Bulletin 2010/15 - European Patent Office

(H01J) II.1(1)
H01J 17/28 → (51) H01J 17/16
H01J 17/49 → (51) H01J 17/16
H01J 37/06 → (51) H01J 1/15
(51) H01J 37/141 (11) 1 966 815 B1
H01J 37/28
(25) En (26) En
(21) 06829160.8 (22) 28.11.2006
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HU IE IS IT LI LT LU LV MC NL PL PT RO
SE SI SK TR
(43) 10.09.2008
(86) EP 2006/011413 28.11.2006
(87) WO 2007/060017 2007/22 31.05.2007
(30) 28.11.2005 US 740581 P
(54) • TEILCHENOPTISCHE KOMPONENTE
• PARTICLE-OPTICAL COMPONENT
• COMPOSANT OPTIQUE A PARTICULES
(73) Carl Zeiss SMT AG, Rudolf-Eber-Strasse 2,
73447 Oberkochen, DE
Applied Materials Israel, Ltd., Oppenheimer
Street 9, 76705 Rehovot, IL
(72) KNIPPELMEYER, Rainer, Dr., Winchester,
MA 01890, US
SCHUBERT, Stefan, 73447 Oberkochen, DE
(74) Diehl & Partner, Patentanwälte Augustenstrasse
46, 80333 München, DE
H01J 37/28 → (51) H01J 37/141
(51) H01J 37/302 (11) 1 180 784 B1
H01J 37/317
(25) En (26) En
(21) 01119151.7 (22) 08.08.2001
(84) DE FR GB
(43) 20.02.2002
(30) 10.08.2000 JP 2000243202
(54) • Verfahren und Vorrichtung zur Ladungsträgerstrahlbelichtung
• Method and apparatus for charged particle
beam exposure
• Procédé et dispositif d'exposition par
faisceau de particules chargées
(73) Hitachi, Ltd., 6, Kanda Surugadai 4-chome,
Chiyoda-ku, Tokyo 101-8010, JP
(72) Nagata, Koji, Hitachi,Ltd. Intel. Prop. Grp.,
Chiyoda-ku, Tokyo 100-8220, JP
Yoda, Haruo, Hitachi,Ltd. Intel. Prop. Grp.,
Chiyoda-ku, Tokyo 100-8220, JP
Satoh, Hidetoshi, Hitachi,Ltd. Intel. Prop.
Grp., Chiyoda-ku, Tokyo 100-8220, JP
Takahashi, Hiroyuki, Hitachi,Ltd.Intel. Prop.
Grp., Chiyoda-ku, Tokyo 100-8220, JP
(74) Strehl Schübel-Hopf & Partner, Maximilianstrasse
54, 80538 München, DE
H01J 37/317 → (51) H01J 37/302
H01J 37/32 → (51) C23C 16/44
(51) H01J 49/00 (11) 1 665 326 B1
(25) En (26) En
(21) 04755637.8 (22) 18.06.2004
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HU IE IT LI LU MC NL PL PT RO SE SI SK
TR
(43) 07.06.2006
(86) US 2004/019593 18.06.2004
(87) WO 2005/001878 2005/01 06.01.2005
(30) 21.06.2003 GB 0314568
(54) • MEHRFACHREFLEXIONS-FLUGZEITMAS-
SENSPEKTROMETER UND VERFAHREN
ZUR DESSEN VERWENDUNG
• MULTI REFLECTING TIME-OF-FLIGHT
MASS SPECTROMETER AND A METHOD
OF USE
Europäisches Patentblatt
European Patent Bulletin
Bulletin européen des brevets
• SPECTROMETRE DE MASSE A TEMPS DE
VOL MULTIREFLECHISSANT ET PROCEDE
D'UTILISATION
(73) LECO CORPORATION, 3000 Lakeview Avenue,
St. Joseph, Michigan 49085-2396, US
(72) VERENTCHIKOV, Anatoli, N., St. Petersburg,
193124, RU
YAVOR, Mikhail, St. Petersburg, 197372, RU
MITCHELL, Joel, C., Bridgman, MI 49106,
US
ARTAEV, Viatcheslav, St. Joseph, MI 49085,
US
(74) Miller, James Lionel Woolverton, Kilburn &
Strode LLP 20 Red Lion Street, London
WC1R 4PJ, GB
(51) H01J 49/14 (11) 1 683 180 B1
(25) En (26) En
(21) 04810933.4 (22) 12.11.2004
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HU IE IS IT LI LU MC NL PL PT RO SE SI
SK TR
AL HR LT LV MK YU
(43) 26.07.2006
(86) US 2004/037956 12.11.2004
(87) WO 2005/048290 2005/21 26.05.2005
(30) 12.11.2003 US 706329
(54) • KOHLENSTOFF-NANORÖHREN-ELEKTRO-
NENIONISIERUNGSQUELLEN
• CARBON NANOTUBE ELECTRON IONIZA-
TION SOURCES
• SOURCES D'IONISATION ELECTRONIQUE
A NANOTUBE DE CARBONE
(73) THERMO ELECTRON CORPORATION, 81
Wyman Street, Waltham, MA 02454, US
(72) TRAYNOR, Peter J., Scottsdale, AZ 85262,
