV lithography, e-beam<br />
lithography), οι οποίες είναι χρονοβόρες και υψηλού κόστους. Στην εργασία αυτή αναπτύχθηκε μια πρωτοποριακή μέθοδος<br />
για την ανάπτυξη μακροπόρων μέσης διαμέτρου 300nm με εξαγωνική διάταξη, η οποία συνίσταται σε δύο στάδια τα όπως<br />
περιγράφονται κατωτέρω.<br />
α) Σχηματοποίηση της επιφάνειας υποστρωμάτων πυριτίου με χημική ή ηλεκτροχημική εγχάραξη μέσω μάσκας από<br />
λεπτό υμένιο πορώδους αλουμίνας.<br />
Αρχικά εναποτέθηκε στο υπόστρωμα υμένιο αλουμινίου το οποίο μετατράπηκε με ηλεκτροχημική διεργασία σε<br />
πορώδη αλουμίνα. Οι πειραματικές συνθήκες ρυθμίστηκαν έτσι ώστε να προκύψουν πόροι διαστάσεων 150nm κατακόρυφοι<br />
ως προς το υπόστρωμα (υδατικό διάλυμα οξαλικού οξέος 5% κ.β. σταθερή τάση 40Volts). Η απόσταση μεταξύ των πόρων<br />
είναι τριπλάσια της διαμέτρου τους και είναι διατεταγμένοι σε συστοιχίες που ακολουθούν εξαγωνική συμμετρία (σχήμα 4).<br />
Η μεμβράνη της πορώδους αλουμίνας είναι δυνατόν να λειτουργήσει ως μάσκα που θα διοχετεύσει επιλεκτικά διάφορα<br />
διαλύματα, υπό κατάλληλες προυποθέσεις. Στην υπό μελέτη περίπτωση σημαντικό ρόλο διαδραματίζει η χημική<br />
ανθεκτικότητα της αλουμίνας στα υδατικά διαλύματα TMAH (tetramethylammoniumhydroxide) και HF. Η αλουμίνα είναι<br />
γενικά χημικά αδρανές υλικό ωστόσο επειδή τα διαλύματα που χρησιμοποιήθηκαν για εγχάραξη είναι ιδιαίτερα δραστικά, η<br />
διάρκεια της διαδικασίας είχε χρονικό περιορισμό. Αρχικά χρησιμοποιήθηκε υδατικό διάλυμα TMAH 25% στους 70 o C. Το<br />
συγκεκριμένο διάλυμα είναι από τα πιο δημοφιλή για εγχάραξη πυριτίου και παρουσιάζει ανισοτροπική δράση με<br />
προτιμητέα διεύθυνση την (111). Επετεύχθη ο σχηματισμός ανεστραμμένων πυραμίδων διαστάσεων 200nm πυκνά<br />
διατεταγμένων σύμφωνα με την εξαγωνική συμμετρία της πορώδους αλουμίνας. Για την αρχική σχηματοποίηση του Si<br />
χρησιμοποιήθηκε ηλεκτρολυτική εγχάραξη με υδατικά διαλύματα περιέχοντα υδροφθόριο. Χρησιμοποιήθηκαν διάφορες<br />
πειραματικές συνθήκες και οι προκύπτουσες δομές ποίκιλαν ως προς την πυκνότητα και την ομοιομορφία. Σε γενικές<br />
γραμμές εν τούτοις, παρουσίαζαν ημισφαιρικό σχήμα, είχαν διάμετρο από 150-400nm και η διάταξή τους είχε εμφανείς<br />
επιρροές από την αρχική μάσκα αλουμίνας. Με τη βελτιστοποίηση των ηλεκτροχημικών συνθηκών επετεύχθη η παρασκευή<br />
δομών με εξαγωνική διάταξη, μεγάλη ομοιογένεια και επιφανειακή πυκνότητα της τάξης του 2x10 9 πόροι/cm 2 .<br />
β) Ανάπτυξη μακροπόρων διαμέσου των σχηματοποιημένων επιφανειών.<br />
Μετά την ολοκλήρωση της σχηματοποίησης η εναπομείνασα αλουμίνα απομακρύνθηκε με χημική εγχάραξη. Τα<br />
δείγματα τοποθετήθηκαν σε ηλεκτρολυτική κυψελίδα και ακολούθησε ανοδίωση σε διάλυμα HF:H 2 O:DMF με σταθερή<br />
πυκνότητα ρεύματος J=20mA/cm 2 . To μήκος των πόρων είναι ανάλογο με τη διάρκεια της ηλεκτροχημικής διεργασίας,<br />
ωστόσο όσο αυτό αυξάνει, τόσο η πορώδης μεμβράνη καθίσταται πιο εύθραυστη. Αρχικά η ανάπτυξη των μακροπόρων έχει<br />
ισοτροπικό χαρακτήρα αλλά σύντομα η διάμετρός τους λαμβάνει την τελική της τιμή καθώς οι αμοιβαίες απωστικές<br />
δυνάμεις των τοιχωμάτων έρχονται σε ισορροπία. Ακολούθως η ανάπτυξη συνεχίζεται σε διέυθυνση κατακόρυφη του<br />
υποστρώματος. Παρασκευάστηκαν πόροι διαμέτρου 300nm και μήκους 9μm (σχήμα 5). Η απόσταση μεταξύ των πόρων έχει<br />
ελαττωθεί σε σχέση με το συμβατικό μακροπορώδες πυρίτιο και είναι ίση με τη διάμετρό τους. Οι πόροι είναι διατεταγμένοι<br />
σε συστοιχίες με εξαγωνική συμμετρία (όπως η αρχική μάσκα) και παρουσιάζουν ομοιομορφία όσον αφορά στο σχήμα και<br />
στο μέγεθος (σχήμα 6). Η επιφανειακή τους πυκνότητα είναι αυξημένη σε σχέση με το συμβατικό μακροπορώδες πυρίτιο<br />
κατά μία τάξη μεγέθους. Τα δείγματα χαρακτηρίστηκαν με ηλεκτρονική μικροσκοπία σάρωσης, όπως διαφαίνεται στις<br />
μικρογραφίες που ακολουθούν (σχήματα 2-7).<br />
36