Estudio de parámetros atómicos y moleculares en ... - FaMAF
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Capítulo 4: <strong>Estudio</strong> <strong>de</strong> Parámetros Experim<strong>en</strong>tales _________________________________________________<br />
Los elem<strong>en</strong>tos comúnm<strong>en</strong>te usados <strong>en</strong> SEM para el recubrimi<strong>en</strong>to son carbono, oro, plata,<br />
platino, paladio y cromo. El oro <strong>en</strong> particular, ti<strong>en</strong>e una tasa alta <strong>de</strong> emisión <strong>de</strong> electrones secundarios,<br />
lo cual mejora la calidad <strong>de</strong> la imag<strong>en</strong>. No obstante, la principal <strong>de</strong>sv<strong>en</strong>taja <strong>de</strong> los recubrimi<strong>en</strong>tos con<br />
oro o plata es su t<strong>en</strong><strong>de</strong>ncia a migrar formando islas o partículas, que empeoran la conductividad<br />
macroscópica y <strong>en</strong>mascaran algunos <strong>de</strong>talles sutiles <strong>de</strong> la superficie. Para imág<strong>en</strong>es <strong>de</strong> muy alta<br />
resolución se usan recubrimi<strong>en</strong>tos con m<strong>en</strong>or tamaño <strong>de</strong> partículas, como platino o cromo. De todas<br />
maneras, para las mejores resoluciones alcanzadas <strong>en</strong> SEM (142) aun esos elem<strong>en</strong>tos ti<strong>en</strong><strong>en</strong> tamaños<br />
<strong>de</strong> grano medible. Para mejorar el po<strong>de</strong>r <strong>de</strong> resolución, se suel<strong>en</strong> usar recubrimi<strong>en</strong>tos <strong>de</strong> osmio, ya que<br />
su tamaño <strong>de</strong> grano es m<strong>en</strong>or y el recubrimi<strong>en</strong>to requerido para lograr conductividad superficial con<br />
este material es <strong>de</strong> alre<strong>de</strong>dor <strong>de</strong> 1 nm, contra los varios nm necesarios para los otros elem<strong>en</strong>tos usados<br />
para el recubrimi<strong>en</strong>to.<br />
Para microanálisis, el carbono suele ser el material elegido, <strong>de</strong>bido a su excel<strong>en</strong>te transpar<strong>en</strong>cia a<br />
los electrones, rayos x y a su bu<strong>en</strong>a conductividad eléctrica. Los efectos que ocurr<strong>en</strong> <strong>en</strong> el<br />
recubrimi<strong>en</strong>to conductor, tales como la at<strong>en</strong>uación y <strong>de</strong>sviación <strong>de</strong> los electrones <strong>de</strong>l haz inci<strong>de</strong>nte,<br />
absorción <strong>de</strong> los rayos x emitidos por la muestra y g<strong>en</strong>eración <strong>de</strong> fotones, g<strong>en</strong>eralm<strong>en</strong>te no son t<strong>en</strong>idos<br />
<strong>en</strong> cu<strong>en</strong>ta <strong>en</strong> EPMA, ya que requier<strong>en</strong> <strong>de</strong>l conocimi<strong>en</strong>to <strong>de</strong>l espesor <strong>de</strong>l recubrimi<strong>en</strong>to conductor, lo<br />
cual no siempre posible. Estos efectos también se produc<strong>en</strong> <strong>en</strong> la capa <strong>de</strong> óxido que suele crecer<br />
espontáneam<strong>en</strong>te <strong>en</strong> muestras metálicas. Luego, <strong>en</strong> análisis típicos <strong>de</strong> muestras metálicas, sobre el<br />
material a analizar existe una capa <strong>de</strong> óxido, sobre la cual suele realizarse el recubrimi<strong>en</strong>to conductor.<br />
Varias técnicas permit<strong>en</strong> medir el espesor <strong>de</strong> una película. Estas técnicas pue<strong>de</strong>n dividirse <strong>en</strong><br />
<strong>de</strong>structivas, tales como la realización <strong>de</strong> secciones transversales <strong>en</strong> microscopía <strong>de</strong> transmisión y<br />
