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Plenarvorträge - DPG-Tagungen

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Halbleiterphysik Dienstag<br />

HL 15.7 Di 11:45 H17<br />

Kristallographie holographisch hergestellter dreidimensionaler<br />

Photonischer Kristalle. — •Daniel C. Meisel 1,2 , Martin Wegener<br />

1,3,2 und Kurt Busch 2,4,5 — 1 Inst. f. Nanotechnologie, Forschungszentrum<br />

Karlsruhe in der Helmholtz-Gemeinschaft, D-76021 Karlsruhe<br />

— 2 DFG-Centrum für funktionelle Nanostrukturen. — 3 Inst. f. Angewandte<br />

Physik, Univ. Karlsruhe (TH), D-76128 Karlsruhe — 4 Inst.<br />

f. Theorie der Kondensierten Materie, Univ. Karlsruhe (TH), D-76128<br />

Karlsruhe — 5 School of Optics/CREOL and Dep. of Physics, Univ. of<br />

Central Florida, Orlando, USA.<br />

Mittels holographischer Lithographie hergestellte poröse Photolackstrukturen<br />

können als Template für photonische Kristalle dienen. Die<br />

Einstrahlrichtungen der Laserstrahlen legen dabei den Gittertyp fest, die<br />

Polarisationen und Intensitäten hingegen das Motiv der Kristallstruktur.<br />

Der Einfluss dieser beiden Parametergruppen wird systematisch unter<br />

kristallographischen Aspekten diskutiert. Im Mittelpunkt des Interesses<br />

stehen derzeit zwei Vierstrahlanordnungen mit paarweise gegenläufigen<br />

bzw. gleichgerichteten Strahlen, welche i.a. orthorhombische bzw. rhomboedrische<br />

Translationssymmetrien ergeben. Insbesondere wird auch die<br />

Punktsymmetrie des Motivs in die Betrachtungen mit einbezogen. Aus<br />

dieser vervollständigten Beschreibung werden die möglichen Gesamtsymmetrien<br />

von herstellbaren Photolackstrukturen abgeleitet. Entsprechende<br />

Bandstrukturrechnungen ergaben verschiedene, auch praktisch interessante,<br />

Möglichkeiten zur Realisierung vollständiger dreidimensionaler<br />

Bandlücken. Es wird über die theoretischen und experimentellen Resultate<br />

bei Belichtung mit 532 nm berichtet.<br />

HL 15.8 Di 12:00 H17<br />

Herstellung und Charakterisierung zweidimensionalperiodischer<br />

Photonischer Kristalle mittels holographischer<br />

Lithographie — •M. Hermatschweiler 1,2 , D. C. Meisel 3,2 , M.<br />

Diem 4,2 , K. Busch 4,2,5 und M. Wegener 1,3,2 — 1 Inst. f. Angewandte<br />

Physik, Universität Karlsruhe (TH), 76128 Karlsruhe — 2 DFG-Center<br />

for Functional Nanostructures — 3 Inst. f. Nanotechnologie, Forschungszentrum<br />

Karlsruhe in der Helmholtz-Gemeinschaft, 76021 Karlsruhe<br />

— 4 Inst. f. Theorie der Kondensierten Materie, Universität Karlsruhe<br />

(TH), 76128 Karlsruhe, Germany — 5 School of Optics/CREOL and<br />

Dep. of Physics, Univ. of Central Florida, Orlando, USA<br />

Die holographische Lithographie mit drei Strahlen stellt eine sehr<br />

flexible Methode dar, um großflächig zweidimensional-periodische Photolackstrukturen<br />

herzustellen. Dazu wird eine ca. 25 µm dicke SU-8-<br />

Photolackschicht mit einem Interferenzmuster bei 355 nm Wellenlänge<br />

belichtet und anschließend entwickelt. Verschiedene Strukturen bestehend<br />

aus unterschiedlich geformten Luftsäulen in hexagonaler und graphitähnlicher<br />

Anordnung mit einer Gitterkonstanten von ca. 620 nm<br />

wurden hergestellt. In ΓM-Richtung wurden Stoppbänder im sichtbaren<br />

Spektralbereich und im nahen Infrarot als Transmissionsminima und<br />

entsprechende Reflexionsmaxima polarisationsabhängig mit einem FTIR<br />

nachgewiesen. Die Transmission wurde durch ca. 200 µm ausgedehnte<br />

Proben gemessen. Trotz der geringen Brechzahl (n=1,6) ergaben sich Reflexionsmaxima<br />

von bis zu 70%. Die optischen Messungen sind in guter<br />

Übereinstimmung mit Transmissions- und Reflexionsrechnungen sowie<br />

Bandstrukturrechnungen.<br />

HL 15.9 Di 12:15 H17<br />

Near-field Microscopy of Photonic Crystals — •Ben Buchler,<br />

Patrick Kramper, Wolfgang Stumpf, Femius Koenderink, and<br />

Vahid Sandoghdar — Laboratory of Physical Chemistry, ETH Zurich,<br />

Switzerland<br />

Using scanning near-field optical microscopy (SNOM), we have imaged<br />

the propagation of light in 2D photonic crystal defects. The samples<br />

are made from macroporous silicon with a bandgap ranging from 3.3 to<br />

5.4µm. We show that applying SNOM to the surface of the crystal allows<br />

measurement of the spatial mode of a resonant point defect microcavity<br />

[1]. The intensity pattern obtained can be explained by small (

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