(Cd,Mn)Te - Instytut Fizyki PAN

Jednak w naszej opinii powierzchnia będzie lepiej zabezpieczona materiałem(Au) napylanym w próżni. Po procesie napylania kiedy płytka przebywa w warunkachpróżni by wykonać metalizację kwasem należy wyjąc ją do atmosfery powierza.Dopiero po pewnym czasie powierzchnia jest poddawana reakcjom chemicznym w celumetalizacji. Metodą prostszą wydaje się być zatrzymanie płytki w próżni i po napyleniuwarstwy amorficznej wykonanie metalizacji przez napylenie złota.Kolejnym pytaniem jakie nasuwa się przy rozpatrywaniu tematu grubościwarstwy amorficznej jako kontaktu jest kwestia wpływu grubości warstwy na czynnikμτ. Czy źle dobrana grubość amorficznej warstwy może wpływać na pogorszenieparametru μτ? Czy nośniki które mają przepływać przez obszar amorficznego kontaktunapotykając tam na mnóstwo stanów nie będą pułapkowane lub będą rekombinowaći w ostateczności sygnał dochodzący do złotej elektrody będzie niepełny?Odpowiedzi na te pytania dostarczyły badania przeprowadzone na aparaturzeEUρ-μτ-SCAN. Dokładny sposób pomiaru i opis aparatury przedstawiony zostałw rozdziale 6.7. Badane były zmiany mierzonych wartości oporności właściweji czynnik μτ w zależności od grubości warstwy amorficznej. Wybrane zostały dwieskrajne grubości 100 nm oraz 1 μm amorficznej warstwy ZnTe:Sb. Pomiary wykonanezostały w obrębie jednej wysokooporowej tej samej płytki tyle, że z różnymigrubościami warstw.Wysokooporowa płytka ze zmierzoną wcześniej (tą sama aparaturą) wartościąparametru ρ montowana jest w maszynie MBE, gdzie zostają napylone na nią (w dwóchkolejnych procesach na obu stronach) cienkie warstwy amorficzne o grubości 100 nm.Po naniesieniu kontaktów próbka poddana zostaje pomiarowi jednocześnie na czynnikμτ oraz ρ. Następnie usuwane są z obydwu stron płytki warstwy i jest ona trawiona,polerowana i wykonany zostaje raz jeszcze pomiar parametru ρ. Ta sama jużprzygotowana płytka służy do kolejnych procesów napylania tym razem warstwamorficznych o grubości 1μm. Po procesie napylania wykonany zostaje pomiarczynnika μτ oraz ρ. Procedura pomiarowa jest taka sama jak dla warstw o grubości100 nm. Parametry μτ były mierzone jak to schematycznie przedstawia rys. 5.3.1.5a tabela 5.3.1.1 zawiera uzyskane z pomiarów dane.137