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etude theorique et experimentale du transport electronique ... - Ief

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Chapitre III : Etude expérimentale des eff<strong>et</strong>s non stationnairesFigure III- 45: Vitesse <strong>et</strong> densité des porteurs dans ladiode de 60nm à V DS =1V pour une dose d’extension de5x10 13 at/cm 3 . Simulation avec Dérive-DiffusionFigure III- 46: Potentiel dans la diode de 60nm à V DS =1V pourl’ensemble des doses des extensions. Les extensions font varierl’allure <strong>du</strong> potentiel <strong>et</strong> abaisse plus ou moins la barrière depotentiel. Simulation avec Dérive-Diffusion.De plus, c<strong>et</strong> eff<strong>et</strong> explique la courbe en cloche <strong>du</strong> ratio. Lorsque l’extension est dopée très faiblement à5x10 12 at/cm 2 , ce dopage est « négligeable » par rapport au dopage initial, <strong>et</strong> la diode est peudissymétrique. De même, à fort dopage, la diode est décalée par rapport à la grille, mais cela revient à uneré<strong>du</strong>ction de la longueur de la diode. La diode redevient symétrique. Par conséquent, c’est pour un dopageintermédiaire entre 1x10 13 at/cm 2 <strong>et</strong> 5x10 13 at/cm 2 que le ratio est le plus important.Bien que le principal eff<strong>et</strong> soit de nature électrostatique, l’eff<strong>et</strong> <strong>du</strong> <strong>transport</strong> n’est pas négligeable commele prouvent les différences entre les modèles. Malheureusement, l’influence de la barrière de potentiel surla vitesse d’injection n’est pas visible expérimentalement. En eff<strong>et</strong>, pour cela il serait nécessaired’effectuer des mesures d’extraction <strong>du</strong> coefficient de rétro-diffusion R C sur des MOSFET asymétriquespour réellement connaître l’influence <strong>du</strong> <strong>transport</strong> décorrélé des phénomènes électrostatiques.8. INFLUENCE DE LA TEMPERATURE8.1. But de l’expérienceLe chapitre II a rappelé l’intérêt des mesures en température pour l’analyse <strong>du</strong> <strong>transport</strong> quasi-balistiquepour le calcul <strong>du</strong> coefficient de rétro-diffusion R C . Cependant dans notre cas, les extractionsexpérimentales <strong>du</strong> coefficient de rétro-diffusion sont impossibles car la connaissance précise de la chargeen haut de la barrière de potentiel est extrêmement difficile à obtenir, ainsi que sa dépendance en fonctionde la température. Dans l’étude standard sur le MOSFET, la connaissance de la tension de seuil <strong>et</strong>l’évaluation de sa dépendance en température perm<strong>et</strong> de s’affranchir de la variation de la charge pour lecalcul de R C [23]. Pour les diodes, cela est inenvisageable. Par conséquent, seules les variations <strong>du</strong> couranten fonction de la température seront étudiées. Ce travail perm<strong>et</strong>tra de dé<strong>du</strong>ire la dépendance entempérature des eff<strong>et</strong>s non stationnaires.- 106 -

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