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etude theorique et experimentale du transport electronique ... - Ief

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Chapitre IV : Modélisation analytique <strong>du</strong> <strong>transport</strong> quasi balistique14%13%12%Proportion (%)11%10%9%8%7%6%5%4%3%2%1%25nm15nm35nm0%0 5 10 15 20 25 30 35 40Nombre d'interactionFigure IV- 26: Comparaison des profiles de vitesse desporteurs sur les 3 MOSFET à V DD =0.8V.Figure IV- 27: Comparaison de la spectroscopie de porteurssur les 3 MOSFETs à V dd =0.8V. Plus le dispositif est long,moins de porteurs balistiques <strong>et</strong> le nombre d’interactionmoyen augmente.4. MODELISATION ANALYTIQUE DU COURANT4.1. Modélisation <strong>du</strong> courantLe modèle de rétro-diffusion va être utilisé dans c<strong>et</strong>te partie pour calculer le courant dans lesMOSFETs. L’expression utilisée est :I= WCox( V − V )GSthvtherm⎛1− R⎜⎝1+ RCC⎡⎢⎞⎢1 − e⎟⎢⎠ ⎛1− R⎢1+⎢⎜⎣ ⎝1+ R−qVDS/ kTCC⎞⎟e⎠−qVDS/ kT⎤⎥⎥⎥⎥⎥⎦IV- 41Le calcul <strong>du</strong> coefficient de rétro-diffusion R C <strong>et</strong> l’étude sur v therm perm<strong>et</strong>tent de déterminer la vitesse.La difficulté est de déterminer la charge en haut de la barrière. Suivant la modélisation classique avecla tension de seuil, il est nécessaire de déterminer correctement les eff<strong>et</strong>s canaux courts en haut de labarrière de potentiel. L’étude de ces eff<strong>et</strong>s 2D sur la charge n’ayant été pas menée complètement, onutilise pour la validation de notre modèle deux paramètres de calibrages sur les eff<strong>et</strong>s canaux courtsperm<strong>et</strong>tant de r<strong>et</strong>rouver la valeur issue de la simulation Monte Carlo pour le point à V dd . Ensuite, àpartir des paramètres <strong>du</strong> MOSFET <strong>et</strong> des polarisations de drain V DS <strong>et</strong> de grille V GS , la charge en hautde la barrière de potentiel est calculée avec le modèle décrit dans [31]. A partir de la charge <strong>et</strong> de lavitesse à l’injection, le courant est obtenu suivant la procé<strong>du</strong>re de convergence <strong>du</strong> courant décrite surla Figure IV- 28. Ainsi, à partir d’une valeur de courant I DS , la chute de potentiel dans les accès estévaluée <strong>et</strong> l’allure <strong>du</strong> profil de potentiel est dé<strong>du</strong>ite. A partir de celui-ci, on calcule à nouveau R C , lavitesse d’injection <strong>et</strong> le courant ; <strong>et</strong> ainsi de suite jusqu’à convergence <strong>du</strong> courant.En utilisant c<strong>et</strong>te structure de modèle, les caractéristiques I(V) sont obtenues. Sur les Figure IV-29, Figure IV- 30 <strong>et</strong> Figure IV- 31, la comparaison avec les simulations Monte Carlo montre un bonaccord pour les 3 MOSFETs.- 147 -

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