29.09.2015 Views

Estudio de parámetros atómicos y moleculares en ... - FaMAF

Estudio de parámetros atómicos y moleculares en ... - FaMAF

Estudio de parámetros atómicos y moleculares en ... - FaMAF

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

Capítulo 7: Determinación <strong>de</strong> Secciones Eficaces <strong>de</strong> Ionización <strong>en</strong> capas K para C, O, Si, Al y Ti ____________<br />

ecuación (7.4)–, parámetros <strong>de</strong> calibración (ganancia y cero), parámetros <strong>de</strong> ancho <strong>de</strong> picos (ruido<br />

electrónico y Fano) y el espesor <strong>de</strong>l óxido superficial <strong>en</strong> el caso <strong>de</strong> las películas metálicas.<br />

Posteriorm<strong>en</strong>te, se ajustó el fondo y el parámetro α <strong>en</strong> una zona <strong>de</strong> amplitud aproximadam<strong>en</strong>te <strong>de</strong> 500<br />

eV alre<strong>de</strong>dor <strong>de</strong>l pico característico a estudiar. A la expresión (7.5) para el cálculo <strong>de</strong>l error <strong>de</strong> la<br />

sección eficaz se le sumó <strong>en</strong> cuadratura el error relativo <strong>de</strong> α arrojado por el programa, el cual está<br />

ligado a errores <strong>de</strong>l ajuste. De todas maneras, el error relativo <strong>de</strong> α resultó <strong>en</strong> todos los casos m<strong>en</strong>or<br />

que el 0,8%, lo cual es <strong>de</strong>spreciable fr<strong>en</strong>te al resto <strong>de</strong> las incertezas involucradas <strong>en</strong> (7.5).<br />

Int<strong>en</strong>sidad [nº <strong>de</strong> cu<strong>en</strong>tas]<br />

10 4<br />

10 3<br />

C-Kα<br />

10 5 Film <strong>de</strong> Si sobre C medido a 3 keV<br />

Pico suma <strong>de</strong> C<br />

+ O-Kα<br />

Experim<strong>en</strong>tal<br />

POEMA con efecto <strong>de</strong> oxidación<br />

POEMA sin efecto <strong>de</strong> oxidación<br />

Si-Kα<br />

Si-Kβ<br />

10 2<br />

Film <strong>de</strong> Si sobre C medido a 3 keV<br />

0.5 1.0 1.5 2.0<br />

Energía [keV]<br />

Int<strong>en</strong>sidad [nº <strong>de</strong> cu<strong>en</strong>tas]<br />

10 5<br />

10 4<br />

10 3<br />

Experim<strong>en</strong>tal<br />

Ajuste con POEMA<br />

Film <strong>de</strong> Al 2<br />

O 3<br />

sobre C medido a 2,5 keV<br />

0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 1.4 1.6<br />

Energía [keV]<br />

Figura 7.6: Espectros <strong>de</strong> emisión <strong>de</strong> rayos x para las capas <strong>de</strong> Si y Al 2 O 3 , medidos a 3 keV y 2,5 keV,<br />

respectivam<strong>en</strong>te.<br />

: espectros experim<strong>en</strong>tales; : ajuste final, consi<strong>de</strong>rando todos los efectos <strong>de</strong>l sustrato y<br />

<strong>de</strong> la oxidación superficial;<br />

: ajuste sin consi<strong>de</strong>rar la pres<strong>en</strong>cia <strong>de</strong> oxidación superficial.<br />

En la figura 7.6 se muestra, a modo <strong>de</strong> ejemplo, el ajuste obt<strong>en</strong>ido para la película <strong>de</strong> Si medido a<br />

3 keV y para la capa <strong>de</strong> Al 2 O 3 medido a 2,5 keV. Pue<strong>de</strong> verse cómo mejora la predicción <strong>de</strong>l espectro<br />

cuando se ti<strong>en</strong>e <strong>en</strong> cu<strong>en</strong>ta la oxidación superficial (figura 7.6 a) pres<strong>en</strong>te <strong>en</strong> la capa <strong>de</strong> Si. Los<br />

144

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!