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UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID

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Capítulo 3<br />

muestra la evolución de la ganancia de<br />

diversos transistores agrupados en<br />

distintas familias. Como puede<br />

apreciarse, los transistores de radiofrecuencia<br />

son los más resistentes a la<br />

radiación de neutrones, como se<br />

predice en (3.38).<br />

Los transistores más sensibles<br />

son los transistores de potencia. La<br />

causa está en que un transistor de<br />

Fig. 3.16: Evolución de la ganancia de transistores bipolares en<br />

función de su comportamiento en frecuencia [Gov84].<br />

potencia debe ser capaz de soportar<br />

tensiones BC en inversa de centenares<br />

de voltios. Esto se consigue incrementando la longitud de la base y del colector para evitar que<br />

se produzca una ruptura por avalancha. Sin embargo, el incremento de la longitud de base<br />

conlleva una disminución de la frecuencia máxima de trabajo y esto disminuye la tolerancia del<br />

transistor a la radiación.<br />

Por otra parte, hay que reseñar que el grupo de los fototransistores no han sido incluidos en<br />

fig. 3.16. Estos transistores se construyen de tal forma que su base sea muy amplia para aumentar<br />

el valor de la corriente inducida por la luz. A causa de esto, su ganancia decrece con mucha<br />

rapidez a causa de la radiación.<br />

En general, cuanto mayor sea la anchura de la base de un transistor, menor es la<br />

tolerancia a la radiación. Este hecho también puede extenderse a los circuitos bipolares<br />

integrados. Por esta causa, los transistores PNP construidos en tecnología lateral, cuyas bases<br />

suelen ser muy grandes, son extremadamente sensibles al daño por desplazamiento. Fig. 3.17<br />

muestra la degradación calculada por Rax et alt [Rax99] de dos transistores bipolares de<br />

diferente tecnología pero con objetivo similar: Formar parte de la etapa de entrada de diversos<br />

circuitos integrados. En ella se aprecia la mayor tolerancia de los transistores epitaxiales<br />

comparados con los transistores laterales.<br />

Existe un mecanismo adicional que hace que este parámetro sea incluso menor [Den00].<br />

Imaginemos que un transistor es polarizado con una intensidad de base IB y con una corriente de<br />

colector IC. Debido a las corrientes de generación-recombinación, IB = IB,DIF + IB,G-R e IC =<br />

β·IB,DIF. Al ser irradiado el transistor, la componente de generación-recombinación aumenta a<br />

costa de la corriente de difusión. En consecuencia, la corriente de colector también disminuye y,<br />

por tanto, también lo hace hFE.<br />

El valor de hFE de un transistor irradiado es similar al mostrado en fig. 3.18. Antes de la<br />

irradiación, apenas hay influencia de las corrientes de generación-recombinación: La ganancia es<br />

levemente inferior a la nominal sólo en la zona de bajas intensidades y es prácticamente<br />

constante a partir de un cierto valor. En cambio, tras la irradiación, la corriente de generaciónrecombinación<br />

aumenta y su influencia se hace cada vez mayor. Cuanto más pequeña sea la<br />

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