Metallorganisch chemische ... - JUWEL - Forschungszentrum Jülich
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144 7 Schichteigenschaften - 3: SrTa2O6 (STA)<br />
In der Abbildung auf der rechten Seite werden die Kapazitätswerte aus dem Akkumulationsbereich,<br />
hier dargestellt durch die EOT, gegenüber der Dicke aufgetragen. Die Messpunkte<br />
liegen nicht genau auf einer Geraden. Bei der Bestimmung der Permittivität des massiven<br />
Materials (εB) aus der Steigung wurden die Werte bei kleinen Dicken nicht berücksichtigt, da<br />
diese Schichten mit Sr/Ta Verhältnissen von 0,8 bzw.1,05 weit von der stöchiometischen Zusammensetzung<br />
abweichen. Dennoch ergibt sich mit εB = 28 ein kleinerer Wert als auf Platinbzw.<br />
TiNx-Substraten. Dieses Verhalten deutet auf eine Instabilität der SiOx Grenzschicht hin:<br />
Wenn sich diese mit der STA-Schichtdicke verändert, ist eine einfache Auswertung nicht<br />
mehr möglich. Dieses Verhalten wird bei den kristallinen Schichten, wo Interdiffusion sichtbar<br />
wird (Abb. 7.4) offensichtlich.<br />
Abbildung 7.18 zeigt den Verlauf der DK und der EOT Werte für die nachkristallisierten<br />
Schichten. Wir beobachten einen starken Anstieg der effektiven DK mit der Dicke. Bei geringen<br />
Dicken ergibt sich sogar ein Anstieg im EOT. Dies kann damit erklärt werden, dass die<br />
nichtstöchiometrischen Schichten in der Perowskit Struktur kristallisiert sind. Durch diese<br />
Unterschiede in Schicht und die Interdiffusion an der Grenzfläche (Kap.7.1) ist das einfache<br />
Zweischicht ´dead layer model´ ist nicht mehr anwendbar.<br />
EOT (nm)<br />
20<br />
18<br />
16<br />
14<br />
12<br />
10<br />
8<br />
6<br />
4<br />
2<br />
0<br />
0 10 20 30 40 50 60 70<br />
Dicke [nm]<br />
50<br />
45<br />
40<br />
35<br />
30<br />
25<br />
20<br />
15<br />
10<br />
5<br />
0<br />
Dielektrische Konstante<br />
Abbildung 7.18: Die EOT-<br />
Werte (Quadrate) und DK-<br />
Werte (Kreise) der nachkristallisierten<br />
STA Proben<br />
auf Silizium.<br />
Abbildung 7.19 zeigt die Leckstromkurven für amorphe STA Schichten auf Silizium. Die<br />
Leckströme sind insgesamt sehr niedrig. Wie bereits bei den STO Proben aus Kapitel 6.3,<br />
kann nicht direkt eine Dickenabhängigkeit gefunden werden, da der Leckstrom wahrscheinlich<br />
im Wesentlichen durch die SiOx Grenzschicht limitiert wird.<br />
J [A/cm²]<br />
1,0E-02<br />
1,0E-03<br />
1,0E-04<br />
1,0E-05<br />
1,0E-06<br />
1,0E-07<br />
1,0E-08<br />
1,0E-09<br />
1,0E-10<br />
1,0E-11<br />
1,0E-12<br />
6<br />
12<br />
27<br />
66<br />
-1500 -1000 -500 0 500 1000 1500<br />
E [kV/cm]<br />
Abbildung 7.19: Leckstromkurven<br />
verschieden dicker<br />
amorpher STA Schichten auf<br />
Siliziumsubstrat.