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UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID

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V<br />

P0<br />

2<br />

qa N D<br />

67<br />

Efectos de la radiación sobre componentes electrónicos básicos<br />

= (3.41)<br />

2ε<br />

S<br />

VP= VBI − VP0<br />

(3.42)<br />

VDSAT = VP0 −( VBI− VGS)<br />

(3.43)<br />

donde µN es la movilidad de los portadores en el semiconductor, q la carga del electrón, ND<br />

la concentración de portadores en el canal, W la anchura del canal, a su profundidad (distancia<br />

entre la unión y el substrato), L la longitud del canal, εs la permitividad dieléctrica del<br />

semiconductor, VDSAT la tensión de saturación y VBI la tensión de contacto en la unión PN,<br />

calculada con (3.3). Se ha representado en fig. 3.24 la relación existente entre la tensión VDS y la<br />

corriente IDS para distintos valores de VGS en un transistor JFET de canal n.<br />

Fig. 3.24: Corriente que atraviesa un transistor N-JFET ideal en función de la tensión de puerta y de drenador.<br />

En el caso de una unión metal-semiconductor, la tensión VBI debe calcularse a partir de las<br />

alturas de barrera. En el caso de que el transistor sea de canal p, la tensión VGS, VP son positivas.<br />

La ecuación (3.39) es bastante exacta aunque trabajar con potencias fraccionarias es<br />

relativamente engorroso. Por esta causa, se suele utilizar una función cuadrática, que describe<br />

más o menos correctamente la relación V-I de un transistor JFET. Esta ecuación sería:<br />

⎧<br />

⎪<br />

⎪0,<br />

si 0 > V > V<br />

P GS<br />

⎪<br />

2<br />

⎪<br />

⎡⎛ V ⎞ 1 ⎛ ⎞ ⎤<br />

GS VDS<br />

'<br />

DS = ⎨I ⎢⎜1− ⎟ − ⎜ ⎟ ⎥,<br />

< < 0, <<br />

DSS DS V V V V<br />

P GS DS DSAT<br />

⎢⎝ VP ⎠ 2 ⎝ VP<br />

⎠DS<br />

⎥<br />

I V<br />

⎪ ⎣ ⎦<br />

⎪<br />

2<br />

⎪ ⎛ V ⎞ GS<br />

⎪I<br />

⎜1−⎟ , si V < V < 0, V > V<br />

DSS P GS DS<br />

⎩ ⎝ VP<br />

⎠<br />

Siendo:<br />

´<br />

DSAT GS P<br />

'<br />

DSAT<br />

(3.44a-c)<br />

V = V −V<br />

(3.45)

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