(Cd,Mn)Te - Instytut Fizyki PAN
(Cd,Mn)Te - Instytut Fizyki PAN
(Cd,Mn)Te - Instytut Fizyki PAN
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
W kwestii obniżenia LC autorzy pracy [31] twierdzą, że przygotowanapowierzchnia trawiona roztworem BM, a następnie LB daje w rezultacie mniejszy oczynnik 5,5 wkład LC, w porównaniu do powierzchni trawionej tylko jednym z typówroztworów. Autorzy tej samej pracy robią zestawienie RMS chropowatości powierzchnidla różnych typów jej traktowania. Dla powierzchni trawionej roztworem BMa następnie roztworem LB czynnik ten (RMS) wynosi 1,25 nm i jest najlepszy(najmniejszy) w porównaniu do powierzchni trawionej tylko LB (RMS ~ 1,4nm) lubjedynie BM (RMS ~ 1,9 nm). Zdjęcia obrazujące strukturę powierzchni odpowiedniotrawionej roztworem LB, BM oraz BM i LB przedstawia rys. 3.2.9.A)B)C)Rysunek 3.2.8. Zdjęcia z mikroskopu AFM (3D)różnie przygotowanych powierzchni (<strong>Cd</strong>,Zn)<strong>Te</strong>:A) szlifowana (x = y = 12 μm, Z=0,59 Å),B) trawiona roztworem BM (x = y = 4 μm,Z=135 Å), C) trawiona roztworem BM anastępnie roztworem LB (x = y = 4 μm,Z=48 Å). Oznaczenia roztworów trawiącychzgodne z opisem pod rys. 3.2.6 [6].74Rysunek 3.2.9. Zdjęcia z mikroskopu AFMpowierzchni różnie przygotowanych płytek(<strong>Cd</strong>,Zn)<strong>Te</strong>: I) trawiona roztworem LB, II)trawiona roztworem BM, III) trawionaroztworem BM a następnie roztworem LB.Wymiary obrazu 1 x 1μm; zakres Z: 40 nm;oznaczenia roztworów trawiących zgodne zopisem pod rys. 3.2.7 [31].Najczęściej stosowane proszki szlifierskie do szlifowania powierzchni związków<strong>Cd</strong><strong>Te</strong>, (<strong>Cd</strong>,Zn)<strong>Te</strong> i (<strong>Cd</strong>,<strong>Mn</strong>)<strong>Te</strong> to korund Al 2 O 3 (o granulacie 0,5 - 4 μm) orazkarborund SiC (o granulacie od 2,5 do 14 μm). Odpowiedni dobór granulatu pozwala nazebranie odpowiednio grubej warstwy zdefektowanej powierzchni materiału.