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etude theorique et experimentale du transport electronique ... - Ief

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Chapitre I : Intro<strong>du</strong>ction au <strong>transport</strong> électroniqueCHAPITRE I :INTRODUCTION AU TRANSPORTELECTRONIQUE1. EVOLUTION DE LA MICROELECTRONIQUEDepuis les années 1970, la course intense à la miniaturisation des transistors n’a pas cessée (FigureI-1). Aujourd’hui les MOSFETs pro<strong>du</strong>its ont une longueur de grille quelques dizaines de nanomètres(Figure I-2). C<strong>et</strong>te ré<strong>du</strong>ction d’échelle nécessite d’intro<strong>du</strong>ire de nombreux eff<strong>et</strong>s correctifs sur lesmodèles usuels de fonctionnement <strong>du</strong> MOSFET [1]. L’un d’entre eux est l’augmentation de la vitessedes porteurs dans les p<strong>et</strong>its dispositifs <strong>du</strong>e à l’apparition des eff<strong>et</strong>s non stationnaires <strong>et</strong> récemment deseff<strong>et</strong>s quasi-balistiques qui en sont un cas particulier. Pour comprendre ces eff<strong>et</strong>s <strong>et</strong> leur influence surle fonctionnement <strong>du</strong> MOSFET, il est nécessaire de revoir les notions fondamentales <strong>du</strong> <strong>transport</strong>électronique. En eff<strong>et</strong>, si ces notions sont assez anciennes <strong>et</strong> solidement fondées, elles restentnéanmoins à l’heure actuelle peu utilisées dans le domaine de l'aide au développement technologiquedes composants MOS. Tant que les grandeurs macroscopiques, comme la mobilité, suffisaient à ladescription <strong>et</strong> à l’analyse des performances des transistors, l’intérêt pour la physique sous-jacente nes’est pas fait sentir. Mais l’apparition des eff<strong>et</strong>s non stationnaires avec le développement desgénérations sub-200nm a dévoilé les premières difficultés liées à la compréhension <strong>du</strong> <strong>transport</strong>. Ceseff<strong>et</strong>s ont cependant été maîtrisés d’un point de vue TCAD (Technological Computer Aided Design),avec l’apparition <strong>du</strong> modèle hydrodynamique [2] <strong>et</strong> d’un point de vue SPICE (Software ProcessImprovement and Capability dEtermination) par correction de la vitesse de saturation <strong>et</strong> de lamobilité [3]. Mais aujourd’hui, la génération des transistors MOS à longueur de grille inférieure à45nm <strong>et</strong> la diversité des architectures imposent de revoir la notion macroscopique de mobilité. L<strong>et</strong>ransport électronique quasi-balistique [4], le confinement des porteurs dans les couches minces [5], <strong>et</strong>la déformation de la structure de bande <strong>du</strong> silicium liée aux contraintes in<strong>du</strong>ites par les techniques defabrication [6] amènent à réétudier les notions fondamentales <strong>du</strong> <strong>transport</strong> pour définir des grandeursplus pertinentes pour l’étude des transistors. Tous ces eff<strong>et</strong>s prenant de plus en plus d’importance avecla ré<strong>du</strong>ction dimensions des des transistors, il est important, pour chaque ingénieur <strong>et</strong> chercheur enmicroélectronique de connaître les notions de base <strong>et</strong> les différentes approximations de la physique <strong>du</strong><strong>transport</strong> électronique.Dans ce premier chapitre, nous intro<strong>du</strong>irons d'abord phénoménologiquement les eff<strong>et</strong>s nonstationnaires <strong>et</strong> quasi-balistiques. Ensuite, les concepts <strong>du</strong> <strong>transport</strong> électronique (masse effective,équation de <strong>transport</strong> de Boltzmann…) nécessaires pour l’étude <strong>du</strong> <strong>transport</strong> seront rappelés. Enfin, cechapitre se terminera par la visualisation des eff<strong>et</strong>s non stationnaires <strong>et</strong> quasi-balistiques avec lafonction de distribution.- 9 -

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