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Metallorganisch chemische ... - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

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4.1 Prozessparameter für BST 71<br />

4.1.2 Bewertung des Standardprozesses<br />

Die Abscheidung bei 600 - 655°C wurden als Standardprozesse verwendet, da in diesem Bereich<br />

die Effizienz des Prekursoreneinbaus hoch und konstant war, der Kohlenstoffgehalt sehr<br />

gering war und die in Kap. 5 diskutierten Schichteigenschaften die optimalen Werte erreichen.<br />

a) Reproduzierbarkeit und Homogenität<br />

Die Reproduzierbarkeit verschiedener Abscheidungen wird in Abbildung 4.8 dargestellt. Hier<br />

wurde das aus Tabelle 4.1 beschriebene Standardrezept verwendet. Die Herstellung dieser<br />

BST Schichten erfolgte mit dem ATMI Verdampfer auf 1“ großen Pt/Zr Substraten. Die relative<br />

Standardabweichung der Schichtdicke beträgt für diese Serie 0,7% und liegt damit in der<br />

Größenordnung des Messfehlers der XRF Analyse. Die gute Reproduzierbarkeit zeigt, dass<br />

ein sehr stabiles Prozessfenster gefunden wurde.<br />

Dicke [nm]<br />

35<br />

33<br />

31<br />

29<br />

27<br />

25<br />

301 303 304 305 306<br />

Nummer der Abscheidung<br />

Abbildung 4.8: Reproduzierbarkeit<br />

der Schichtdicke für<br />

BST Abscheidungen. Die relative<br />

Standardabweichung dieser<br />

fünf Abscheidungen beträgt<br />

0,7%.<br />

In dem letzten Versuch aus Abbildung 4.8 wurden zusätzlich vier 6“ Pt/Ti Wafer beschichtet.<br />

Abbildung 4.9 zeigt die Homogenität der Dicke der BST Schichten. Diese wurde an 17 verschiedenen<br />

Punkten entlang des Querschnitts durch Ellipsometrie bestimmt. Um das Diagramm<br />

übersichtlicher zu gestalten, sind diese Messpunkte mit einer Linie verbunden. Die<br />

relative Standardabweichung ∆ dieser BST Schichten liegt zwischen 1,6% und 2,1%. Aus<br />

dem Vergleich der mittleren Dicken untereinander ergibt sich eine relative Standardabweichung<br />

von 0,7%.<br />

Dicke [nm]<br />

35<br />

33<br />

31<br />

29<br />

27<br />

25<br />

-60 -40 -20 0 20 40 60<br />

Position auf dem Wafer [mm]<br />

Abbildung 4.9: Verlauf der<br />

ellipsometrisch bestimmten<br />

Dicke der BST Schicht entlang<br />

des Querschnitts von vier simultan<br />

beschichteten 6“ Wafern.

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