26.10.2012 Aufrufe

Metallorganisch chemische ... - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

Metallorganisch chemische ... - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

Metallorganisch chemische ... - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

MEHR ANZEIGEN
WENIGER ANZEIGEN

Erfolgreiche ePaper selbst erstellen

Machen Sie aus Ihren PDF Publikationen ein blätterbares Flipbook mit unserer einzigartigen Google optimierten e-Paper Software.

144 7 Schichteigenschaften - 3: SrTa2O6 (STA)<br />

In der Abbildung auf der rechten Seite werden die Kapazitätswerte aus dem Akkumulationsbereich,<br />

hier dargestellt durch die EOT, gegenüber der Dicke aufgetragen. Die Messpunkte<br />

liegen nicht genau auf einer Geraden. Bei der Bestimmung der Permittivität des massiven<br />

Materials (εB) aus der Steigung wurden die Werte bei kleinen Dicken nicht berücksichtigt, da<br />

diese Schichten mit Sr/Ta Verhältnissen von 0,8 bzw.1,05 weit von der stöchiometischen Zusammensetzung<br />

abweichen. Dennoch ergibt sich mit εB = 28 ein kleinerer Wert als auf Platinbzw.<br />

TiNx-Substraten. Dieses Verhalten deutet auf eine Instabilität der SiOx Grenzschicht hin:<br />

Wenn sich diese mit der STA-Schichtdicke verändert, ist eine einfache Auswertung nicht<br />

mehr möglich. Dieses Verhalten wird bei den kristallinen Schichten, wo Interdiffusion sichtbar<br />

wird (Abb. 7.4) offensichtlich.<br />

Abbildung 7.18 zeigt den Verlauf der DK und der EOT Werte für die nachkristallisierten<br />

Schichten. Wir beobachten einen starken Anstieg der effektiven DK mit der Dicke. Bei geringen<br />

Dicken ergibt sich sogar ein Anstieg im EOT. Dies kann damit erklärt werden, dass die<br />

nichtstöchiometrischen Schichten in der Perowskit Struktur kristallisiert sind. Durch diese<br />

Unterschiede in Schicht und die Interdiffusion an der Grenzfläche (Kap.7.1) ist das einfache<br />

Zweischicht ´dead layer model´ ist nicht mehr anwendbar.<br />

EOT (nm)<br />

20<br />

18<br />

16<br />

14<br />

12<br />

10<br />

8<br />

6<br />

4<br />

2<br />

0<br />

0 10 20 30 40 50 60 70<br />

Dicke [nm]<br />

50<br />

45<br />

40<br />

35<br />

30<br />

25<br />

20<br />

15<br />

10<br />

5<br />

0<br />

Dielektrische Konstante<br />

Abbildung 7.18: Die EOT-<br />

Werte (Quadrate) und DK-<br />

Werte (Kreise) der nachkristallisierten<br />

STA Proben<br />

auf Silizium.<br />

Abbildung 7.19 zeigt die Leckstromkurven für amorphe STA Schichten auf Silizium. Die<br />

Leckströme sind insgesamt sehr niedrig. Wie bereits bei den STO Proben aus Kapitel 6.3,<br />

kann nicht direkt eine Dickenabhängigkeit gefunden werden, da der Leckstrom wahrscheinlich<br />

im Wesentlichen durch die SiOx Grenzschicht limitiert wird.<br />

J [A/cm²]<br />

1,0E-02<br />

1,0E-03<br />

1,0E-04<br />

1,0E-05<br />

1,0E-06<br />

1,0E-07<br />

1,0E-08<br />

1,0E-09<br />

1,0E-10<br />

1,0E-11<br />

1,0E-12<br />

6<br />

12<br />

27<br />

66<br />

-1500 -1000 -500 0 500 1000 1500<br />

E [kV/cm]<br />

Abbildung 7.19: Leckstromkurven<br />

verschieden dicker<br />

amorpher STA Schichten auf<br />

Siliziumsubstrat.

Hurra! Ihre Datei wurde hochgeladen und ist bereit für die Veröffentlichung.

Erfolgreich gespeichert!

Leider ist etwas schief gelaufen!