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etude theorique et experimentale du transport electronique ... - Ief

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Chapitre IV : Modélisation analytique <strong>du</strong> <strong>transport</strong> quasi balistiqueon peut remarquer que la courbure <strong>du</strong> potentiel dans le sens longitudinal peut être assimilée à unediminution locale <strong>du</strong> dopage :∂ Ψ∂q⎛ε∂ Ψ ⎞⎟⎠2 22ySi= ⎜ Nch−εSiq2∂xD’où le dopage effectif peut s’exprimer de la sorte :N*ch⎝ε= Nch−q2Si∂ Ψ2∂ xIV- 51IV- 52On voit dans l’équation précédente que le dopage effectif dépend de la courbure <strong>du</strong> potentiel dans lesens source drain (Oy) : Plus les jonctions sont proches plus le potentiel se courbe le long <strong>du</strong> canal <strong>et</strong>le dopage effectif diminue. A partir de c<strong>et</strong>te équation, les eff<strong>et</strong>s SCE peuvent être calculé. A V DS =0, lepotentiel est de la forme suivante :φZCE2Ψ ( x) = − x + φ2SIV- 53LOù Φ ZCE est la chute de tension dans la zone de charge espacekT ⎛ NLDD N ⎞chφZCE= ln ⎜ 2 ⎟q ⎝ ni⎠En reprenant le calcul de la tension de seuil avec IV- 52, on obtient [5] :chdep ox Si1 2LchεoxZCEIV- 54T T εSCE = ξ φIV- 55Avec un paramètre de calibrage ξ 1 , qui perm<strong>et</strong> de r<strong>et</strong>rouver les résultats des simulations ou desmesures. De la même manière, en supposant qu’au seuil, en fonction de la polarisation de drain lepotentiel est de la forme suivante :VDS2Ψ ( x) = − x + φ2SIV- 56LLe DIBL vaut :chT T εDIBL = ξ VIV- 57dep ox Si2 2LchεoxAvec un paramètre de calibrage ξ2, qui perm<strong>et</strong> de r<strong>et</strong>rouver les résultats des simulations ou desmesures. Ces eff<strong>et</strong>s sont purement électrostatiques car les mesures se font sous le seuil où le <strong>transport</strong>électronique n’est pas d’influence sur les mesures.DS4.4.3. Définition de SCE top <strong>et</strong> DIBL topMais lorsque le MOSFET est à l’état passant, à V GS = V dd, les eff<strong>et</strong>s canaux courts pour le calcul de lacharge en haut de la barrière de potentiel ne sont pas identiques à ceux sous le seuil. Ils évoluent avecles polarisations. Pour quantifier c<strong>et</strong> eff<strong>et</strong>, le MOSFET référence est simulé en Dérive Diffusion à V DS= 0 pour différents V GS , puis la charge <strong>et</strong> l’eff<strong>et</strong> SCE en haut de la barrière de potentiel sont évalués. Lavariation de SCE en haut de la barrière de potentiel est reportée sur la Figure IV- 46. A V GS = V th onr<strong>et</strong>rouve la valeur <strong>du</strong> SCE classique, ensuite les eff<strong>et</strong>s canaux courts diminuent car la charge in<strong>du</strong>itepar la grille écrante les zones de déplétions qui sont à l’origine <strong>du</strong> SCE [35] comme illustré sur laFigure IV- 47. Par conséquent, il est nécessaire de réévaluer la tension Φ ZCE pour calculer SCE.- 155 -

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