US
WRIGHT, Robert G., Helsby Cheshire WA6
0QW, GB
(74) Giovannini, Francesca, et al, Osha Liang 32,
avenue de l'Opéra, 75002 Paris, FR
H01J 63/02 → (51) H01J 1/304
(51) H01K 1/20 (11) 1 446 823 B1
(25) En (26) En
(21) 02803525.1 (22) 19.11.2002
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR IE IT LI LU MC NL PT SE SK TR
(43) 18.08.2004
(86) JP 2002/012062 19.11.2002
(87) WO 2003/044829 2003/22 30.05.2003
(30) 22.11.2001 JP 2001357713
(54) • LICHTEMISSIONSELEMENT, HERSTEL-
LUNGSVERFAHREN DAFÜR UND LICHT-
EMISSIONSVORRICHTUNG
• LIGHT-EMITTING ELEMENT, PRODUC-
TION METHOD THEREOF, AND LIGHT-
EMITTING APPARATUS
• ELEMENT ELECTROLUMINESCENT, SON
PROCEDE DE PRODUCTION ET APPAREIL
ELECTROLUMINESCENT
(73) CANON KABUSHIKI KAISHA, 30-2, Shimomaruko
3-chome, Ohta-ku Tokyo 146-8501,
JP
(72) HASEGAWA, Toshinori, c/o CANON
KABUSHIKI KAISHA, Ohta-ku, Tokyo 146-
8501, JP
OSATO, Yoichi, c/o CANON KABUSHIKI
KAISHA, Ohta-ku, Tokyo 146-8501, JP
(74) TBK-Patent, Bavariaring 4-6, 80336
München, DE
H01L 21/00 → (51) C23C 16/44
H01L 21/027 → (51) G03F 1/14
(51) H01L 21/20 (11) 1 114 446 B1
(25) Fr (26) Fr
644
Patente
Patents
Brevets (15/2010) 14.04.2010
(21) 00948075.7 (22) 29.06.2000
(84) DE GB IT
(43) 11.07.2001
(86) FR 2000/001898 29.06.2000
(87) WO 2001/003172 2001/02 11.01.2001
(30) 30.06.1999 FR 9908380
(54) • HERSTELLUNG EINER DÜNNEN MEMB-
RAN
• METHOD FOR PRODUCING A THIN MEM-
BRANE
• PROCEDE DE REALISATION D'UNE MEM-
BRANE MINCE
(73) S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies
S.A., Parc Technologique des Fontaines
Chemin Des Franques, 38190 Bernin, FR
(72) ASPAR, Bernard, F-38140 Rives, FR
BRUEL, Michel, F-38113 Veurey, FR
JAUSSAUD, Claude, F-38240 Meylan, FR
LAGAHE, Chrystelle, F-38340 Voreppe, FR
(74) Audier, Philippe André, et al, Brevalex 3, rue
du Docteur Lancereaux, 75008 Paris, FR
(51) H01L 21/20 (11) 1 604 390 B1
H01L 21/265
(25) De (26) De
(21) 04708713.5 (22) 06.02.2004
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB
GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK
TR
(43) 14.12.2005
(86) DE 2004/000200 06.02.2004
(87) WO 2004/082001 2004/39 23.09.2004
(30) 10.03.2003 DE 10310740
(54) • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER
SPANNUNGSRELAXIERTEN SCHICHT-
STRUKTUR AUF EINEM NICHT GITTER-
ANGEPASSTEN SUBSTRAT SOWIE
VERWENDUNG EINES SOLCHEN
SCHICHTSYSTEMS IN ELEKTRONISCHEN
UND/ODER OPTOELEKTRONISCHEN
BAUELEMENTEN
• METHOD FOR THE PRODUCTION OF
STRESS-RELAXED LAYER STRUCTURE
ON A NON-LATTICE ADAPTED SUB-
STRATE AND UTILIZATION OF SAID
LAYER SYSTEM IN ELECTRONIC AND/OR
OPTOELECTRONIC COMPONENTS
• PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE
STRUCTURE LAMELLAIRE LIBERANT LA
CONTRAINTE SUR UN SUBSTRAT NON
ADAPTE EN GRILLE ET UTILISATION D'UN
TEL SYSTEME LAMELLAIRE DANS DES
COMPOSANTS ELECTRONIQUES ET/OU
OPTOELECTRONIQUES
(73) Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425
Jülich, DE
(72) MANTL, Siegfried, 52428 Jülich, DE
H01L 21/20 → (51) H01L 21/762
H01L 21/265 → (51) H01L 21/20
H01L 21/30 → (51) G03F 7/11
H01L 21/331 → (51) H01L 21/8238
(51) H01L 21/336 (11) 1 275 141 B1
H01L 29/786
(25) En (26) En
(21) 01921354.5 (22) 28.03.2001
(84) AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI
LU MC NL PT SE TR
(43) 15.01.2003
(86) EP 2001/003557 28.03.2001
(87) WO 2001/078130 2001/42 18.10.2001
(30) 07.04.2000 GB 0008487
09.11.2000 GB 0027333