10.12.2012 Aufrufe

Allgemeiner Kurskatalog WiSe 2012/13 - Fakultät für Maschinenbau ...

Allgemeiner Kurskatalog WiSe 2012/13 - Fakultät für Maschinenbau ...

Allgemeiner Kurskatalog WiSe 2012/13 - Fakultät für Maschinenbau ...

MEHR ANZEIGEN
WENIGER ANZEIGEN

Erfolgreiche ePaper selbst erstellen

Machen Sie aus Ihren PDF Publikationen ein blätterbares Flipbook mit unserer einzigartigen Google optimierten e-Paper Software.

Stand: 24.10.<strong>2012</strong><br />

Grundlagen und Prozesse <strong>für</strong> Laseranwendungen<br />

Fundamentals on Processes for Laser applications<br />

Dozent: Overmeyer, Horn E-Mail:<br />

a.horn@lzh.de<br />

Ziel des Kurses:<br />

Der Kurs vermittelt grundlegende Prozesse der Laseranwendungen, wie sie in der aktuellen Produktion<br />

vorzufinden sind. Hierbei werden physikalische und chemische Prozesse analysiert, welche durch<br />

Laserstrahlung induziert werden und parallel Methoden zur Diagnose abgeleitet. Ausgehend von<br />

klassischen Prozessen wie Heizen, Schmelzen bis Verdampfen werden auch „exotische“ Prozesse wie<br />

Ionisation und Plasmabildung untersucht.<br />

Inhalt:<br />

- Strahlung, Laserstrahlung<br />

- Strahlung-Materie-Wechselwirkung<br />

- Reflexion, Transmission, Absorption<br />

- Temperatur & Wärmeleitung<br />

- Heizen - Schmelzen<br />

- Verdampfen - Abtragen<br />

- Plasma<br />

- Nichtlineare Prozesse<br />

- Prozessüberwachung und -regelung<br />

- Neuartige Anwendungen der Lasertechnik<br />

Empfohlene Vorkenntnisse:<br />

Bachelor <strong>Maschinenbau</strong> oder Physik<br />

Voraussetzungen:<br />

Grundlagen Physik, Optik und Lasertechnik<br />

Literaturempfehlung:<br />

Empfehlung erfolgt in der Vorlesung; Vorlesungsskript<br />

Besonderheiten:<br />

---<br />

Präsenzstudienzeit: 32h<br />

Selbststudienzeit: 88h<br />

Empfohlen ab dem: 1. Semester<br />

Art der Prüfung: mündlich<br />

V2/Ü1<br />

ECTS-LP (alt LP): 4 WS<br />

Laser Zentrum Hannover e.V.<br />

Seite 125

Hurra! Ihre Datei wurde hochgeladen und ist bereit für die Veröffentlichung.

Erfolgreich gespeichert!

Leider ist etwas schief gelaufen!