PHOTONIQUE POUR LES LASERS À CASCADE QUANTIQUE ...

tel-00740111, version 1 - 9 Oct 2012
Annexes
A.1 Procédés de fabrication
A.1.1 Introduction
Dans cette annexe nous présenterons brièvement les principales étapes
de fabrication en salle blanche des dispositifs que j’ai utilisées durant cette
thèse. Mis à part le report de substrat, et l’épitaxie des échantillons, toutes
les étapes de fabrication ont été effectuées à la centrale technologique de
l’IEF : MINERVE.
A.1.2 Lithographie optique
La lithographie consiste à reproduire une image d’un masque sur un
échantillon. Pour la lithographie optique, le masque est un support de
verre, sur lequel l’image est “imprimée” avec du chrome. Les parties chromées
seront alors opaques aux rayonnements UV, et le reste du masque
sera transparent. Afin de transférer l’image sur l’échantillon, celui-ci est
préalablement recouvert d’une résine photosensible, dont la solubilité dans
un développeur adéquat dépend de l’exposition aux UVs.
Il existe différents types de résine, et selon la recette utilisée, elles
peuvent être positives ou négatives. Pour une résine positive, la forme de
la résine sur l’échantillon sera la même que celle du masque, c’est à dire
que les parties de l’échantillon correspondant à celles chromées sur le
masque, seront recouvert de résine.
Pour les résines négatives, ou inversibles, la résine sur l’échantillon
aura la forme complémentaire de la figure chromée sur le masque.
A.1.3 Gravure humide
J’ai utilisé plusieurs types de gravure humide (solutions acides)
1) Solutionà
base
d’acide sulfurique. La composition de la solution est
H2SO4 H2O2 H2O . Cette solution attaque le matériau GaAlAs,
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