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Plenarvorträge - DPG-Tagungen

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Halbleiterphysik Mittwoch<br />

middle of the bandgap are obtained.<br />

For p-n samples the DLTS spectra feature a peak whose corresponding<br />

activation energy is depending on the relative doping of the sample: very<br />

close to the middle of the bandgap for weakly doped and p+n samples<br />

and of about 0.26 eV for n++p samples. Further study by Laplace DLTS<br />

shows a continuos distribution in energy for non-annealed samples, and<br />

fine structure for annealed samples.<br />

Room temperature bonded samples are compared with samples bonded<br />

at 250 ◦ C yielding a decrease of the defect density at the interface. Additionally,<br />

TEM investigations were showing a more regular dislocation<br />

network for the high temperature bonded samples.<br />

HL 31.3 Mi 17:15 H14<br />

Stability and electronic properties of silicates in the system<br />

SiO2 - Pr2O3 - Si(001) — •Dieter Schmeißer 1 and Hans-Joachim<br />

Müssig 2 — 1 BTU Cottbus, Lehrstuhl Angewandte Physik II / Sensorik,<br />

Universitätsplatz 3-4, 03044 Cottbus, Germany — 2 IHP, Im Technologiepark<br />

25, D-15236 Frankfurt (Oder), Germany<br />

Hetero- oxides are the candidates to replace SiO2 as the gate dielectric<br />

material for sub-0.1µm CMOS technology. In particular, the basic interaction<br />

mechanisms at the interface are a key issue and a solid knowledge<br />

of these mechanisms is required to address reliability issues. The challenge<br />

in material science is to understand the chemical bonding of the<br />

hetero oxides and Si on a microscopic scale. This report focuses on the interaction<br />

of the high dielectric constant (DK) material Pr2O3 with SiO2<br />

and the bare Si(001) surface. Photoelectron spectroscopy (PES) using<br />

tunable Synchrotron radiation (undulator U49/2 at BESSY II) is shown<br />

to provide spectroscopic information which is used for characterization<br />

of the electronic structure elements at the interface as well as for a nondestructive<br />

depth profiling. The chemical state of the Si atoms at the interface<br />

is identified and the chemical stability of the various oxide phases<br />

is discussed. We determine the variation of the elemental composition<br />

across the interface and follow the stability of the silicate phase.<br />

HL 31.4 Mi 17:30 H14<br />

Molekül-induzierte Transferdotierung von H-terminiertem Diamant<br />

— •Paul Strobel, Marc Riedel, Jürgen Ristein und Lothar<br />

Ley — Institut für Technische Physik II, Universität Erlangen-<br />

Nürnberg, Erwin-Rommel-Str. 1, 91058 Erlangen<br />

Nach H-Absättigung weist die Oberfläche von undotierten Diamanten<br />

eine Oberflächenleitfähigkeit (OFL) von bis zu 10 −4 S auf. Unter<br />

Atmosphärenbedingungen geht diese OFL auf eine Löcherakkumulation<br />

aufgrund eines elektrochemischen Ladungsübertrages vom Diamantvalenzband<br />

in solvatisierte Ionen auf der Oberfläche zurück.[1]<br />

Wegen der flüchtigen Natur der Adsorbate und der Komplexität der<br />

Austauschreaktion ist diese Art der Transferdotierung jedoch nur schwer<br />

kontrollierbar, und die von ihr hervorgerufene OFL ist bereits geringfügig<br />

HL 32 Halbleiterlaser I<br />

oberhalb von Raumtemperatur instabil.<br />

Es ist uns gelungen, die OFL von Diamant in gleicher Größenordnung<br />

alternativ durch Abscheidung einer wenige Monolagen betragenden<br />

Adsorbatschicht im Ultrahochvakuum zu induzieren. Dabei ist sichergestellt,<br />

daß der Transport im Diamanten und nicht innerhalb der<br />

Adsorbatschicht erfolgt. Diese Methode bestätigt das Modell der Transferdotierung<br />

und eliminiert die durch Variation in den atmosphärischen<br />

Bedingungen hervorgerufenen Instabilitäten.<br />

[1] F. Maier et al., Phys. Rev. Lett. 85(16), 3472 (2000)<br />

HL 31.5 Mi 17:45 H14<br />

reconstruction of theCuGaSe2 (001) surface — •Thalia Deniozou<br />

1 , Norbert Esser 1 , and Susanne Siebentritt 2 — 1 Institut für<br />

Festkörperphysik, TU Berlin, Hardenbergstr. 36, 10623 Berlin — 2 Hahn-<br />

Meitner-Institut Berlin, Glienicker Str. 100, 14109 Berlin<br />

Although chalcopyrites have been used as absorber in thin film solar<br />

cells for nearly 30 years not much is known about their surface reconstruction,<br />

