Allgemeiner Kurskatalog WiSe 2012/13 - Fakultät für Maschinenbau ...

Stand: 24.10.2012
Beschichtungstechnik und Lithografie
Deposition Technology and Lithography
Dozent: Rissing E-Mail:
chen@impt.uni~
Ziel des Kurses:
Ziel der Vorlesung ist die Vermittlung eines physikalischen und chemischen
Grundverständnisses der in der Mikro- und Nanotechnologie zum Einsatz kommenden Prozesse sowie
deren mathematische Beschreibung. Dargestellt werden physikalische (PVD) und chemische (CVD)
Wachstumsprozesse dünner Schichten, Analysetechniken sowie optische Grundlagen der
Fotolithografie.
Inhalt:
- Grundlagen der Materialwissenschaften: Kristallstruktur und Wachstum dünner Schichten
- Vakuumtechnologie: Viskoser und molekularer Gastransport im technischen Vakuum
- Atomarer Filmniederschlag: Thermodynamische Grundlagen der physikalischen (PVD) und
chemischen (CVD) Deposition von Filmen aus der Dampfphase
- Charakterisierung dünner Schichten
- Lithografie: Optische Grundlagen, Fresnelbeugung bei Kontakt- und Proximitybelichtung,
Fraunhoferbeugung bei Projektionsbelichtung, Chemie von Fotolacken.
Empfohlene Vorkenntnisse:
Vorlesung Mikro- und Nanotechnologie
Voraussetzungen:
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Literaturempfehlung:
Vorlesungsskript; Ohring: The Material Science of Thin Films, Academic Press, San Diego 1992;
Thompson et al.: Introduction into Micro-lithography, 2nd Edition, American Chemical Society,
Washington DC 1994
Besonderheiten:
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Präsenzstudienzeit: 32h
Selbststudienzeit: 88h
Empfohlen ab dem: 7. Semester
Art der Prüfung: mündlich
V2/Ü1
ECTS-LP (alt LP): 4 (6 LP) WS
Institut für Mikroproduktionstechnik
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