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Modélisation de l'évaporation de gouttes multi-composants

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CHAPITRE 4 MODELISATION NUMERIQUELes modèles à thermodynamique continuePour les modèles à thermodynamique continue, 3 modèles ont été développés :Le modèle à diffusion infinieLe modèle à diffusion limitéeLe modèle à diffusion effectiveTous ces modèles peuvent être utilisés avec n’importe quel nombre <strong>de</strong> groupes <strong>de</strong><strong>composants</strong>. Cependant, il faut distinguer le cas où le mélange n’est représenté que par uneseule fonction <strong>de</strong> distribution. En effet, la diffusion d’un groupe <strong>de</strong> <strong>composants</strong> liqui<strong>de</strong>s dansce même groupe <strong>de</strong> <strong>composants</strong> pose problème. Dans ce cas, il faut considérer que lacomposition (c’est à dire les paramètres <strong>de</strong> distribution) est uniforme dans la goutte pour lesmodèles à diffusion limitée et effective, contrairement au profil <strong>de</strong> température.La pression <strong>de</strong> vapeur saturante est une donnée importante car elle détermine la composition<strong>de</strong> la vapeur à la surface <strong>de</strong> la goutte et donc le débit <strong>de</strong> vapeur <strong>de</strong> chaque espèce. Dans lesmodèles à <strong>composants</strong> discrets, elle peut être déterminée précisément par l’expression <strong>de</strong>Clausius-Clapeyron ou la loi d’Antoine [37] qui s’écrivent respectivement :Psat= ⎡l⎛ ⎞⎤∞ vM1 1P exp ⎢⎜ −⎟⎥⎣ R ⎝ T T avec Tb ⎠⎦b=lvbMlvbRTMnbR− ln∞( P )(4.1)Bln ( P sat) = A −(4.2)T + Coù R est la constante universelle <strong>de</strong>s gaz parfaits, P ∞ est la pression au loin (en atm). T nb est latempérature normale d’ébullition à la pression atmosphérique (1atm) et T b est la températured’ébullition à la pression P ∞ . A, B et C sont les coefficients <strong>de</strong> l'équation <strong>de</strong> pression <strong>de</strong>vapeur d'Antoine déterminés expérimentalement.Ces <strong>de</strong>ux équations sont <strong>de</strong>s expressions discrètes pour chaque composant. Dans le modèle àthermodynamique continue, elles ne peuvent être appliquées car l’expression <strong>de</strong> la pression <strong>de</strong>vapeur saturante doit être intégrée sur la distribution avec la loi <strong>de</strong> Raoult :∞∫γns( I ) I I = x P ( I )∞ s( P ) f ( I )∞d ∫ j,l sat,jj,lγsnxj, vfj,vI dI(4.3)La pression <strong>de</strong> vapeur saturante doit alors être écrite sous une forme continue en fonction <strong>de</strong>la variable <strong>de</strong> distribution I. Son expression doit rester simple pour calculer une solutionanalytique lors <strong>de</strong> son intégration dans l’équation (4.3) car elle sera pondérée pars j l( I ) Inf ,.Hallett et al. [14,15,16,17] proposent l’expression <strong>de</strong> Clausius-Clapeyron avec la loi <strong>de</strong>Trouton pour l’entropie <strong>de</strong> vaporisation s fg :118

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