Plenarvorträge - DPG-Tagungen
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Halbleiterphysik Donnerstag<br />
HL 44.22 Do 16:30 Poster A<br />
Streuung von Elektronen und 3D longitudinalen Phononen in<br />
ungeordneten Bulk-Materialien — •Frank Löcse — TU Chemnitz,<br />
Institut für Physik, 09107 Chemnitz<br />
Für die Berechnung der Energierelaxationsrate der Elektron-Phonon<br />
Streuung in ungeordneten Bulk-Materialien gibt es im wesentlichen zwei<br />
sich widersprechende Theorien. In deren Ergebnis hängt die Energierelaxationsrate<br />
1/τe−ph von Phononenwellenzahl q und mittlerer elastischer<br />
freier Weglänge l der Elektronen im Bereich ql < 1 wie 1/τe−ph ∼ ql/τ0<br />
bzw. wie 1/τe−ph ∼ 1/(ql)τ0 ab. Beide Abhängigkeiten werden durch<br />
das Experiment bestätigt. Hier ist 1/τ0 ∼ T 3 die Relaxationsrate im<br />
reinen Material. Anhand eines einfachen Modells zeigen wir, daß sich<br />
beide Abhängigkeiten aus einem einzigen Ausdruck für die Energierelaxationsrate<br />
im Bereich ql < 1 ableiten lassen und zwar in Abhängigkeit<br />
von Temperatur des Phononengases und Schallgeschwindigkeit. Grundlage<br />
der analytischen Rechnung ist eine von uns entwickelte semiklassische<br />
Methode zur Berechnung der geeignet gemittelten Übergangswahrscheinlichkeiten.<br />
HL 44.23 Do 16:30 Poster A<br />
Field-dependence in the steady-state photocarrier grating<br />
technique: application to microcrystalline silicon — •Rudolf<br />
Brüggemann 1 and Rashad I. Badran 2 — 1 Instut für Physik, Carl<br />
von Ossietzky Universität Oldenburg — 2 Physics Department, The<br />
Hashemite University, Zarqa, Jordan<br />
The steady-state photocarrier grating (SSPG) technique has become<br />
a standard tool for the characterisation of the minority carrier properties<br />
in amorphous and microcrystalline silicon. In the standard application<br />
the photocurrent response under the presence of spatially modulated<br />
photogeneration is measured at low electric fields. Here, we exploit the<br />
electric-field variation experimentally for microcrystalline silicon samples.<br />
The experimental results show a variation in the influence that the<br />
electric field imposes on the excess charge carriers, depending on the individual<br />
sample. For poor-quality samples there is hardly any influence<br />
in the measured SSPG parameter. In contrast, samples with high diffusion<br />
lengths show a large variation in the SSPG parameters. Analysis of<br />
our data with the theory by Abel et al. (1995) shows good correlation<br />
between experimental and theoretical values for a wide range of electric<br />
field, in particular in the transition region between diffusion dominated<br />
and drift-dominated transport.<br />
HL 44.24 Do 16:30 Poster A<br />
Trench-insulated IPG transistors for active matrix displays<br />
— •A. Lapanik and A.D. Wieck — Ruhr-Universitaet Bochum,<br />
Lehrstuhl fuer Angewandte Festkoerperphysik, Universitaetsstrasse 150,<br />
D-44780 Bochum<br />
We already reported on theoretical investigations of IPG transistors<br />
(formed by Focused Ion Beams), new techniques of preparation of transistors<br />
and results that shows possibilities of using IPG transistors for active<br />
matrix liquid crystal displays (AMLCD). Here, we report of further<br />
research results on trench insulated IPG transistors on poly-Si on quartz<br />
in contrast to previous work on GaAs (1990. Nieder et al). The geometry<br />
of IPG transistors was changed to obtain higher process performance and<br />
lower leakage current to be more suitable for AMCLD developing. New<br />
mask layers were used for sputtering of the Si and we present here results<br />
for transistors with a better gate insulation. This is obtained by wider<br />
insulating lines between gate and the source-drain areas, respectively.<br />
The annealing temperature dependence of the transistor parameters are<br />
discussed. Also, we would like to report on the technology improvement<br />
of IPG transistor fabrication. In particular, chemical process steps were<br />
improved and new were added to perform a ”cleaning” of the sputtered<br />
area and sputtered trenches.<br />
HL 44.25 Do 16:30 Poster A<br />
Fabrication of Resonant-Tunneling Diodes by B Surfactant<br />
Modified Growth of Si Films on CaF2/Si — •C.R. Wang, M.<br />
Bierkandt, B.H. Müller, S. Paprotta, E. Bugiel, T. Wietler,<br />
and K.R. Hofmann — Institute for Semiconductor Devices and Electronic<br />
Materials, University of Hannover, Appelstr. 11A, 30167 Hannover,<br />
Germany<br />
Boron (B) surfactant enhanced solid phase epitaxy (SPE) of thin Si<br />
films on CaF2/Si(111) substrates has been studied. Room temperature<br />
deposition of amorphous Si films followed by the deposition of one monolayer<br />
B atoms resulted in continuous and smooth epitaxial Si layers on<br />
