(Cd,Mn)Te - Instytut Fizyki PAN

We wszystkich trzech przypadkach można zauważyć, że w obszarze „dziury”jest nadmiar Cd (kadmu), pochodzącego od podłoża (Cd,Mn)Te. Natomiast brak jestdomieszki (Sb) która występuje w warstwie amorficznej ZnTe:Sb. Można takżezauważyć, że wielkość dziur rośnie wraz z grubością warstwy amorficznej. Natomiastczęstość ich występowania maleje ze wzrostem jej grubości. Na podstawie tychobserwacji możemy wnioskować, że najlepsza grubość amorficznych warstw jakokontaktów elektrycznych będzie około 200-400 nm.W celu sprawdzenia jak działają warstwy amorficzne jako kontakty o różnychgrubościach, wykonane zostały serie charakterystyk I-V (przede wszystkim pomiar2 sondowy). Testy wykonane zostały zarówno na materiale wysokooporowym(rys. 5.3.1.3) jak i niskooporowym (rys. 5.3.1.4).Rysunek 5.3.1.3 A. Charakterystyka I-V dlajednej (nr 4620-5) wysokooporowej płytki ztrzema amorficznymi warstwami kontaktowymiCdTe:In (wykonanymi w kolejnych procesachnapylania po usunięciu poprzedniej). Warstwy oróżnej grubości 30 nm, 300 nm i 1 μm.Rysunek 5.3.1.3 B. Charakterystyka I-V dlajednej (nr 4528-5) wysokooporowej płytki ztrzema amorficznymi warstwami kontaktowymiZnTe:Sb (wykonanymi w kolejnych procesachnapylania po usunięciu poprzedniej). Warstwy oróżnej grubości 100 nm, 300 nm i 1 μm.Charakterystyki I-V wykonane dla materiału wysokooporowego niezależnie odnanoszonej grubości kontaktowej warstwy amorficznej w całym zakresie przykładanegonapięcia były liniowe (rys. 5.3.1.3 A i B).Inaczej wygląda to dla materiału o niskim oporze właściwym (rys. 5.3.1.4) gdziecharakterystyka jest silnie nieliniowa i zmienia się wraz ze zmianą grubości.Zaobserwowano również, że dla materiałów o oporze rzędu 10 2 – 10 4 Ωcm niezależnieod grubości warstwy amorficznej jako kontaktu występowały silnie nieliniowecharakterystyki I-V.135