10.07.2015 Views

etude theorique et experimentale du transport electronique ... - Ief

etude theorique et experimentale du transport electronique ... - Ief

etude theorique et experimentale du transport electronique ... - Ief

SHOW MORE
SHOW LESS

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

Chapitre IV : Modélisation analytique <strong>du</strong> <strong>transport</strong> quasi balistique Développer une méthodologie d’extraction de paramètres Améliorer le modèle pour être en accord avec les impératifs <strong>du</strong> modèle Compact(continuité, rapidité….) Développer l’ensemble des régimes <strong>du</strong> MOSFET. Insérer les eff<strong>et</strong>s annexes, comme les courants de fuite de grille, de substrat…. Valider les projections <strong>du</strong> modèle sur des valeurs expérimentalesL’ensemble <strong>du</strong> travail présenté précédemment se situe dans la seconde voie. Il reste cependantbeaucoup de travail si l’on désire continuer dans la modélisation physique : Faire un travail similaire pour les transistors à canal P Modéliser le <strong>transport</strong> pour les autres types de MOSFET (DG, SOI…) Modéliser le profil de potentiel 2D en fonction de la raideur des jonctions Modéliser en 2D les eff<strong>et</strong>s canaux courts Modéliser les interactions gaz 2D <strong>et</strong> calibrer sur la mobilité universelle. Modéliser le <strong>transport</strong> en gaz 2D avec validation sur un code Monte Carlo incluant leseff<strong>et</strong>s de quantification.Ces deux voies de travail semblent à priori différentes, mais je pense qu’il serait pertinent de les menerensemble. Le bénéfice en sera beaucoup plus grand. En eff<strong>et</strong>, une meilleur compréhension physiqueenrichit la modélisation compacte tandis que la modélisation compacte oblige à se raccrocher toujoursaux valeurs expérimentales <strong>et</strong> de vérifier les compatibilités sur de large gamme de paramètresgéométriques, de dopage <strong>et</strong> de polarisation.11. REFERENCES[1] “On the ballistic <strong>transport</strong> in nanom<strong>et</strong>er-scaled DG MOSFETs”, J. Martin, A. Bournel, P.Dollfus, Electron Devices, IEEE Trans. Electron Devices, vol. 51, issue 7, 2004, pp: 1148-1155.[2] “A Landauer Approach to Nanoscale MOSFETs”, M.S. Lundstrom, Journal of ComputationalElectronics, vol. 1, 2002, pp: 481-489.[3] “A New Backscattering Model giving a Description of the Quasi Ballistic Transport”, E.Fuchs, P. Dollfus, G. Le Carval, S. Barraud, D. Villanueva, , H. Jaouen, T. Skotnicki., IEEETrans. Electron Devices, vol. 52, n° 10, 2005, pp: 2280-2289.[4] “A New Quasi Ballistic Model for Strained MOSFET”, E.Fuchs, S. Orain, C. Ortolland, P.Dollfus, G. Le Carval, D. Villanueva, A. Dray, H. Jaouen, T. Skotnicki, SISPAD 2005.[5] “MASTAR user guide”, STMicroelectronics research, 2003, Disponible sur:http://public.itrs.n<strong>et</strong>[6] “MASTAR QUASI BALLISTIC user guide”, ST Microelectronics research, 2005.[7] “Electronic properties of two dimensional systems”, T. Ando, A. Fowler and F. Stern, Reviewof modern Physics, vol. 54, n°2, 1982. pp: 437-672.[8] “Physique de l’état solide”, C. Kittel, Edition Dunot, 1998, 7 e édition.[9] “Fundamental of carrier <strong>transport</strong>”, M.S. Lundstrom, Cambridge University Press, 2001.[10] “Decoupling Channel Backscattering Coefficients in Nanoscale MOSFETs to Establish Near-Source Channel Con<strong>du</strong>ction-Band Profiles”, M.-J. Chen, R.-T. Chen, and Y.-S. Lin,Nanoscale WorkShop VLSI 2005 pp: 50-51.- 183 -

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!