barrido y “sputter <strong>de</strong>pth profiling” (143), y no <strong>de</strong>structivas, como por ejemplo, espectroscopía <strong>de</strong><br />
fotoelectrones (XPS) (144) difracción <strong>de</strong> rayos x (XRD) (145), fluoresc<strong>en</strong>cia <strong>de</strong> rayos x (XRF) (146),<br />
reflectometría <strong>de</strong> rayos x (XRR) (145; 147), elipsometría (148), espectroscopía <strong>de</strong> retrodispersión <strong>de</strong><br />
<strong>de</strong> Rutherford (RBS) (149), emisión <strong>de</strong> rayos x inducida por protones (PIXE) (150), microbalanza <strong>de</strong><br />
cristal <strong>de</strong> cuarzo (QCM) (68), etc. Las principales <strong>de</strong>sv<strong>en</strong>tajas asociadas a las técnicas <strong>de</strong> análisis no<br />
<strong>de</strong>structivo m<strong>en</strong>cionadas están relacionadas con la disponibilidad, resolución lateral, rango <strong>de</strong><br />
espesores permitidos, dificultad <strong>en</strong> el procesami<strong>en</strong>to <strong>de</strong> datos, y necesidad <strong>de</strong> estándares. Por ejemplo,<br />
RBS requiere un acelerador <strong>de</strong> partículas y <strong>en</strong> XPS se necesita ultra alto vacío, a<strong>de</strong>más ambas técnicas<br />
no son comúnm<strong>en</strong>te disponibles. Tampoco son precisas para <strong>de</strong>terminar espesores m<strong>en</strong>ores que 20 nm<br />
y mayores que 10 nm, respectivam<strong>en</strong>te. Otra <strong>de</strong>sv<strong>en</strong>taja <strong>de</strong> RBS es su resolución limitada para<br />
pequeñas difer<strong>en</strong>cias <strong>de</strong> número atómico. Por otro lado, XRD funciona bi<strong>en</strong> sólo para espesores<br />
mayores a 100 nm; los métodos que involucran XRF y PIXE se basan <strong>en</strong> curvas <strong>de</strong> calibración, las<br />
cuales <strong>de</strong>b<strong>en</strong> hacerse para cada configuración particular. Las técnicas <strong>de</strong> XRR y elipsometría ti<strong>en</strong><strong>en</strong><br />
resolución lateral pobre, particularm<strong>en</strong>te <strong>de</strong> algunos mm para esta última, la cual requiere a<strong>de</strong>más un<br />
tratami<strong>en</strong>to <strong>de</strong> datos complicado. Finalm<strong>en</strong>te, para po<strong>de</strong>r realizar <strong>de</strong>terminaciones absolutas con QCM<br />
<strong>de</strong>be realizarse una calibración previa con otra técnica (151; 152).<br />
Los espectros <strong>de</strong> rayos x medidos <strong>en</strong> EPMA pue<strong>de</strong>n usarse para <strong>de</strong>terminar espesores a escala<br />
nanométrica, <strong>en</strong> la cual se <strong>en</strong>cu<strong>en</strong>tran los espesores <strong>de</strong> oxidación espontánea y recubrimi<strong>en</strong>to<br />
conductor. Por ejemplo, se han realizado curvas <strong>de</strong> calibración a partir <strong>de</strong> espectros <strong>de</strong> capas<br />
particulares (151) o sustratos (152; 153). Algunos esfuerzos adicionales se han hecho para lograr un<br />
método g<strong>en</strong>eral capaz <strong>de</strong> <strong>de</strong>terminar los espesores <strong>en</strong> una muestra tipo película/substrato con<br />
composiciones arbitrarias (151; 154). Más aún, algunos software comerciales, tales como X-FILM<br />
(155), MLA (156), STRATAGem, y LAYERF (157), permit<strong>en</strong> <strong>de</strong>terminar espesores y composiciones<br />
<strong>de</strong> películas <strong>de</strong>lgadas <strong>en</strong> configuraciones más complejas, tales como muestras estratificadas. Cada uno<br />
<strong>de</strong> estos programas, asume un mo<strong>de</strong>lo particular para la función distribución <strong>de</strong> ionizaciones Φ(ρz) <strong>en</strong><br />
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