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UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID

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39<br />

Efectos de la radiación sobre componentes electrónicos básicos<br />

En un semiconductor intrínseco, el nivel de Fermi se encuentra alrededor del centro de la<br />

banda prohibida. En cambio, en un semiconductor tipo n, el nivel de Fermi se desplaza hacia la<br />

banda de conducción en tanto que, en otro de tipo p, se desplaza hacia la banda de valencia.<br />

Cuando se unen dos muestras de distinto dopado, al estar en equilibrio térmico, los niveles de<br />

Fermi de ambas zonas se igualan. Como consecuencia de esto, las bandas de conducción y de<br />

valencia se deforman en la zona de contacto de ambas muestras.<br />

Prácticamente, cada una de las zonas están repletas de portadores de un único signo. Al<br />

producirse la unión, los portadores mayoritarios de cada zona se difunden hacia la zona de<br />

dopado opuesto. Las zonas cercanas a la unión se vacían de portadores quedando únicamente las<br />

cargas asociadas a las impurezas, que están ancladas en la red cristalina. Estas cargas crean un<br />

campo eléctrico que compensa la difusión de portadores.<br />

Fig. 3.6 muestra el vaciamiento de cargas en una unión PN y fig. 3.7 el combamiento de las<br />

bandas del semiconductor. Se ha supuesto que la unión PN es abrupta. En la zona n, las únicas<br />

cargas que existen son las impurezas donoras cargadas positivamente en tanto que en la zona p<br />

son las aceptoras, que están cargadas negativamente.<br />

La diferencia de tensión existente entre ambas zonas se denomina “tensión de contacto”,<br />

VBI, que se calcula de la siguiente forma:<br />

KT ⎡ N AN ⎤ ⎡ D NAN ⎤ D<br />

VBI= EFn , − EFi , + EF, p− EFi , = ·ln ⎢ V ·ln<br />

2 ⎥ = T ⎢ 2 ⎥<br />

(3.3)<br />

e ⎣ ni ⎦ ⎣ ni<br />

⎦<br />

siendo K la constante de Boltzmann, T la temperatura absoluta, e la carga del electrón y ni<br />

la concentración intrínseca de portadores. VT = K·T/e se conoce como “Tensión térmica<br />

equivalente”. Evidentemente, VBI es también la diferencia que existe entre los extremos de la<br />

banda de conducción (o valencia). La anchura de la zona libre de portadores con tensión aplicada<br />

V, W, se determina de la siguiente forma:<br />

2· ε ⎛ 1 1 ⎞<br />

S W = · ( VBI − V)<br />

⎜ + ⎟<br />

(3.4)<br />

e ⎝ ND NA<br />

⎠<br />

En este caso, εS es la constante dieléctrica del semiconductor y V la tensión aplicada entre<br />

la zona p y n. Cuando V se hace negativa en polarización inversa, la anchura de la región de<br />

vaciamiento es mayor.<br />

3.4.1 Mecanismos de conducción de una unión PN<br />

Una unión PN está en directa cuando la tensión entre la zona p y la n es positiva,<br />

circunstancia en la que se permite el paso de una gran cantidad de corriente. Se encontrará en<br />

inversa en caso contrario y la corriente será prácticamente nula. El comportamiento eléctrico de<br />

esta estructura se modela aceptando que se superponen varios mecanismos, que se detallan a<br />

continuación:

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