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UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID

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79<br />

Efectos de la radiación sobre componentes electrónicos básicos<br />

La capacidad asociada a un<br />

condensador MOS ideal se ha<br />

representado en fig. 3.34. Como puede<br />

verse, tiene un mínimo valor en torno a<br />

0 V pero se incrementa a medida que<br />

aumenta la tensión de puerta a causa<br />

del incremento de las regiones de<br />

vaciamiento. En un condensador real,<br />

se observa que la transición no se<br />

produce a 0 V sino que es una tensión<br />

menor (3.34-Preirradiation). La causa Fig 3.34: Evolución de la capacidad de un transistor NMOS<br />

de este desplazamiento es la presencia<br />

irradiado [Zai66].<br />

de carga atrapada en el óxido durante el proceso de fabricación. Esta diferencia es utilizada de<br />

forma habitual para conocer la carga total atrapada en un transistor MOSFET a través de la<br />

siguiente fórmula:<br />

qN · = C · ∆ V<br />

(3.60)<br />

OX OX<br />

siendo NOX el número de cargas atrapadas en el óxido, COX la capacidad del óxido y ∆V la<br />

diferencia entre el valor ideal y el teórico. Si se irradia el transistor, se observan dos efectos. Por<br />

un lado, la gráfica se desplaza hacia la izquierda. Sin embargo, la gráfica ya no es un calco de la<br />

obtenida antes de la irradiación (3.34-Postirradiation) ya que se ha producido una leve<br />

deformación en el transistor irradiado a causa de la existencia de estados superficiales de la<br />

interfaz óxido-semiconductor. Estos estados influyen en el valor del potencial de superficie y<br />

disminuyen la pendiente máxima en la relación entre la capacidad y la tensión de puerta.<br />

3.8.6 Efectos de la radiación ionizante en transistores MOS. Variación de la<br />

movilidad superficial y variación de la transconductancia.<br />

El último efecto que se produce en transistores MOSFET sometidos a radiación ionizante<br />

es la disminución de la movilidad superficial, ya que los estados de superficie dificultan el<br />

movimiento de los portadores. La movilidad de éstos depende del número de trampas creadas<br />

por los estados de superficie y puede calcularse con la expresión (2.20).<br />

Esta disminución de la movilidad tiene una serie de consecuencias importantes. En primer<br />

lugar, la transconductancia β de los transistores disminuye proporcionalmente a la movilidad,<br />

observándose también una disminución en los valores de la ganancia en pequeña señal del<br />

transistor, la resistencia equivalente en la zona óhmica, etc.<br />

3.9 El ruido en componentes irradiados<br />

Las principales fuentes de ruido inherente a los dispositivos electrónicos son el ruido<br />

térmico, el ruido de disparo y el ruido flicker [Gra95]. Los dos primeros son independientes de la

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