Bulletin 2009/49 - European Patent Office

(G03F) I.1(2)
(54) • Härtung von lichthärtbaren Druckplatten
mit flachem oder rundem Oberteil
• Curing of photo-curable printing plates
with flat tops or round tops
• Durcissement de plaques d'impressions
photo-durcissables permettant d'obtenir
des sommets plats ou arrondis
(71) Esko-Graphics Imaging GmbH, Heerskamp
6, 25524 Itzehoe, DE
(72) Sievers, Wolfgang, 25569 Kremperheide, DE
(74) Bird, Ariane, et al, Bird Goën & Co. Klein
Dalenstraat 42A, 3020 Winksele, BE
(51) G03F 7/20 (11) 2 128 703 A1
(25) En (26) En
(21) 09161123.6 (22) 26.05.2009
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT
NL NO PL PT RO SE SI SK TR
(30) 28.05.2008 US 71965 P
07.08.2008 US 136030
(54) • Lithographische Vorrichtung und Betriebsverfahren
für die Vorrichtung
• Lithographic Apparatus and a Method of
Operating the Apparatus
• Appareil Lithographique et Procédé d'Exploitation
de l'Appareil
(71) ASML Netherlands BV, 6501, De Run, 5504
DR Veldhoven, NL
(72) Cloin, Christian, 6591 HG, Gennep, NL
Ten Kate, Nicolaas, 4286 EC, Almkerk, NL
Kemper, Nicolaas, 5653 RL, Eindhoven, NL
Stavenga, Marco, 5615 CR, Eindhoven, NL
Eummelen, Erik, 5614 BG, Eindhoven, NL
Riepen, Michel, 5501 CA, Veldhoven, NL
Elisseeva, Olga, 5582 HX, Waalre, NL
Gunther, Wilfred, 3581 LE, Utrecht, NL
Van der Wekken, Michaël, 5622 PC, Eindhoven,
NL
(74) Corcoran, Gregory Martin Mason, ASML
Netherlands Bv De Run 6665, 5504 DT
Veldhoven, NL
G03F 7/20 → (51) H01L 21/027
(51) G03F 7/32 (11) 2 128 704 A2
(25) En (26) En
(21) 09161047.7 (22) 26.05.2009
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT
NL NO PL PT RO SE SI SK TR
(30) 29.05.2008 JP 2008141345
(54) • Verarbeitungsflüssigkeit für die lithografische
Druckplattenentwicklung und Verfahren
zur Herstellung der lithografischen
Druckplatte
• Processing Liquid for Lithographic Printing
Plate Development and Method of Producing
Lithographic Printing Plates
• Liquide de traitement pour le développement
de plaques d'impression lithographique
et procédé de fabrication de
plaques d'impression lithographique
(71) Fujifilm Corporation, 26-30, Nishiazabu 2chome
Minato-ku, Tokyo 106-8620, JP
(72) Hirano, Mitsunori, Shizuoka, JP
Kuramoto, Mamoru, Shizuoka, JP
(74) Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser
Anwaltssozietät, Leopoldstrasse 4,
80802 München, DE
G03F 7/32 → (51) B41N 1/12
(51) G03F 7/34 (11) 2 128 705 A2
(25) En (26) En
(21) 09159569.4 (22) 06.05.2009
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT
NL NO PL PT RO SE SI SK TR
Europäisches Patentblatt
European Patent Bulletin
Bulletin européen des brevets
(30) 27.05.2008 US 130007 P
29.04.2009 US 431780
(54) • Vorrichtung und Verfahren zur Bearbeitung
eines zylindrischen Elements unter Verwendung
einer Klemmenanordnung
• Apparatus and method for treating a
cylindrically-shaped element using a clamp
assembly
• Appareil et procédé pour traiter un élément
de forme cylindrique en utilisant un
ensemble de serrage
(71) E. I. du Pont de Nemours and Company,
1007 Market Street, Wilmington, DE 19898,
US
(72) Luetke, Helmut, 65185, Wiesbaden, DE
Arnold, Carl, Bernard, Newark, DE 19711, US
Joegensen, Soeren, 5260, Odense S., DK
Koch, Andreas, 65185, Wiesbaden, DE
McMillen, Robert, A., Downingtown, PA
19335, US
Vestergaard, IB, 5690, Tommerup, DK
(74) DuPont Performance Coatings Biering/Blum/
Kimpel, Christbusch 25, 42285 Wuppertal,
DE
(51) G03F 7/40 (11) 2 128 706 A1
H01L 21/027
(25) Ja (26) En
(21) 08721759.2 (22) 11.03.2008
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL
NO PL PT RO SE SI SK TR
(86) JP 2008/054343 11.03.2008
