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Metallorganisch chemische ... - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

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74 4 Ergebnisse der Prozessentwicklung<br />

a) Alternierendes Wachstum<br />

Hier wird eine Atomlage TiO2 und eine Atomlage SrO alternierend abgeschieden. Die dabei<br />

nötige Pulszahl wird aus der Gesamtpulszahl, der gemessenen Dicke und der Dicke einer<br />

SrTiO3 - Monolage berechnet. Bei gegebener Effizienz wurden sieben Pulse benötigt, eine<br />

Ebene abzuscheiden. Zwischen jeder Pulsserie, die mit hoher Pulsfrequenz abgeschieden<br />

wurde, lag eine 5s lange Pause. Die so hergestellten Schichten zeigen keine wesentliche Veränderung<br />

gegenüber normal hergestellten Schichten. Allerdings scheint das alternierende<br />

Wachstum die Homogenität leicht zu verändern. Während ansonsten vorwiegend konvexe<br />

Oberflächen gefunden wurden, erzeugt dieses Wachstum eine eher konkave Dickenverteilung<br />

über 6“.<br />

b) Schrittweises Wachstum<br />

Da die Prozessparameter so eingestellt waren, dass die Einbaueffizienzen für die Elemente<br />

Strontium und Titan etwa gleich groß sind, konnten dünne Schichten mit demselben Pulszahlenverhältnis<br />

abgeschieden werden. In diesem Wachstum wurde praktisch eine Monolage<br />

STO auf Platin abgeschieden und zwischen jeder Monolage 1, 5, 10, 20 und 40 Sekunden<br />

gewartet. Bei diesen Versuchen war von Interesse, ob durch unterschiedlich lange Pausen,<br />

mittels Oberflächendiffusion die entsprechenden Lücken im Gitter besser geschlossen werden<br />

konnten. Hier konnte allerdings keine Abhängigkeit festgestellt.<br />

c) Schichtfolgen mit unterschiedlicher Stöchiometrie<br />

Die besondere Stärke des neuen Verdampfersystems besteht in der erweiterten Möglichkeit<br />

die Schichtabfolge in Wachstumsrichtung zu variieren. Dies geschah im Hinblick auf den im<br />

dritten Kapitel beschriebenen Dead-Layer. Hier wurde die Zusammensetzung an der Grenzfläche<br />

in einem 2nm dicken Bereich gegenüber der dazwischenliegenden Zusammensetzung<br />

variiert.<br />

d) Wachstum mit extrem langer Pulstrennung<br />

Um auszuschließen, dass verschiedene Prekursoren miteinander wechselwirken, wurde die<br />

Zeit zwischen den Pulsen von normalerweise 0,3s auf über 20s gesteigert. Dieser Mode wurde<br />

notwendig für die Herstellung von STO mit dem neuen Titanprekursor, siehe kommendes<br />

Unterkapitel.

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