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aktuell | Forschung<br />
Lichtstarke weiße Dioden mit<br />
und ohne Phosphorbeschichtung<br />
Bislang werden weiße LEDs aus<br />
blau emittierenden Halbleiterdioden<br />
gefertigt, deren Gehäusewand<br />
mit einem gelb phosphorisierenden<br />
Material beschichtet<br />
ist. Erst die Phosphorschicht<br />
wandelt das blaue Licht<br />
in weißes um. Man erkennt<br />
die sogenannten Pseudo-White<br />
LEDs im ausgeschalteten Zustand<br />
an ihrer von außen sichtbaren<br />
Gelbfärbung. Cree, neben<br />
Philips einer der weltweit größten<br />
LED-Hersteller, will das konvertierende<br />
Material jetzt direkt<br />
auf dem Halbleiterchip deponieren<br />
und damit in das Diodeninnere<br />
verbannen.<br />
Wie aus einem im November<br />
veröffentlichten US-Patent hervorgeht,<br />
will das in Durham in<br />
North Carolina beheimatete<br />
Unternehmen mit Lasertechnik<br />
schmale Gräben in das Halbleitersubstrat<br />
fräsen und diese im<br />
Spin-Coating-Verfahren durch<br />
schnelle Rotation des Wafers mit<br />
dem gelb leuchtendem Material<br />
füllen. Die Füllung soll Teile des<br />
blauen Licht vom GaN-Übergang<br />
(Galliumnitrid) in ein breitbandiges<br />
weißes Licht wandeln. Zugleich<br />
will Cree durch eine geschickte<br />
Formung der Gräben<br />
die Lichtausbeute der Dioden erhöhen.<br />
Wenn statt des üblicherweise<br />
verwendeten LED-Phosphors<br />
ein halbleitendes Nanokristall<br />
wie Cadmiumselenid (CdSe)<br />
eingefüllt würde, ließe sich die<br />
emittierte Wellenlänge gezielter<br />
steuern, so die Forscher. An Stelle<br />
der Spin-Coating-Verfahrens<br />
nennt Cree im Patent auch die<br />
Möglichkeit, die Gräben im Tintendruck-<br />
oder mit einer Art Airbrush-Technik<br />
zu befüllen.<br />
Am französischen Forschungszentrum<br />
CRHEA/CNRS (Centre de<br />
Recherche sur l’Hétéro-Epitaxie<br />
et ses Applications/Centre National<br />
de la Recherche Scientifique)<br />
gehen die Wissenschaftler noch<br />
einen Schritt weiter: Sie haben<br />
eine weiße LED entwickelt, deren<br />
Halbleiterchip selbst blaues und<br />
gelbes Licht emittiert. Durch die<br />
Kombination des blauen und<br />
In der MBE-Anlage (Molecular Beam Epitaxy) am französischen<br />
Forschungszentrum CRHEA werden weiße LEDs erzeugt, die<br />
ohne Phosphorbeschichtung auskommen.<br />
gelben Lichts entsteht wie bei<br />
herkömmlichen Pseudo-White-<br />
LEDs beim Austritt weißes Licht.<br />
Die Physiker des CRHEA bedienten<br />
sich dazu sogenannter<br />
Quantenquellen, die als zusätzliche<br />
Schicht an den pn-Übergang<br />
der Halbleiterdiode gefügt<br />
werden. Die Erweiterung ist nicht<br />
neu, doch bislang hatte man<br />
die gelbes Licht produzierende<br />
Quantenquelle stets direkt in den<br />
pn-Übergang gelegt. Die Wellenlänge<br />
des emittierten Lichts hing<br />
dadurch von der Menge der injizierten<br />
Ladungsträger und damit<br />
von der Stromstärke durch die<br />
Diode ab; die Effizienz der Diode<br />
wurde zudem durch die Effizienz<br />
der gelb strahlenden Quantenquelle<br />
begrenzt.<br />
Wie in den Applied Physics<br />
Letters berichtet, platzierten die<br />
CRHEA-Forscher die Quantenquelle<br />
aus Galliumindiumnitrid<br />
(GaInN) nun erstmals außerhalb<br />
(oberhalb) des für die blaue Lichtemission<br />
zuständigen III-V-Halbleiterübergangs<br />
aus Galliumnitrid.<br />
Auf diese Weise wurde die<br />
Quantenquelle in der Diode nicht<br />
mehr elektrisch, sondern optisch<br />
gespeist: Einige der emittierten<br />
blauen Photonen werden in der<br />
Quantenquelle absorbiert, wodurch<br />
gelbe Photonen freigesetzt<br />
werden und in der Mischung helles<br />
Weißlicht erzeugen. (uk)<br />
Transparente Speicherchips<br />
Wissenschaftler aus Südkorea<br />
präsentierten kürzlich einen nicht<br />
flüchtigen Speicherbaustein, der<br />
