Estudio de parámetros atómicos y moleculares en ... - FaMAF

Capítulo 7: Determinación de Secciones Eficaces de Ionización en capas K para C, O, Si, Al y Ti ____________
paso de 1 s. La otra medición se realizó desde 0,6° hasta 7° con pasos de 0,004° en 2θ, sin filtro y con
un tiempo por paso de 2 s, para determinar los espesores másicos. Los espectros de XRR fueron
procesados utilizando dos programas de ajuste: la aplicación MotoFit, incluida en el programa IGOR
Pro (270), y el programa X´Pert Reflectivity® de Philips.
Tabla 7.1: Condiciones experimentales para la deposición de las películas sobre sustrato de C y Si.
Espesor
Deposición
Película
nominal
tasa [Å/s] tiempo [s] [nm]
Si 0,3 333 10,0
SiO 2 0,2 580 11,8
Ti 4,2 34 14,3
TiO 2 0,09 1112 10,0
Al 4,5 34 15,3
Al 2 O 3 0,08 1250 10,0
Para las películas depositadas sobre grafito y para el sustrato de grafito solo (sin capa depositada)
se midieron espectros de emisión de rayos x en el microscopio focalizado de haz dual de electrones y
iones de la UFRGS (ver capítulo 3 para más detalles), con el sistema de detección dispersivo en
energías. Estos espectros se midieron en las capas depositadas sobre dicho sustrato debido a que el
carbono es (de los sutratos disponibles) el que menos interfiere en el espectro característico de las
capas. Las mediciones se realizaron con un ángulo de take off de 35º, tiempo vivo de medición de 300
s, distancia muestra-detector de 58 mm y se utilizó una corriente de sonda tal que la corriente de
espécimen resultante fuera de 4 nA. Se midió además, para cada caso, la corriente del haz
correspondiente mediante una copa de Faraday. Las energías de incidencia utilizadas se resumen en la
tabla 7.2. Los espectros de emisión de rayos x fueron procesados con el programa POEMA, al cual le
incorporamos las expresiones necesarias para describir la emisión de una película sobre sustrato
(capítulo 4), incluyendo los efectos de la capa de oxidación superficial para el caso de películas
metálicos. En la próxima sección daremos un resumen de dichas expresiones.
Tabla 7.2: Energías de incidencia utilizadas para la adquisición de espectros de emisión de rayos x de las
películas sobre sustrato de carbono y del sustrato de C sin película depositada.
Muestra Energía [keV]
Si/C y SiO 2 /C 2,5; 3; 4; 5; 7; 10; 15; 20
Ti/C y TiO 2 /C 6; 7; 8; 9; 10; 12; 15; 20; 25
Al/C y Al 2 O 3 /C 2,5; 3; 4; 5; 7; 10; 15; 20
Sustrato C 2,5; 3; 4; 5; 6; 7; 8; 9; 10; 12; 15; 20; 25
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