(87) WO 2008/114644 2008/39 25.09.2008
(30) 16.03.2007 JP 2007069238
25.09.2007 JP 2007246843
(54) • RESISTMUSTERFORMIERUNGSVERFAH-
REN UND HARZZUSAMMENSETZUNG
ZUR UNLÖSLICHMACHUNG EINES
RESISTMUSTERS
• RESIST PATTERN FORMATION METHOD,
AND RESIN COMPOSITION CAPABLE OF
INSOLUBILIZING RESIST PATTERN
• PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF DE
RESIST ET COMPOSITION DE RESINE
CAPABLE D'INSOLUBILISER UN MOTIF DE
RESIST
(71) JSR Corporation, 6-10, Tsukiji 5-chome
Chuo-ku, Tokyo 104-8410, JP
(72) NAKAMURA, Atsushi, Tokyo 104-8410, JP
NAGAI, Tomoki, Tokyo 104-8410, JP
ABE, Takayoshi, Tokyo 104-8410, JP
KAKIZAWA, Tomohiro, Tokyo 104-8410, JP
(74) TBK-Patent, Bavariaring 4-6, 80336
München, DE
G03F 7/40 → (51) B41N 1/12
(51) G03F 7/42 (11) 2 128 707 A1
H01L 21/027 H01L 21/304
H01L 21/768 H01L 23/522
(25) Ja (26) En
(21) 08721448.2 (22) 06.03.2008
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL
NO PL PT RO SE SI SK TR
(86) JP 2008/054028 06.03.2008
(87) WO 2008/114616 2008/39 25.09.2008
(30) 16.03.2007 JP 2007067838
(54) • REINIGUNGSZUSAMMENSETZUNG UND
PROZESS ZUM HERSTELLEN EINER
HALBLEITERANORDNUNG
• CLEANING COMPOSITION AND PROCESS
FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR
DEVICE
• COMPOSITION DE NETTOYAGE ET PRO-
CEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
SEMI-CONDUCTEUR
555
Anmeldungen
Applications
Demandes (49/2009) 02.12.2009
(71) Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., 5-2,
Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku Tokyo
100-8324, JP
(72) MATSUNAGA, Hiroshi, Tokyo 125-0051, JP
OHTO, Masaru, Tokyo 125-0051, JP
KASHIWAGI, Hideo, Tokyo 125-0051, JP
YOSHIDA, Hiroshi, Tokyo 125-0051, JP
(74) Müller-Boré & Partner Patentanwälte, Grafinger
Strasse 2, 81671 München, DE
(51) G03G 5/04 (11) 2 128 708 A1
(25) En (26) En
(21) 09154999.8 (22) 12.03.2009
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT
NL NO PL PT RO SE SI SK TR
AL BA RS
(30) 30.05.2008 US 129969
(54) • Fotoleiter mit Aminphosphat enthaltender
fotogenerierenden Schicht
• Amine Phosphate Containing Photogenerating
Layer Photoconductors
• Photoconducteurs à couche photogénératrice
contenant un phosphate d'amine
(71) Xerox Corporation, Xerox Square - 20A,
Rochester, NY 14644, US
(72) Wu, Jin, Webster, NY 14580, US
(74) Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser
Anwaltssozietät, Leopoldstrasse 4,
80802 München, DE
(51) G03G 5/10 (11) 2 128 709 A1
G03G 5/14
(25) En (26) En
(21) 09155429.5 (22) 18.03.2009
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT
NL NO PL PT RO SE SI SK TR
AL BA RS
(30) 30.05.2008 US 129977
(54) • Lichtleiter mit Lochblockschicht aus
Phosphonat
• Phosphonate Hole Blocking Layer Photoconductors
• Photoconducteurs à couche de blocage de
trou de phosphonate
(71) Xerox Corporation, Xerox Square - 20 A, 100
Clinton Avenue South, Rochester, New York
14644, US
(72) Wu, Jin, Webster, NY 14580, US
(74) Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser
Anwaltssozietät, Leopoldstrasse 4,
80802 München, DE
(51) G03G 5/14 (11) 2 128 710 A1
(25) En (26) En
(21) 09155295.0 (22) 17.03.2009
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT
NL NO PL PT RO SE SI SK TR
AL BA RS
(30) 30.05.2008 US 129948
(54) • Lichtleiter mit Lochblockschicht aus
selbstvernetzendem Acrylharz und Aminosilan
• Aminosilane and Self Crosslinking Acrylic
Resin Hole Blocking Layer Photoconductors
• Photoconducteurs à couche de blocage de
trou à base de résine acrylique autoréticulante
et d'aminosilane
(71) Xerox Corporation, Xerox Square - 20 A, 100
Clinton Avenue South, Rochester, New York
14644, US
(72) WU, Jin, Webster, NY 14580, US