fast völlig durchsichtig ist. Die<br />
Gruppe um Jae-Woo Park vom<br />
Korea Advanced Institute of<br />
Science and Technology (KAIST)<br />
in Daejeon nennt ihr Bauelement<br />
TRRAM, „Transparent Resistive<br />
Random Access Memory“ – angelehnt<br />
an einen neueren Speichertyp<br />
namens RRAM, dessen Entwicklung<br />
seit geraumer Zeit<br />
Bild: Jung Won Seo, KAIST<br />
Zur Datenspeicherung in<br />
TRRAMs nutzen die Forscher<br />
die sprunghafte Änderung<br />
des elektrischen Widerstands<br />
einiger Metalloxide bei Anlegen<br />
einer hohen Spannung.<br />
Unternehmen wie Sharp, Samsung<br />
oder Fujitsu vorantreiben.<br />
RRAM beruht darauf, dass manche<br />
Dielektrika – also elektrisch<br />
isolierenden Materialien – bei<br />
einer ausreichend hohen Spannung<br />
plötzlich einen deutlich geringeren<br />
elektrischen Widerstand<br />
aufweisen. Die Widerstandsänderung<br />
ist über einen weiteren<br />
Spannungswert umkehrbar.<br />
Für ihre TRRAMs nutzten die<br />
Koreaner aus, dass bestimmte<br />
Oxide aus der Gruppe der Übergangsmetalle<br />
im sichtbaren Bereich<br />
transparent sind. Wie Park<br />
und seine Kollegen in der Fachzeitschrift<br />
Applied Physics Letters<br />
ausführen, ist es dann nur nötig,<br />
das Dielektrum aus Metalloxid<br />
zwischen zwei transparente<br />
Elektroden zu stecken und ein<br />
durchsichtiges Substrat zu verwenden.<br />
In Kombination mit anderen<br />
durchsichtigen elektronischen<br />
Komponenten denken die<br />
Forscher an ganz und gar transparente<br />
Geräte wie beispielsweise<br />
Displays. Anfang August<br />
hatten die Wissenschaftler am<br />
KAIST dazu durchsichtige Dünnfilmtransistoren<br />
auf Titandioxid-<br />
Basis vorgestellt.<br />
RRAM gilt neben den ebenfalls<br />
nichtflüchtigen FRAM (Ferroelektrisch),<br />
MRAM (Magnetoresistiv)<br />
und PRAM (Phase-change)<br />
als Newcomer unter den Alternativen<br />
zu Flashspeichern auf<br />
CMOS-Basis. Man erhofft sich<br />
von ihnen einen niedrigen Energieverbrauch<br />
und auch geringere<br />
Herstellungskosten bei guter<br />
Performance und hohen Speicherdichten.<br />
Allerdings ist der<br />
Effekt der Widerstandsänderung<br />
noch nicht völlig geklärt (siehe<br />
auch c’t 19/07, S. 44).<br />
Dabei mutet das Prinzip einer<br />
RRAM-Zelle recht einfach an: Sie<br />
ist nichts anderes als ein Kondensator,<br />
für den ein Sandwich<br />
nanometerdünner Schichten auf<br />
ein Substrat aufgebracht wird.<br />
Bei den Koreanern ist das ein<br />
Glasplättchen, wobei prinzipiell<br />
auch flexible Kunststoffe in<br />
Frage kommen. Für die beiden<br />
äußeren Lagen, die als Elektroden<br />
dienen, wählten die KAIST-<br />
Wissenschaftler Indiumzinnoxid<br />
(ITO) – sonst das Material der<br />
Wahl für transparente Elektroden<br />
in LCDs –, und als Dielektrikum<br />
dazwischen Zinkoxid (ZnO).<br />
Das fertige Element unterzog<br />
das Team verschiedenen Messungen.<br />
Optische Untersuchungen<br />
ergaben einen Transmissionsgrad<br />
des gesamten Bausteins inklusive<br />
Substrat von 81 Prozent.<br />
Aufgenommene Schaltcharakteristiken<br />
zeigten, dass schon Spannungswerte<br />
unter drei Volt den<br />
Widerstand hoch oder niedrig<br />
schalten. Die Forscher extrapolierten,<br />
dass der Baustein die<br />
Daten voraussichtlich länger als<br />
zehn Jahre halten kann. Außerdem<br />
beobachteten sie bei<br />
immerhin 100 Schaltzyklen keine<br />
nennenswerte Verschlechterung<br />
des Schaltverhaltens. TRRAM sei,<br />
so die Forscher, einfach herzustellen,<br />
und auch zum eher teuren Indiumzinnoxid<br />
gäbe es bereits<br />
Alternativen. Sie glauben, dass<br />
die transparenten TRRAM-Chips<br />
schon in drei bis vier Jahren<br />
marktreif sein könnten.<br />
(Veronika Winkler/uk)<br />
26 c’t 2009, Heft 2<br />
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