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Deutsches Treibhausgasinventar 1990 - 2002 - Umweltbundesamt

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Nationaler Inventarbericht Deutschland – 2004<br />

4.12.5.3 Unsicherheiten und Zeitreihenkonsistenz (2.F.5)<br />

Die Daten werden als gut bewertet.<br />

<strong>Umweltbundesamt</strong><br />

Die Zeitreihe beginnt wegen der erstmaligen Verwendung von HFKW im Jahr 2001 erst in<br />

diesem Jahr. Dies steht in Einklang mit der Änderung der gesetzlichen Regelung zu<br />

halogenierten Lösemitteln (novellierte 2. BImSchV).<br />

4.12.5.4 Quellenspezifische Qualitätssicherung/-kontrolle und Verifizierung<br />

(2.F.5)<br />

Eine Überprüfung der gelieferten Daten erfolgt bisher wegen der sehr geringen Relevanz<br />

nicht. Es wird auf die geplanten Verbesserungen hingewiesen.<br />

Eine standardisierte Methodik zur QS/QK wird derzeit vom UBA in Zusammenarbeit mit<br />

einem Forschungsnehmer entwickelt.<br />

4.12.5.5 Quellenspezifische Rekalkulation (2.F.5)<br />

Es wurden keine Rekalkulationen vorgenommen. Für das Berichtsjahr 2001 wird ggf. eine<br />

Rekalkulation im kommenden Berichtsjahr durchgeführt.<br />

4.12.5.6 Geplante Verbesserungen (quellenspezifisch) (2.F.5)<br />

Es ist beabsichtigt, die bei den zuständigen Länderbehörden eingegangenen und bewilligten<br />

Ausnahmeanträge für den Einsatz von HFKW abzufragen, falls sich ein relevanter Einsatz<br />

abzeichnet.<br />

4.12.6 Sonstige (2.F.6)<br />

4.12.6.1 Halbleiterproduktion (2.F.6)<br />

4.12.6.1.1 Beschreibung der Quellgruppe (2.F.6)<br />

Die Subquellgruppe Halbleiterproduktion ist für halogenierte Kohlenwasserstoffe nach<br />

Emissionshöhe und Trend und für SF 6 nach der Emissionshöhe als Hauptquellgruppe<br />

identifiziert worden.<br />

In der Halbleiterindustrie werden vorwiegend FKW als Ätzgase zum Strukturätzen und zur<br />

Kammerreinigung benötigt und in großem Umfang eingesetzt. Daneben werden aber auch<br />

HFKW, SF 6 und NF 3 in den Produktionsprozess eingebracht. Die Emissionen können nicht<br />

allein anhand der eingesetzten Mengen (Verkäufe des Gasehandels) ermittelt werden. Die<br />

Differenz zwischen Verbrauch und Emission resultiert erstens aus der nur partiellen<br />

chemischen Umsetzung im Plasmareaktor und zweitens aus der Wirkung nachgeschalteter<br />

Abgasreinigungsanlagen. Außerdem muss ein Rückstand von ca. 10 % pro Gasflasche als<br />

Nicht-Verbrauch beachtet werden. Die effektiven Emissionen sind vor allem von den<br />

eingesetzten Abgasreinigungstechnologien abhängig.<br />

4.12.6.1.2 Methodenbeschreibung (2.F.6)<br />

Ab dem Jahr 2001 liegen aufgrund einer freiwilligen Zusage der Halbleiterindustrie gute<br />

Emissionsangaben für diese Quellgruppe für alle Einzelstoffe vor. Die Emissionsdaten<br />

werden nach dem Tier 2 Ansatz für jede Produktionsstätte berechnet, aggregiert und vom<br />

Verband (ZVEI, Bauelemente) an das <strong>Umweltbundesamt</strong> gemeldet. Die Basisdaten für die<br />

Seite 4-47 von 407 18/10/04

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