xxiii Ïανελληνιο ÏÏ Î½ÎµÎ´Ïιο ÏÏ ÏÎ¹ÎºÎ·Ï ÏÏεÏÎµÎ±Ï ÎºÎ±ÏαÏÏαÏÎ·Ï & εÏιÏÏÎ·Î¼Î·Ï ...
xxiii Ïανελληνιο ÏÏ Î½ÎµÎ´Ïιο ÏÏ ÏÎ¹ÎºÎ·Ï ÏÏεÏÎµÎ±Ï ÎºÎ±ÏαÏÏαÏÎ·Ï & εÏιÏÏÎ·Î¼Î·Ï ...
xxiii Ïανελληνιο ÏÏ Î½ÎµÎ´Ïιο ÏÏ ÏÎ¹ÎºÎ·Ï ÏÏεÏÎµÎ±Ï ÎºÎ±ÏαÏÏαÏÎ·Ï & εÏιÏÏÎ·Î¼Î·Ï ...
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
Σχήμα 2: Εκθετική εξάρτηση της υποκατώφλιας κλίσης σε<br />
«overlapped» υμένια<br />
Σχήμα 3: Ευκινησία συναρτήσει της θερμοκρασίας<br />
⎛ k ⎞ ⎛ qdN<br />
A = ⎜ ⎟ln10<br />
⎜1<br />
+<br />
⎝ q ⎠ ⎝ Cox<br />
T<br />
⎞<br />
⎟<br />
⎠<br />
1<br />
(2)<br />
Όπου d είναι το πάχος του πολυκρυσταλλικού υμενίου και C ox η χωριτικότητα του οξειδίου της πύλης [6].<br />
Ο εκθετικός όρος οφείλεται στους θερμικά δημιουργούμενους φορείς, διαμέσου των καταστάσεων του χάσματος, για το<br />
λόγο αυτό η ενέργεια ενεργοποίησης αποτελεί ένα μέτρο της κατανομής των καταστάσεων στο ενεργειακό χάσμα [2].<br />
A 1 ~N T (V/Dec) E (eV)<br />
overlapped-X 0.00025 0.30<br />
overlapped-Y 0.0007 0.30<br />
Single-shot-X 0.0003 0.38<br />
Single-shot-Y 0.0015 0.38<br />
Πίνακας 1: Παράμετροι που προκύπτουν από τη διαδικασία προσαρμογής της εξ.1 στην υποκατώφλια κλίση<br />
Ίδιες ενέργειες ενεργοποίησης υπολογίζονται στις διατάξεις που είναι κατασκευασμένες σε υμένια ίδιας τεχνολογίας,<br />
ανεξάρτητα από το προσανατολισμό του καναλιού, ενώ οι τιμές που προκύπτουν υποδηλώνουν τη συνεισφορά ελαφρώς<br />
βαθύτερων καταστάσεων στη περίπτωση των «overlapped» υμενίων (πίνακας 1). Όσον αφορά τις διατάξεις αυτές, αν και<br />
κατά το προσανατολισμό Χ επιτυγχάνεται ελαφρώς μεγαλύτερη ευκινησία (σχήμα 3) και υπολογίζεται ελαφρώς μικρότερη<br />
συγκέντρωση ατελειών (Α 1 -πινακας 1), εν τούτης επιτυγχάνεται ικανοποιητική ομοιογένεια των ηλεκτρικών ιδιοτήτων<br />
ανεξάρτητα από τον προσανατολισμό του καναλιού της διάταξης. Αντίθετα στα «1-shot» υμένια η διεύθυνση Χ εμφανίζει<br />
υψηλότερες επιδόσεις. Η ευκινησία που επιγχάνεται κατά τη διεύθυνση αυτή είναι περίπου τριπλάσια από αυτή στη<br />
διεύθυνση Υ, ενώ η υπολογιζόμενη συγκέντρωση ατελειών σημαντικά μικρότερη. Η συμπεριφορά αυτή αποδίδεται στην<br />
απουσία (Χ)/ παρουσία (Υ), φραγμών δυναμικού κάθετα στη διεύθυνση αγωγιμότητας. Τέλος συγκρίνοντας τις δυο<br />
τεχνολογίες προκύπτει πως και στις δυο περιπτώσεις ο προσανατολισμός Χ είναι προτιμητέος. Εν τούτης τα ηλεκτρικά<br />
χαρακτηριστικά των διατάξεων σε «overlapped» υμένια εμφανίζουν μεγάλη ομοιογένεια, για τις διαφορετικές διευθύνσεις<br />
του καναλίου, ενώ με τη τεχνολογία «1-shot» επιτυγχάνεται η μέγιστη ευκινησία κατά τα τη διεύθυνση Χ.<br />
[1] R.S. Sposili et. al., Appl. Phys. Lett. 69 (1996) 2864<br />
[2] L. Michalas et.al. Microel. Reliab. (in press)<br />
[3] A.T. Voutsas, IEEE Trans. Electron Dev., ED-50 (2003) 1494<br />
[4] M.A. Crowder et.al. Thin Solid Films, 427 (2003) 101.<br />
[5] S.M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, N.Y. Willey & Sons. 1981<br />
[6] T.Noguchi, Jpn. J. Appl. Phys., 32, (1993) 1584<br />
Η παρούσα εργασία πραγματοποιείται στο πλαίσιο του προγράμματος ΠΕΝΕΔ: 3ΕΔ550 της ΓΓΕΤ.<br />
73