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etude theorique et experimentale du transport electronique ... - Ief

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Chapitre IV : Modélisation analytique <strong>du</strong> <strong>transport</strong> quasi balistiqueCependant, pour notre modèle, α sera une valeur intermédiaire considérée comme constante <strong>et</strong> égaleà 1,4. C<strong>et</strong>te modélisation <strong>du</strong> potentiel est 1D, mais il est important de garder en tête que le profilchange de façon importante lorsque l’on se déplace sous la grille, comme illustrée sur la Figure IV- 9.Pour obtenir un potentiel représentatif, le profil est extrait au barycentre des charges environ 0.5nmsous l’interface. Par ailleurs, il faut considérer la chute de potentiel <strong>du</strong>e aux résistances d’accès <strong>et</strong> leschutes de tension <strong>du</strong>es au débordement sous la grille. Ces chutes de tensions ne peuvent être négligées,surtout sur les p<strong>et</strong>its transistors. La modélisation des résistances d’accès sera détaillée dans le prochainparagraphe. Ici, les chutes de tensions liées au débordement des extensions sous la grille vont êtrecalculées. A partir de la densité de porteurs dans les extensions N LDD <strong>et</strong> de la densité de porteurs dansles zones d’accumulation N acc-source , la chute de potentiel <strong>du</strong>e au débordement vaut [24] :OVERLAP kT ⎛ N ⎞acc−source∆ V =⎜⎟SOURCEln+IV- 9q ⎝ NLDD⎠Et de la même manière la hauteur de barrière est déterminée à partir de la densité de porteurs en hautde la barrière N top <strong>et</strong> de la densité dans la zone d’accumulation N acc-source :kT ⎛ ⎞⎜Nacc−sourceE =⎟BlnIV- 10q ⎝ Ntop ⎠A partir de ces expression <strong>et</strong> de la détermination des résistances d’accès (voir ce qui suit), les tensionseffectives aux bornes <strong>du</strong> canal V S_EFF <strong>et</strong> V D_EFF peuvent être calculées. Ainsi ces nouvelles tensionssont intro<strong>du</strong>ites dans l’équation IV- 8. Sur les Figure IV- 10 <strong>et</strong> Figure IV- 11, la modélisation estvalidée par des comparaisons avec des simulations Monte Carlo.P o te n tia l (V )10,90,80,70,60,50,40,30,20,10Monte Carlo VD=VG=0,8VPotential model VD=VG=0,8V0 10 20 30 40 50 60 70 80x (nm)Figure IV- 10: Validation de la modélisation <strong>du</strong> potentiel àV dd =0.8V.Figure IV- 11: Validation de la modélisation <strong>du</strong> potentielpour différentes tension grille à V DS =0.8V.C<strong>et</strong>te validation a été effectuée sur un transistor dont les jonctions ont été modélisées par des boites dedopants de raideur infinie. Dans les transistors actuels, la raideur de la jonction est un paramètreimportant, jouant tant sur le <strong>transport</strong> [25] que sur les eff<strong>et</strong>s canaux courts. Ainsi, sur les p<strong>et</strong>itsdispositifs où les jonctions ont une raideur donnée, la longueur électrique effective <strong>du</strong> canal varie enfonction des polarisations. En eff<strong>et</strong>, plus la densité de porteurs dans le canal est élevée, plus lesporteurs masquent les dopants à la jonction source/canal, <strong>et</strong> la jonction perd de sa « qualité » pourcontrôler la longueur <strong>du</strong> canal. Dans c<strong>et</strong>te configuration, le somm<strong>et</strong> de la barrière de potentiel sedécale vers la source sous l’influence <strong>du</strong> drain. Pour ne pas subir c<strong>et</strong> eff<strong>et</strong> (qui nécessitera d’être prisen compte ultérieurement), les simulations seront effectuées sur des MOSFETS aux jonctionsabruptes. La modélisation IV- 8 est alors correcte <strong>et</strong> quelle que soient les polarisations : L elec =L ch .- 137 -

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