- Seite 4 und 5:
Zum Geleit4. Ausbildung von Nachwuc
- Seite 6 und 7:
NANONET-StyriaNANONET-Styria -Die s
- Seite 8 und 9:
Einführung in die NanoanalytikEine
- Seite 10 und 11:
Einführung in die NanoanalytikOrts
- Seite 12 und 13:
XHandbuch der Nanoanalytik Steierma
- Seite 14 und 15:
XIIHandbuch der Nanoanalytik Steier
- Seite 16 und 17:
InhaltsverzeichnisM26: Präparation
- Seite 18 und 19:
InhaltsverzeichnisL26: Morphologie-
- Seite 21:
Methoden undInstrumentierungHandbuc
- Seite 24 und 25:
M1: 3D-Atomsonde (3D APFIM)Notwendi
- Seite 26 und 27:
M2: Analytische Elektronenmikroskop
- Seite 28:
M3: Auger-Elektronenspektroskopie (
- Seite 31 und 32:
M4: Dynamische Lichtstreuung (DLS)P
- Seite 33 und 34:
M5: Elektrochemische MethodenDie ro
- Seite 35 und 36:
M6: Elektrolytische PräparationDie
- Seite 38 und 39:
MethodenM8: Elektronenenergieverlus
- Seite 40 und 41:
M8: Elektronenenergieverlustspektro
- Seite 42 und 43:
M9: EllipsometriePrinzip des Verfah
- Seite 44:
M9: Ellipsometrieführen können, s
- Seite 48 und 49:
MethodenM11: Energiefilterungs-Tran
- Seite 50 und 51:
M11: Energiefilterungs-Transmission
- Seite 52 und 53:
M12: EPR-Spektroskopie (ESR-Spektro
- Seite 54 und 55:
MethodenM13: Focused Ion Beam (FIB)
- Seite 56 und 57:
M13: Focused Ion Beam (FIB)Typische
- Seite 58 und 59:
M14: HECUS System-3CharakteristikaH
- Seite 60 und 61:
M15: Hoch-/Tieftemperatur-Pulverdif
- Seite 62 und 63:
MethodenM16: Hochauflösende SQUID-
- Seite 64 und 65:
MethodenM17: Hochauflösungs-TEM un
- Seite 66 und 67:
M17: Hochauflösungs-TEM und Elektr
- Seite 68 und 69:
M18: Hochverformung - Nanokristalli
- Seite 70 und 71:
MethodenM19: Leitfähigkeits-Raster
- Seite 72 und 73:
M19: Leitfähigkeits-Rasterkraftmik
- Seite 74 und 75:
M20: Nanoindentierungeiner Probe. G
- Seite 76 und 77:
M21: Negativkontrastierung als Diag
- Seite 78 und 79:
M22: NMR-CIDNPFür die NMR- und CID
- Seite 80 und 81:
M23: Oberflächenenergie von Beschi
- Seite 82 und 83:
M24: Photoemissions-Elektronenmikro
- Seite 84 und 85:
M25: PositronenannihilationMit den
- Seite 86 und 87:
M26: Präparationstechniken in der
- Seite 88 und 89:
M26: Präparationstechniken in der
- Seite 90 und 91:
M26: Präparationstechniken in der
- Seite 92 und 93:
M27: Rasterelektronenmikroskopie (R
- Seite 94 und 95:
M28: Rasterkraftmikroskopie (AFM)Du
- Seite 96:
M29: Rasterkraftmikroskopie (AFM) -
- Seite 99 und 100:
MethodenM30: Rastertransmissionsele
- Seite 101 und 102:
M30: Rastertransmissionselektronenm
- Seite 103 und 104:
M31: Rastertunnel mikroskopie (RTM
- Seite 105 und 106:
M32: Röntgen- und Ultraviolett-Pho
- Seite 107 und 108:
M33: Röntgenbeugung - Linienprofil
- Seite 109 und 110: M34: Röntgenbeugung - Polfigurtech
- Seite 111 und 112: M35: Röntgenkleinwinkel- und -weit
- Seite 113 und 114: M35: Röntgenkleinwinkel- und -weit
- Seite 115 und 116: M36: Röntgenkleinwinkelstreuung (S
- Seite 117 und 118: MethodenM37: Röntgenreflektivität
- Seite 119 und 120: M37: Röntgenreflektivität (XRR)de
- Seite 121 und 122: M38: SAXSess - Das Instrument für
- Seite 123 und 124: M39: Schwingungsspektroskopie (IR u
- Seite 125 und 126: MethodenM41: Thermische Desorptions
- Seite 127 und 128: Methodenstress [MPa]M42: Thermo-mec
- Seite 129 und 130: MethodenM43: Tribologische Untersuc
- Seite 131 und 132: M43: Tribologische UntersuchungenGr
- Seite 133 und 134: M44: Ultramikrotomie in der Materia
- Seite 135 und 136: M44: Ultramikrotomie in der Materia
- Seite 137 und 138: MethodenM45: Zeta-Potenzial-Messung
- Seite 139: M45: Zeta-Potenzial-MessungDie Mess
- Seite 143 und 144: LösungenL1: AES-Querschnitts-Analy
- Seite 145 und 146: LösungenL2: AFM-Untersuchungenzum
- Seite 147 und 148: L2: AFM-Untersuchungen an Pentazen-
- Seite 149 und 150: LösungenL3: Anwendungen der Positr
- Seite 151 und 152: L3: Anwendungen der Positronenannih
- Seite 153: L4: Ausscheidungscharakterisierung
- Seite 156 und 157: L5: Bestimmung der Ge-Konzentration
- Seite 158 und 159: LösungenL7: Charakterisierung von
- Seite 162 und 163: LösungenL9: Der Effekt aromatische
