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UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID

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Acción de la radiación sobre los materiales utilizados en el diseño electrónico<br />

⎡ ⎛ KA 2· K ⎞ ⎤<br />

E<br />

n= n0·1<br />

⎢ − ⎜ + · Φ<br />

⎣ ⎝ ND 1 + KE·<br />

Φ⎠<br />

⎦ ⎥ ⎟ (2.7)<br />

Y para un semiconductor tipo p:<br />

⎡ K ⎤ A<br />

p = p0<br />

·1 ⎢ − · Φ⎥ (2.8)<br />

⎣ N A ⎦<br />

siendo KA y KE constantes relacionadas con los centros A y E y NA, ND la concentración de<br />

impurezas. En el caso del Si, KA = 0.3-0.7 cm -1 , KE = 1.2·10 -17 cm -1 . Un efecto curioso es la<br />

“inversión n ⇒ p”, observada en semiconductores n muy poco dopados [RD483]. A causa de la<br />

eliminación de electrones en el semiconductor, la concentración de huecos puede superar a la de<br />

aquellos, transformándose el semiconductor tipo n en otro tipo p. Este fenómeno acontece en<br />

detectores de partículas, que son uniones PIN muy poco dopadas para aumentar la resistividad y<br />

sometidas a un intenso bombardeo con partículas pesadas.<br />

Por otra parte, los defectos de la red cristalina (vacantes, intersticios, centros, etc.)<br />

constituyen un obstáculo para la propagación de los portadores con lo que la movilidad de los<br />

portadores de la red se reduce. Se acepta que la reducción de la movilidad sigue una ley tipo<br />

Messenger-Spratt [MA92, p. 248]:<br />

1 1 Φ<br />

= + (2.9)<br />

µ µ 0 K µ<br />

La movilidad en un semiconductor depende de la interacción con los fonones y con los<br />

defectos de la red. A temperaturas medias y altas, la primera componente es mucho más<br />

importante que la segunda [Pav87, p. 284]. Por tanto, el descenso de la movilidad es mínimo a<br />

temperatura ambiente. Sólo es importante a bajas temperaturas puesto que la movilidad del<br />

semiconductor es mucho mayor al no existir fonones que interaccionen con los portadores.<br />

Estos dos efectos tienen como consecuencia que la resistividad del material aumenta<br />

considerablemente. La predicción del valor de la resistividad puede realizarse a partir de las<br />

ecuaciones (2.7)-(2.9). Sin embargo, por sencillez se prefiere utilizar una aproximación<br />

exponencial para la resistividad [MA92, p. 246]:<br />

ρ<br />

Φ / Knp<br />

,<br />

np , n0, p·e<br />

0<br />

ρ = ρ<br />

(2.10)<br />

Las constantes K N<br />

ρ y K P<br />

ρ , que se miden en n·cm -2 , dependen del dopado inicial del<br />

semiconductor. Se sabe que dependen del dopado del semiconductor y se determinó<br />

experimentalmente las siguientes relaciones:<br />

K 444· N<br />

ρ 0.77<br />

N = D<br />

0.77<br />

A<br />

(2.11)<br />

ρ<br />

K = 387· N<br />

(2.12)<br />

P<br />

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