(Cd,Mn)Te - Instytut Fizyki PAN
(Cd,Mn)Te - Instytut Fizyki PAN
(Cd,Mn)Te - Instytut Fizyki PAN
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
4. EPITAKSJA Z WIĄZEK MOLEKULARNYCH - MBECzęść doświadczalna rozprawy skupiona jest na charakteryzacji cienkichwarstw, jako elektrycznych kontaktów do wysokooporowych płytek (<strong>Cd</strong>,<strong>Mn</strong>)<strong>Te</strong>.Aparatura MBE została użyta do wzrostu oraz napylania odpowiednich warstwstanowiących kontakty do półizolującego materiału. Posłużyła do wykonaniawszystkich typów cienkich warstw na podłożach z kryształów otrzymywanychw laboratorium ON 1.1 IF <strong>PAN</strong>. Rozdział ten poświecony jest przedstawieniu:‣ ogólnej charakterystyki maszyn do epitaksji i ich głównych podzespołów,‣ podstaw metody wzrostu cienkich warstw epitaksjalnych,‣ obserwacji wzrastających i napylanych warstw przy użyciu dyfrakcji elektronów(Reflection High-Energy Electron Diffraction – RHEED),‣ aparatury MBE (własnej konstrukcji) użytej w badaniach,‣ metod przygotowania powierzchni do procesów wzrastania i napylania,‣ opisu przebiegu wzrostu oraz napylania krystalicznych cienkich warstw.Pochodzenie nazwy „epitaksja” wywodzi się z greckich słów „epi” – na, oraz„taxis” – porządek. Proces epitaksji jest zorientowanym krystalograficznie wzrostemwarstwy monokrystalicznej zachodzącym na powierzchni odpowiednioprzygotowanego podłoża. Wynikiem tego procesu jest otrzymanie cienkiej warstwyo kompozycji i orientacji określonej przez strukturę oraz orientację kryształu podłoża(tzw. substratu).Epitaksja z wiązek molekularnych (Molecular Beam Epitaxy - MBE) jest bardzowyrafinowaną techniką i jedną z bardziej rozpowszechnionych metod hodowli cienkichmonokrystalicznych warstw. Umożliwia ona wzrost cienkich warstw o grubości rzędunanometrów o ściśle określonym składzie chemicznym i precyzyjnym profilukoncentracji domieszek. Przy pomocy tej metody możliwe jest również wytwarzaniestruktur wielowarstwowych złożonych ze związków o różnych strukturachelektronowych. Dotyczy to zarówno struktur półprzewodnikowych jak i dielektryków,czy metali. Metoda ta daje także możliwość: doskonałej kontroli ostrości interfejsu, otrzymywania pojedynczej warstwy atomowej, wzrastania supersieci (o okresie od kilku Å), domieszkowania cienkich warstw w szerokim zakresie.78