CaF2 with a sharp B-induced √ 3x √ 3R30 ◦ surface reconstruction after<br />
annealing to about 635 ◦ C. This growth technique was used to fabricate<br />
CaF2/Si/CaF2 double-barrier resonant tunneling diodes (RTDs) in SiO2<br />
windows patterned on Si(111) substrates. A negative differential resistance<br />
(NDR) peak was found at ∼0.2 V at 77 K, and the current density<br />
at the NDR peak was estimated to be 6 orders of magnitude higher than<br />
that found in earlier reports.<br />
HL 44.26 Do 16:30 Poster A<br />
Elektronischer Transport in einzelnen und verzweigten Wellenleitern<br />
— •Mirja Richter 1 , Michael Knop 1 , Ulrich Wieser<br />
1 , Ulrich Kunze 1 , Dirk Reuter 2 und Andreas D. Wieck 2<br />
— 1 Lehrstuhl für Werkstoffe und Nanoelektronik, Ruhr-Universität Bochum,<br />
D-44780 Bochum — 2 Lehrstuhl für Angewandte Festkörperphysik,<br />
Ruhr-Universität Bochum, D-44780 Bochum<br />
Auf einer modulationsdotierten GaAs/Al1−xGaxAs-Heterostruktur<br />
werden einzelne und gekreuzte elektronische Wellenleiter in einem<br />
Mix-and-Match Prozess hergestellt. Der Prozess kombiniert<br />
Niederenergie-Elektronenstrahllithographie mit konventioneller<br />
Fotolithographie.<br />
Wellenleiter mit einer Breite bis minimal 50 nm und einer Länge von einigen<br />
Mikrometern werden durch elektronische Transportmessungen bei<br />
tiefen Temperaturen charakterisiert. Die Wellenleiter zeigen quantisierten<br />
Leitwert in Vielfachen von 2e 2 /h und eine Separation der untersten<br />
Subbänder von bis zu 19 meV. An gekreuzten Wellenleitern kann der<br />
Knickwiderstand R1324 (bend resistance) im ballistischen Transportregime<br />
in Abhängigkeit von der Geometrie der Kreuzungsstelle und der<br />
Steuerspannung an der Topgateelektrode untersucht werden.<br />
HL 44.27 Do 16:30 Poster A<br />
Magnetotransportspektroskopie an einem GaAs/AlGaAs-<br />
Quantenring — •A. Mühle 1 , U. F. Keyser 1 , R. J. Haug 1 , W.<br />
Wegscheider 2 und M. Bichler 3 — 1 Institut für Festkörperphysik,<br />
Universität Hannover, D-30167 Hannover — 2 Angewandte und<br />
Experimentelle Physik, Universität Regensburg, D-92040 Regensburg —<br />
3 Walter Schottky Institut, TU München, D-85748 Garching<br />
Ein Quantenring, der auf der Oberfläche einer GaAs/AlGaAs-<br />
Heterostruktur durch lokale anodische Oxidation mit einem Rasterkraftmikroskop<br />
hergestellt wurde, [1] wurde untersucht. Über zwei<br />
In-plane-Gates konnten sowohl die Energie der Elektronen auf dem Ring<br />
als auch die Ankopplung der Struktur an die Zuleitungen durchgestimmt<br />
werden.<br />
Für verschiedene Kopplungsstärken wurde das Transportverhalten in<br />
Abhängigkeit von einem senkrechten Magnetfeld und einer Gatespannung<br />
über große Bereiche gemessen. Aus den sich ergebenden Mustern<br />
in der grafischen Darstellung konnten dann bei wenigen Elektronen auf<br />
dem Ring deren Anzahl und ihre Spinverteilung bestimmt werden.<br />
Weiterhin wurden bei sehr kleinen Feldern im Regime weniger Elektronen<br />
in einigen Bereichen Oszillationen der differentiellen Leitfähigkeit mit<br />
dem Magnetfeld beobachtet, die über Level-crossings im Grundzustand<br />
des Ringes erklärt werden könnten.<br />
[1] U. F. Keyser et al., Phys. Rev. Lett. 90, 196601-1 (2003)<br />
HL 44.28 Do 16:30 Poster A<br />
Noise measurements of individual and coupled InAs quantum<br />
dots — •P. Barthold 1 , N. Maire 1 , F. Hohls 1 , A. Nauen 2 ,<br />
R.J. Haug 1 , K. Pierz 3 , and T. Bryllert 2 — 1 Institut für<br />
Festkörperphysik, Universität — 2 Div. of Solid State Physics, Lund<br />
University, P.O. BOX 118, SE-221 00 Lund — 3 Physikalisch- Technische<br />
Bundesanstalt, Bundesallee 100, D-38116 Braunschweig<br />
We present noise measurements of resonant single electron tunnelling<br />
through individual and coupled self-organised InAs quantum dots (QDs)<br />
at temperatures down to 1.5 K.<br />
In the first case our samples consist of a GaAs/AlAs/GaAs tunnelling<br />
structure with self-organised InAs QDs embedded in the AlAs. We investigate<br />
the noise generated by the sample with a current amplifier in a<br />
range from 0 to 10 kHz, and use a Fast Fourier Transformation analyser<br />
for spectral decomposition. Above 1 kHz the noise shows a frequencyindependent<br />
behaviour indicating the presence of shot noise. Depending<br />
on bias voltage we find that the shot noise is suppressed in respect to<br />
the Poissonian value 2eI expected for a single barrier. We observe the<br />
effect of asymmetric tunnelling barriers on the shot noise suppression.<br />
This suppression is characterised by the Fano factor α = S/2eI whose<br />
modulation was perceived in the experiment.<br />
In the second case the sample consists of a GaInAs/InP/GaInAs structure<br />
with two layers of self-organised InAs QDs embedded in the InP