- Seite 164 und 165: L9: Der Effekt aromatischer Quellun
- Seite 166 und 167: L10: Device Modification mittels Fo
- Seite 168 und 169: L11: Eigenspannungs-Charakterisieru
- Seite 170 und 171: LösungenL12: Elektrokinetische Mes
- Seite 172 und 173: L12: Elektrokinetische Messungen (Z
- Seite 174 und 175: L13: Epitaktisches Wachstum von org
- Seite 176 und 177: L14: EPR: Wie kommunizieren Elektro
- Seite 178 und 179: L15: EPR: Photoinitiatoren für die
- Seite 180 und 181: LösungenL16: Fehleranalyse von Pie
- Seite 182 und 183: LösungenL17: FIB in der Mikro- und
- Seite 184 und 185: LösungenL18: Haftfestigkeitsprüfu
- Seite 186 und 187: LösungenL19: Hochtemperatur-Röntg
- Seite 188 und 189: L19: Hochtemperatur-Röntgendiffrak
- Seite 190 und 191: LösungenL21: HT-XRD - Spannungen u
- Seite 192 und 193: L21: HT-XRD - Spannungen und Deform
- Seite 194 und 195: L22: Li-Ionen-Batterien und alkalis
- Seite 196 und 197: LösungenL23: Magnetische Eigenscha
- Seite 198 und 199: LösungenL24: Mechanismus der Wirks
- Seite 200 und 201: LösungenL25: Metallische Schichten
- Seite 202 und 203: LösungenL26: Morphologie-Analyse v
- Seite 204 und 205: LösungenL27: Nanoindentierungsvers
- Seite 206 und 207: LösungenL28: Ortsaufgelöste Rönt
- Seite 208 und 209: LösungenL29: Präparationstechnike
- Seite 210 und 211:
L29: Präparationstechniken in der
- Seite 212 und 213:
L30: Probenpräparation mittels Zwe
- Seite 214 und 215:
LösungenL31: Raman-Spektroskopie i
- Seite 216 und 217:
LösungenL32: Rastertunnelmikroskop
- Seite 218 und 219:
L33: Röntgenkleinwinkelstreuung an
- Seite 220 und 221:
L34: Sekundärionen-Massenspektrosk
- Seite 222 und 223:
L35: Synchrotronstrahlung in der in
- Seite 224 und 225:
L35: Synchrotronstrahlung in der in
- Seite 226 und 227:
L36: Nanostruktur von nichtstöchio
- Seite 228 und 229:
LösungenL37: Tiefenprofilanalyse e
- Seite 230 und 231:
LösungenL38: Ultradünne organisch
- Seite 232 und 233:
L39: Untersuchung eines Defektes in
- Seite 234 und 235:
LösungenL40: Untersuchung moderner
- Seite 236 und 237:
L41: Untersuchung von Reaktionswell
- Seite 238 und 239:
LösungenL43: XPS-Untersuchungen an
- Seite 241:
Institute,Institutionen undFirmenHa
- Seite 244 und 245:
I1: Anton Paar GmbHFirmenstrukturGr
- Seite 246 und 247:
I2: Die österreichische SAXS-Stati
- Seite 248 und 249:
I3: Erich-Schmid-Institut für Mate
- Seite 250 und 251:
InstitutionenI4: FELMI-ZFE, TU Graz
- Seite 252 und 253:
I4: FELMI-ZFE, TU GrazPolymeren (in
- Seite 254 und 255:
I5: HECUS XRS GmbHKontaktHECUS XRS
- Seite 256 und 257:
I6: Institut für Chemie, KFU GrazD
- Seite 258 und 259:
I7: Institut für Chemische Prozess
- Seite 260 und 261:
InstitutionenI8: Institut für Fest
- Seite 262 und 263:
I8: Institut für Festkörperphysik
- Seite 264 und 265:
I9: Institut für Materialphysik, T
- Seite 266 und 267:
I10: Institut für Nanostrukturiert
- Seite 268 und 269:
InstitutionenI11: Institut für Phy
- Seite 270 und 271:
I11: Institut für Physik, Bereich
- Seite 272 und 273:
InstitutionenI12: Institut für Phy
- Seite 274 und 275:
InstitutionenI13: Institut für Phy
- Seite 276 und 277:
I13: Institut für Physikalische un
- Seite 278 und 279:
I14: Laserzentrum Leoben, JRDie Bes
- Seite 280 und 281:
InstitutionenI15: Materials Center
- Seite 282 und 283:
I15: Materials Center Leoben Forsch
- Seite 285 und 286:
K1Amenitsch Heinz, Dr.Institut für
- Seite 287 und 288:
KontakteK11Grampp Günther, O. Univ
- Seite 289 und 290:
KontakteK20Köstler Stefan, Dipl.-I
- Seite 291 und 292:
KontakteK31Motz Christian, Dr.Öste
- Seite 293 und 294:
KontakteK43Schöberl Thomas, Dr.Ös
- Seite 295:
KontakteNetzwerk NanoanalytikSteier
- Seite 298 und 299:
278Handbuch der Nanoanalytik Steier
- Seite 300 und 301:
SchlagwörterSchlagwort Seite Schla
- Seite 302 und 303:
SchlagwörterSchlagwort Seite Schla
- Seite 304 und 305:
SchlagwörterSchlagwort Seite Schla
- Seite 306 und 307:
SchlagwörterSchlagwort Seite Schla
- Seite 308:
AutorenAutor Seite Autor SeiteNNESH
- Seite 311:
Handbuch der Nanoanalytik Steiermar
Change language