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Plenarvorträge - DPG-Tagungen

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Halbleiterphysik Mittwoch<br />

HL 27.4 Mi 16:00 H15<br />

Anisotropy of the Dielectric Function for wurtzite InN — •R.<br />

Goldhahn 1 , A.T. Winzer 1 , V. Cimalla 2 , O. Ambacher 2 , C. Cobet<br />

3 , N. Esser 3 , J. Furthmüller 4 , F. Bechstedt 4 , H. Lu 5 , and<br />

W.J. Schaff 5 — 1 Institute of Physics, TU Ilmenau, PF 100565, 98684<br />

Ilmenau — 2 Center for Micro- and Nanotechnologies, TU Ilmenau —<br />

3 TU Berlin — 4 FSU Jena — 5 Cornell University, Ithaca, U.S.A.<br />

Theoretical calculations of the dielectric function (DF) for wurtzite InN<br />

predict a pronounced anisotropy in the range of the high-energy critical<br />

points of the band structure. Neither for MBE/MOVPE grown layers<br />

(gap energy ∼ 0.7 eV) nor sputtered films (absorption edge ∼ 1.9 eV)<br />

such an anisotropy has been reported yet. We succeeded in growing aplane<br />

InN on r-plane sapphire substrate by plasma-assisted MBE. Those<br />

layers offer the advantage that the light can be polarized parallel and perpendicular<br />

to the optic axis (c-axis) allowing the direct determination of<br />

both the ordinary and extraordinary component of the DF tensor. Here,<br />

results of spectroscopic ellipsometry measurements in the energy range<br />

from 0.7 up to 9.5 eV (partly using synchrotron radiation) are presented.<br />

For the first time, strong optical anisotropy of InN is demonstrated in the<br />

energy range above 4.5 eV. The data are compared with results of firstprinciples<br />

band structure and DF calculations. Data analysis in the near<br />

band gap range proves in addition a strong non-parabolicity of the conduction<br />

band. All results provide further evidence that InN is a narrow<br />

band gap semiconductor.<br />

HL 27.5 Mi 16:15 H15<br />

Verspannung und Wingtilt von ELOG GaN auf SiC Substraten<br />

— •Nikolaus Gmeinwieser 1 , Karl Engl 1 , Peter Gottfriedsen<br />

1 , Ulrich T. Schwarz 1 , Josef Zweck 1 , Werner Wegscheider<br />

1 , Stephan Miller 2 , Andreas Leber 2 , Andreas Weimar 2 ,<br />

Alfred Lell 2 und Volker Härle 2 — 1 Naturwissenschaftliche Fakultät<br />

II- Physik, Universität Regensburg — 2 OSRAM Opto Semiconductors<br />

GmbH, Wernerwerkstr. 2, 93049 Regensburg<br />

Zur Herstellung defektreduzierter GaN Schichten auf SiC Substraten<br />

verwenden wir den ELOG (epitaxial lateral overgrowth) Prozess.<br />

Die Flügel der ELOG-Streifen sind gegenüber den Fenstern weniger<br />

verspannt und weisen intensivere Photolumineszenz (PL) mit<br />

schmäleren Linienbreiten auf. TEM Aufnahmen zeigen über den ELOG-<br />

Maskenrändern eine hohe Dichte von Versetzungslinien, die entlang der<br />

ELOG-Streifen verlaufen und durch den Wingtilt der Proben verursacht<br />

werden. Micro-Photolumineszenz (µPL) Messungen ergaben im Bereich<br />

der Maskenränder und in den angrenzenden 2 µm der Flügel niedrigere<br />

PL-Intensität, höhere Linienbreiten und stärkere tensile Verspannung gegenüber<br />

sowohl den Fenstern als auch den Flügeln. Durch einen Wechsel<br />

des ELOG-Maskenmaterials von SiO2 zu SiNx konnte der Wingtilt um<br />

eine Größenordnung auf ca. 0,4 Grad reduziert werden. Die so hergestellten<br />

Proben zeigen kein Anzeichen reduzierter Materialqualität entlang<br />

der Maskenränder.<br />

HL 27.6 Mi 16:30 H15<br />

Selforganized superlattice formation in AlGaN grown by<br />

MOVPE — •Andreas Able, Karl Engl, Josef Zweck, and<br />

Werner Wegscheider — Institut für Experimentelle und Angewandte<br />

Physik, Universität Regensburg, Universitätsstr. 31, D-93053<br />

Regensburg, Germany<br />

Phase separation and demixing processes are well known phenomena<br />

in the system of group-III nitrides. Especially the clustering of indium<br />

in InGaN quantumwells is investigated thoroughly as it may be the key<br />

for lasing. In contrast to that, not much is yet known about large scale<br />

selforganization in the AlGaN ternary system. Few groups have reported<br />

formation of selforganized superlattices in this system, but no further<br />

studies were published 1 .<br />

To clarify this process, we have grown a series of AlGaN structures<br />

on Si(111) by metal organic chemical vapor phase epitaxy (MOVPE).<br />

The samples were characterized using high resolution xray diffraction<br />

(HRXRD), high resolution transmission electron microscopy (HRTEM)<br />

as well as photoluminescence measurements.<br />

The formation of superlattices with periods of about 3.1nm has been<br />

observed within a wide range of growth parameters. The results of these<br />

measurements are presented and a model for the underlying process is<br />

proposed.<br />

1 B. Neubauer, A. Rosenauer, D. Gerthsen, O. Ambacher and M. Stutzmann,<br />

Appl. Phys. Lett. 73, 930 (1998)<br />

HL 27.7 Mi 16:45 H15<br />

Chemically ordered AlxGa1−xN alloys: Spontaneous formation<br />

of natural quantum wells — •L. Lymperakis 1 , M. Albrecht 2 ,<br />

J. Neugebauer 1,3 , J.E. Northrup 4 , L. Kirste 5 , and H.P.<br />

Strunk 2 — 1 Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft, Berlin<br />

