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etude theorique et experimentale du transport electronique ... - Ief

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Chapitre IV : Modélisation analytique <strong>du</strong> <strong>transport</strong> quasi balistiqueLDε SikT= IV- 4222qNLa difficulté dans le cadre de l’écrantage dynamique est de déterminer proprement N ecr . En eff<strong>et</strong>, surles premiers nanomètres, la densité de porteurs qui écrante est élevée mais elle chute très vite <strong>et</strong> évoluele long <strong>du</strong> canal. Ainsi, la prise en compte de l’influence de l’écrantage local est une influence assezdélicate car évoluant le long <strong>du</strong> canal. Par conséquent, il est préférable d’utiliser une approche pluspragmatique, où N ecr est la charge moyenne dans le canal. Pour cela il est nécessaire de déterminer lacharge moyenne Q ch par unité de surface <strong>et</strong> de déterminer l’épaisseur moyenne <strong>du</strong> canal T ch .Qch/ qN ecr = IV- 43TchOù l’on a :1Qch= Cox( VGS−Vth)IV- 442En ce qui concerne la valeur de T ch , il faut analyser le dispositif en 2D. En eff<strong>et</strong>, comme décrit sur laFigure IV- 9, le <strong>transport</strong> n’est pas parfaitement 1D <strong>et</strong> l’épaisseur <strong>du</strong> canal est fortement liée à lacapacité de la source d’injecter les porteurs dans le canal. Sur la Figure IV- 33 sont écrites les valeursde T ch . Pour déterminer c<strong>et</strong>te valeur, on mesure sur les simulations Monte Carlo la distance où ladensité de porteurs est supérieure à la concentration de dopants. Les mesures montrent que plus V GSaugmente plus l’épaisseur <strong>du</strong> canal augmente, cela est dû au fait que il est nécessaire d’injecter plus deporteur dans le canal <strong>et</strong> donc une partie plus importante de la jonction source contribue à l’injection.ecr10Distance along the MOSFET (nm)0 20 40 60 80 100 120 140 160 180C ha rge (C /m 2)10.10.01VGS=0.4V Tcanal=3nmVGS=0.8V Tcanal=8.7nmRéférence écrantage classiqueVGS=0.6V Tcanal=6.9nmVGS=1V Tcanal=9.6nm0.0010.0001Figure IV- 32: Comparaison de la vitesse des porteurs sur leMOSFET n°2 à V dd =0.8V avec les différentes options : sansrugosité, ajout de l’écrantage dynamique <strong>et</strong> l’ajout de larugositéFigure IV- 33: Comparaison de la charge en fonction de V GS<strong>et</strong> de la référence N canal servant à l’écrantage classique sur leMOSFET n°2 à V DS =0.8V. Plus V GS augmente plus la chargeglobale est proche de la référence <strong>et</strong> le ratio entre les 2courants avec <strong>et</strong> sans écrantage dynamique diminueAu centre <strong>du</strong> canal, en première approximation, l’épaisseur <strong>du</strong> canal est déterminée classiquement.Pour prendre en compte l’injection des porteurs venant de la source, une approche empirique estchoisie où l’épaisseur moyenne <strong>du</strong> canal vaut :ch⎡ Lch⎤( X − 2X ) exp − ⎥ ⎦T ch = 2X bar + j bar ⎢IV- 45⎣ ℘- 149 -

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