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Streuung von Röntgenstrahlen an selbstorganisierten Halbleiter ...

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2 Epitaktisches Wachstum<br />

Unter epitaktischem Wachstum versteht m<strong>an</strong> das orientierte Aufwachsen einer kristallinen Schicht<br />

auf ein Substratmaterial. M<strong>an</strong> unterscheidet die Homo- und Heteroepitaxie. Bei der Homoepitaxie<br />

bestehen Schicht und Substrat aus dem gleichen Material und besitzen folglich die gleiche kristallographische<br />

Struktur. Im Fall der Heteroepitaxie sind Schicht- und Substratmaterial unterschiedlich.<br />

Falls der Gitterparameter der Schicht verschieden <strong>von</strong> der des Substrates ist, kommt es mit<br />

zunehmender Schichtdicke zum Aufbau <strong>von</strong> Deformationsenergie, die über verschiedene Prozesse<br />

abgebaut werden k<strong>an</strong>n. Dabei unterscheidet m<strong>an</strong> zwischen elastischer Relaxation, bei der die<br />

Gitterkohärenz <strong>an</strong> der Grenzfläche erhalten bleibt und plastischer Relaxation, die beispielweise<br />

durch den Einbau <strong>von</strong> Fehlpassungsversetzungen <strong>an</strong> der Grenzfläche stattfindet.<br />

Im folgenden Unterkapitel 2.1 werden die für diese Arbeit wichtigen Zusammenhänge aus der<br />

linearen Elastizitätstheorie wiederholt, wobei speziell auf eine Koordinatentr<strong>an</strong>sformation der<br />

elastischen Konst<strong>an</strong>ten eingeg<strong>an</strong>gen wird. Kap. 2.2 stellt die drei phänomenologisch unterschiedlichen<br />

Volmer-Weber-, Fr<strong>an</strong>k-v<strong>an</strong> der Merve- und Str<strong>an</strong>ski-Krast<strong>an</strong>ow Wachstumsmodi bei<br />

der Epitaxie vor. Für die Herstellung <strong>von</strong> <strong>Halbleiter</strong>-Heterostrukturen haben sich verschiedene<br />

Wachstumsmethoden wie z.B. die Flüssigphasenepitaxie (LPE), Molekularstrahlepitaxie (MBE),<br />

Metall-Org<strong>an</strong>ische Gasphasenepitaxie (MOCVD) und die Gas Source MBE (GSMBE) etabliert.<br />

Sowohl MBE als auch MOCVD sind im wesentlichen durch wachstumskinetische Faktoren<br />

bestimmt und erlauben atomar glattes Wachstum. Sehr große Diffusionslängen und eine geringe<br />

Übersättigung bei der LPE realisieren ein Wachstum vergleichsweise nah am thermodynamischen<br />

Gleichgewicht, so dass thermodynamische Faktoren diese Methode limitieren. Alle in dieser Arbeit<br />

untersuchten Proben wurden im Str<strong>an</strong>ski-Krast<strong>an</strong>ow Modus mittels LPE bzw. GSMBE gezüchtet.<br />

Die Besonderheiten beim Wachstum aus der flüssigen Phase werden in Kap. 2.3 besprochen. Im<br />

Unterkapitel 2.4 werden neben dem Prozeß der Entstehung einer einzelnen Insel zwei Wege der<br />

Entstehung <strong>von</strong> Inselketten diskutiert.<br />

2.1 Lineare Elastizitätstheorie<br />

Die fundamentale Annahme der linearen Elastizitätstheorie, die interatomaren durch harmonische<br />

Potentiale zu nähern, hat zur Folge, dass die Auslenkung der aufgew<strong>an</strong>dten Kraft proportional ist.<br />

Im Limit kleiner Deformationen wird diese Näherung zunehmend besser erfüllt, und erst bei<br />

großen Deformationen ergeben sich Abweichungen im Vergleich zu einem atomistischen Modell<br />

[PKW98]. In diesem Zusammenh<strong>an</strong>g ist wichtig, zu bemerken, dass der Elastizitätstheorie ein<br />

Kontinuumsmodell zugrunde liegt, somit die atomare Struktur unberücksichtigt bleibt. Die<br />

Deformationsfelder in den untersuchten Strukturen wurden ausschließlich numerisch mittels der<br />

auf linearer Elastizitätstheorie basierenden Methode der Finiten Elemente bestimmt. In diesem<br />

Kapitel werden die notwendigen Grundlagen kurz referiert. Sehr ausführliche Beschreibungen der<br />

Elastizitätstheorie finden sich u.a in [HiL82] und [LaL83].<br />

Unterschiedliche Materialien bei der Heteroepitaxie verursachen eine Deformation des Kristalls in<br />

Hinblick auf die freien Einzelkomponenten. Die Verschiebung der Atompositionen in Bezug auf

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