— 2 Universität Erlangen-Nürnberg, Lehrstuhl Mikrocharakterisierung<br />

— 3 Universität Paderborn — 4 Palo Alto Research Center, CA 94304,<br />

U.S.A. — 5 Freiburger Materialforschungszentrum, Universität Freiburg<br />

We have combined density-functional theory (DFT) calculations with<br />

x-ray and transmission electron microscopy experiments to study formation,<br />

stability, and structural and optical properties of ordered<br />

AlxGa1−xN. Our calculations show that ordered structures are thermodynamically<br />

unstable against disorder. We have therefore explored whether<br />

kinetics may be used to achieve ordering. Based on our calculations we<br />

find that adatom kinetics at surface steps can induce ordering. An analysis<br />

of the computed electronic structure showed that ordering significantly<br />

affects the electronic structure: it causes a redshift in the band<br />

gap by 100 meV. The theoretical predictions have been confirmed by<br />

the experimental studies. Under appropriate growth conditions an alternating<br />

1 × 1 AIN/GaN superlattice forms. While transmission electron<br />

microscopy shows the presence of ordered domains, annealing under high<br />

pressure and high temperature leads to disappearance of the superlattice,<br />

accompanied by a blue shift of the luminescence up to 140 meV.<br />

HL 27.8 Mi 17:00 H15<br />

Beobachtung eines Be-korrelierten Donator-Zustandes in GaN<br />

mittels Radiotracer-Spektroskopie — •F. Albrecht 1 , J. Grillenberger<br />

2 , U. Reislöhner 1 , G. Pasold 1 , M. Dietrich 3 , W. Witthuhn<br />

1 und die ISOLDE Collaboration 4 — 1 Friedrich-Schiller-<br />

Universität Jena, Institut für Festkörperphysik, Max-Wien-Platz 1, 07743<br />

Jena — 2 Fysisk institutt, Postboks 1048 - Blindern, 0316 Oslo, Norwegen<br />

— 3 Technische Physik, Universität des Saarlandes, 66041 Saarbrücken —<br />

4 CERN, CH-1211, Geneva 23, Schweiz<br />

Mit Hilfe der in dieser Studie erstmalig angewendeten Radiotracer<br />

Thermal Admittance Spectroscopy (TAS) wurde ein Be-korrelierter<br />

Donator-Zustand in der Bandlücke von GaN identifiziert. Hierfür wurde<br />

das radioaktive Isotop 7 Be sowohl in p- als auch in n-leitende GaN-<br />

Schichten implantiert. Wiederholt an n-Typ GaN aufgenommene TAS-<br />

Spektren zeigen die Existenz eines Donator-Zustandes bei 390 meV oberhalb<br />

der Valenzbandkante, dessen Konzentration entsprechend der Elementumwandlung<br />

von 7 Be zu 7 Li (T1 /2 = 53.3 d) abnimmt. Daraus folgt<br />

ein direkter Zusammenhang zwischen diesem Donator-Zustand und Be.<br />

Die Implantation vergleichbarer Dosen des Isotops 7 Be in p-Typ GaN<br />

hingegen führte zu einer signifikanten elektrischen Aktivierung des zum<br />

Zwecke der p-Dotierung eingebrachten Mg-Akzeptors.<br />

HL 27.9 Mi 17:15 H15<br />

Oberflächenbedeckung und Lumineszenzverhalten von Nitrid-<br />

Quantenfilmen — •A. Buchholz, D. Fuhrmann, U. Rossow und<br />

A. Hangleiter — Institut für Technische Physik, Technische Universität<br />

Braunschweig, Mendelssohnstr. 2, 38106 Braunschweig<br />

Das Zusammenwirken von spontanem und piezoelektrischem Feld<br />

hat einen großen Einfluss auf die optischen Eigenschaften von<br />

Gruppe-III-Nitriden. Oberflächenbelegungen können dabei abschirmend<br />

auf das spontane Feld wirken. Bei früheren Kathodolumineszenz<br />

(KL)-Messungen an InGaN/GaN-Quantenfilmen zeigte sich eine<br />

Blauverschiebung der Lumineszenzlinie, die auf elektronenstimulierte<br />

Desorption schwach gebundener Spezies von der Oberfläche zurückgeführt<br />

wurde. Systematische Untersuchungen erfolgen nun in einem<br />

Ultrahochvakuum(UHV)-System, in dem die Proben mittels temperaturabhängiger<br />

KL charakterisiert werden, wobei die Restgaszusammensetzung<br />

durch ein Quadrupolmassenspektrometer bestimmt wird. Eine<br />

Vielzahl der Proben (GaN/InGaN- und AlGaN/GaN-Kompositionen)<br />

zeigte in der KL eine von der Anregungsleistung abhängige Dynamik<br />

der Intensitätsentwicklung. Ein Ausheizen der Proben im UHV nimmt<br />

dabei Einfluss auf diesen Effekt; die gleichzeitig beobachtete Zunahme<br />

des Wasserdampfanteils in der Kammer, begleitet von der Tatsache, dass<br />

sich die Proben an Atmosphäre ” regenerieren“ lassen, lässt vermuten,<br />

dass die Entwicklung durch ein ” Reinigen“ der Oberfläche, vornehmlich<br />

von Wasser, verursacht wird. Das definierte Ausheizen erlaubt dabei die<br />

Präparation unterschiedlich stark belegter Oberflächen, die im Weiteren<br />

auch mittels Photolumineszenz (PL) untersucht werden sollen.

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