which might be an important information towards interface optimization.<br />

We have studied the chalcopyrite CuGaSe2 (001) surface preparation<br />

by Ar+ ion bombardment and annealing. The samples were grown<br />

by MOCVD on a (001) GaAs substrate on axis with a near-stoichiometric<br />

ratio Cu/Ga. The preparation was optimized so that we finally obtained<br />

a flat, well-ordered surface. The composition was analyzed with AES and<br />

a reconstruction of the surface was observed with LEED for the first time.<br />

HL 31.6 Mi 18:00 H14<br />

Electrical force spectroscopy of silicon surfaces - experiment<br />

and theory — •J. Yukecheva 1 , F. Müller 1 , Y. Suzuki 2 , A.-<br />

D. Müller 1 , H. Angermann 3 , and M. Hietschold 1 — 1 Chemnitz<br />

University of Technology, Institut of Physics, Solid Surface Analysis<br />

Group, 09107 Chemnitz — 2 Chemnitz University of Technology, Institut<br />

of Physics, Semiconductor Physics, 09107 Chemnitz — 3 Hahn-Meitner-<br />

Institut, Department Silicon photovoltaics, Berlin, Kekulestr. 5, 12489<br />

Berlin<br />

In dynamic noncontact-mode in Atomic Force Microscopy, the simultaneous<br />

detection of surface potentials and tip-sample capacitances is<br />

possible during the acquisition of images. On the semiconductor devices,<br />

this method allows the detection of oxide thicknesses, contamination layers<br />

or dopant density variations.<br />

Here, these electrical signals are detected on silicon surfaces in dependence<br />

on the applied bias between tip and sample. This method, the<br />

electrical force spectroscopy, is highly sensitive for surface states. Therefore,<br />

small changes in the silicon preparation already lead to a tremendous<br />

change in the measured characteristics. The curves are discussed in<br />

comparison with numerical simulations of the measurements, where the<br />

known surface states are also included.<br />

Zeit: Mittwoch 17:45–19:15 Raum: H17<br />

HL 32.1 Mi 17:45 H17<br />

Breitstreifen-Halbleiterlaser im externen Resonator: Einfluss<br />

der Rückkopplungsstärke auf das Emissionsverhalten — •Shyam<br />

K. Mandre, Ingo Fischer und Wolfgang Elsässer — Institut für<br />

Angewandte Physik, TU Darmstadt<br />

Der Ausgangsleistung von Breitstreifen-Halbleiterlasern (BSL) von einigen<br />

Watt stehen eine niedrige Strahlqualität und geringe räumliche<br />

Kohärenz gegenüber. Dabei äußert sich die verminderte Strahlqualität<br />

nicht nur durch statische Strahlparameter, vielmehr dominiert eine komplexe,<br />

nichtlineare raum-zeitliche Dynamik das Emissionsverhalten.<br />

Kürzlich konnten wir zeigen, dass das Prinzip der räumlich gefilterten<br />

optischen Rückkopplung zur Stabilisierung der Emissionsdynamik geeignet<br />

ist [1].<br />

Weitergehende Untersuchungen zeigen, dass die Rückkopplungsstärke<br />

(RS) entscheidenden Einfluss auf den Charakter der Emissionsdynamik<br />

hat. Je nach RS beobachten wir zum einen durch den externen Resonator<br />

hervorgerufene Instabilitäten, die sich vollkommen von denen des<br />

solitären BSLs unterscheiden. Zum anderen können bei geeigneter Wahl<br />

der RS die Instabilitäten des solitären Lasers weitgehend unterdrückt<br />

werden. Somit ist die Kenntnis des Einflusses der RS für die Konzeption<br />

eines optimierten externen Resonators von großer Bedeutung, was hier<br />

diskutiert werden soll.<br />

[1] Mandre et al., Opt. Lett. 28 (13), 1135 (2003).<br />

HL 32.2 Mi 18:00 H17<br />

Raumzeitliche Emissionsdynamik von VCSELn: Entwicklung<br />

der Modenstrukturen während des Anschaltvorgangs — •Klaus<br />

Becker, Ingo Fischer und Wolfgang Elsässer — Institut für Angewandte<br />

Physik, Halbleiteroptik, TU Darmstadt<br />

VCSEL sind hochentwickelte Strukturen mit zahlreichen Einsatzgebieten,<br />

allen voran der optischen Datenübertragung. Die Charakterisierung<br />

der Emissionsdynamik beim Anschaltvorgang ist nicht nur aus<br />

technologischer Sicht von Interesse, sondern erlaubt zudem tiefe Einblicke<br />

in die Mechanismen, die die Dynamik hervorrufen und bestimmen.<br />

Wir präsentieren Experimente zur Dynamik des Anschaltvorgangs von<br />

selektiv-oxidierten VCSELn mittlerer Aperturgröße. Die über viele Anschaltereignisse<br />

gemittelte Dynamik wurde mit TRIDA (Temporally Resolved<br />

Imaging by Differential Analysis) mit einer Zeitauflösung von bis<br />

zu 10 ps charakterisiert. In diesem Beitrag konzentrieren wir uns auf<br />

die Ausbildung der Moden. Wir zeigen, dass die Modenstrukturen raumzeitlicher<br />

Dynamik unterliegen. Weiterführende Messungen in Form von<br />

Einzelschuss-Aufnahmen mit Belichtungszeiten von 600 ps belegen, dass<br />

die Modenausbildung zudem von Puls zu Puls einen unterschiedlichen<br />

Verlauf nimmt. Der Einfluss von lokalen Nichtlinearitäten auf die Aus-

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