Chapitre III : Etude expérimentale des eff<strong>et</strong>s non stationnairesquasi-balistique. Cependant ils ne peuvent jamais représenter correctement le <strong>transport</strong> lorsque l<strong>et</strong>ransport est très proche de sa limite balistique. Les simulateurs Monte Carlo perm<strong>et</strong>tent de bien rendre compte des eff<strong>et</strong>s non stationnaires <strong>et</strong>quasi-balistique. Leur limite, d’un point de vue <strong>transport</strong>, est lorsque le dispositif atteint les 10nm.Pour des longueurs inférieures, la physique basée sur une résolution semi-classique <strong>du</strong> <strong>transport</strong>n’est plus valable. Il est nécessaire de résoudre l’équation de <strong>transport</strong> de Wigner ou d’utiliser leformalisme des fonctions de Green pour décrire complètement les eff<strong>et</strong>s de <strong>transport</strong> liés à ceslongueurs.Les différents régimes de <strong>transport</strong> sont récapitulés dans le Tableau III-4.Tableau III-4 : Tableau récapitulatif des eff<strong>et</strong>s non stationnaires <strong>et</strong> quasi-balistiques en fonction des coefficients α NSE <strong>et</strong>α BAL .Par ailleurs, l’analyse spectroscopie de la fonction de distribution a permis d’étayer théoriquement cesobservations expérimentales. Ce travail spectroscopique a ainsi débouché sur la mise en évidence <strong>du</strong>régime quasi-balistique <strong>et</strong> démontré les limites des modèles basés sur la méthode des moments pourdécrire le <strong>transport</strong> dans les MOSFETs ultimes. En eff<strong>et</strong>, dans le régime quasi-balistique, la fonction dedistribution n’est plus une maxwellienne déplacée, <strong>et</strong> il apparaît plusieurs classes de porteurs, chacunecorrespondant à un phénomène <strong>du</strong> <strong>transport</strong> ultime. C<strong>et</strong>te analyse a ainsi permis de comprendre l<strong>et</strong>ransport électronique en gaz 3D dans les dispositifs ultimes. De plus, un abaque théorique a été développépour connaître en fonction de la mobilité <strong>et</strong> <strong>du</strong> champ latéral, le régime de <strong>transport</strong>. Cela perm<strong>et</strong> ainsid’utiliser le simulateur le plus adéquat. Paradoxalement c<strong>et</strong> abaque vient un peu tard, car il montre que- 128 -
Chapitre III : Etude expérimentale des eff<strong>et</strong>s non stationnairesdepuis 5ans environs les dispositifs fonctionnent à l’état passant dans un régime quasi-balistique. C’estpourquoi, je préconise aujourd’hui d’utiliser des simulateurs Monte Carlo dans l’analyse des dispositifspour le calcul <strong>du</strong> I ON . Par pragmatisme, la simulation Dérive-Diffusion peut être utilisée pourl’optimisation, mais elle doit être accompagnée d’une étude Monte Carlo pour connaître les erreurscommises <strong>et</strong> apporter des corrections éventuelles.En revanche, dans le cadre de la recherche en TCAD, seuls les simulations résolvant l’équation deTransport de Wigner ou le formalisme des fonctions de Green perm<strong>et</strong>tront d’étudier les MOSFETs desprochaines années.13. REFERENCES[1] “A critical Examination of the Assumptions Underlying Macroscopic Transport Equations forSilicon Devices”, M.A. St<strong>et</strong>tler, M.A. Alam and M.S. Lundstrom, IEEE TED., vol.40, n°4, 1993,pp: 733-740.[2] “Influence of Hydrodynamic Models on the Prediction of Submicrom<strong>et</strong>er Device Characteristics”,M. Ieong and T. Tang, IEEE TED, vol.44, n° 12, 1997, pp: XX-XX[3] “Ballistic <strong>transport</strong> and properties of submicrom<strong>et</strong>er Silicon MOSFET's from 300 to 4.2 K”P.J. Robertson, D.J Dumin, Electron Devices, IEEE TED, vol. 33, issue 4, 1986, pp: 494- 498.[4] “A discussion on the universality of inversion layer mobility in MOSFET's” Ma Yutao, Liu Litian,Li Zhijian, Electron Devices, IEEE TED, vol. 46, issue 9, 1999, pp:1920–1922.[5] “Universality of mobility-gate field characteristics of electrons in the inversion charge layer and itsapplication in MOSFET modelling”, S.-W. Lee, Computer-Aided Design of Integrated Circuits andSystems, IEEE TED, vol. 8, issue 7, 1989, pp:724–730.[6] “Effect of oxide interface roughness on the threshold voltage fluctuations in decanano MOSFETswith ultrathin gate oxides”, A. Asenov, S. Kaya, SISPAD 2000, pp: 135–138.[7] “Semicon<strong>du</strong>ctor Transport”, D.K. Ferry, New York: Taylor and Francis, 2000.[8] “DESSIS”, ISE, vol. 4a, 8.0, 2002.[9] “D<strong>et</strong>ermination of Si/SiO 2 interface roughness using weak localization” Anderson, W.R.; Lombardi,D.R.; Wheeler, R.G.; Ma, T.P.; Mitev, P.H.;VLSI Technology, Systems, and Applications, 1993.Proceedings of Technical Papers.1993 International Symposium on12-14 May 1993 pp: 82 - 85[10] “Physique des semi-con<strong>du</strong>cteurs <strong>et</strong> des composants électronique”, 5 ème édition, H. Mathieu, EditionDunot, 2001.[11] “First order intervalley scattering in low dimensional systems”, Physical Review B, F. Monsef,P.Dollfus, S.Galdin, A.Bournel, vol. 65, 2002, pp: 212304- 04.[12] “Theory of Ballistic Nanotransistors”, IEEE Trans. Elec. Dev., A. Rahman, J. Guo, S. Datta, M. S.Lundstrom, vol.50, n°9, 2003, pp: 153-1864.[13] DIOS, ISE, vol 4a, 8.0,1995-2002.[14] “Transport models for advanced Device Simulation- Truth or Consequences?”, IBM ResearchReport, S.E. Laux and M.V. Fisch<strong>et</strong>ti, RC 20130 Engineering and Technology, 1995.[15] “Impact of Non stationary Transport Effects on Realistic 50nm MOS Technology”, D. Munteanu,G. Lecaral, G. Guegan, Modeling and simulation of Microsystems 2001, pp: 462-465.- 129 -