Handbuch der Nanoanalytik Steiermark 2005

I10: Institut für Nanostrukturierte Materialien und Photonik, JRMethodenDie hochmoderne Geräteausstattung auf insgesamt300m 2 Laborfläche und ein Reinraum derReinheitsklasse 100 (Klasse 5 gemäß ISO 14644)ermöglichen eine breite Palette von Analysen nachhöchsten industriellen Qualitätsstandards.Analyse & CharakterisierungRastersondentechnikenRöntgen- und Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie(XPS/UPS)Rasterkraftmikroskopie (AFM) undProfilometrieRasterelektronenmikroskopie (REM)Rastertunnelmikroskopie (STM)Optische MethodenSpektroskopische Ellipsometrie (VASE)UV-VIS-NIR-SpektrophotometrieUV-VIS-NIR-FluoreszenzspektrometrieStereo- und Auflicht-/Durchlichtmikroskopiemit PolarisationseinheitOptische SimulationAufbringung & StrukturierungPhotolithographie mit Nasschemiebank,MaskenbelichterElektronenstrahllithographieReaktives Ionenätzen (Halogengase,Inertgase, Sauerstoff) für organischeund anorganische MaterialienBeschichtungsanlagen im Hochvakuum- undUltrahochvakuumbereich für organische undanorganische Materialien (thermisch, Elektronenstrahlverdampfer,RF-Sputtern)Spincoating mit AutodispenssystemNanoimprint-Lithographie (Hot Embossingund UV-Imprinting)3D-Lasermikrostrukturierung photosensitiverPolymermaterialien auf Basis von ZweiphotonenabsorptionElektrische Methoden und GeräteSpitzenmessplatz mit 2 ParameteranalysatorenInduktivitäts-, Kapazitäts- und WiderstandsmessungenStrom-Spannungsmessungen mit Picoamperemeter,ElektrometerPhotostrommessanlage mit Lock-in-VerstärkerMessung raumladungsbegrenzter Ströme(SCLC)Werner Rom, Günther LeisingJOANNEUM RESEARCH Forschungsgesellschaft mbHInstitut für Nanostrukturierte Materialien und Photonik246Handbuch der Nanoanalytik Steiermark 2005